- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet
Détention brevets de la classe G03F 7/20
Brevets de cette classe: 21150
Historique des publications depuis 10 ans
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1676
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1798
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1984
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2146
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1984
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1636
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1556
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1336
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899
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605
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| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ASML Netherlands B.V. | 7418 |
3887 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3011 |
1736 |
| Nikon Corporation | 7200 |
1144 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 43064 |
1071 |
| FUJIFILM Corporation | 29489 |
984 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5676 |
498 |
| Applied Materials, Inc. | 18792 |
406 |
| JSR Corporation | 2526 |
401 |
| Canon Inc. | 40216 |
374 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1543 |
354 |
| KLA-Tencor Corporation | 2544 |
349 |
| Gigaphoton Inc. | 1239 |
337 |
| ASML Holding N.V. | 502 |
330 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 147131 |
326 |
| Tokyo Electron Limited | 12825 |
311 |
| KLA Corporation | 1591 |
200 |
| Nissan Chemical Corporation | 2042 |
182 |
| Carl Zeiss SMT AG | 199 |
174 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 41421 |
153 |
| International Business Machines Corporation | 61353 |
132 |
| Autres propriétaires | 7801 |