- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/22 - Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'une longueur d'onde de 100 nm ou moins, p. ex. masques pour rayons X, masques en extrême ultra violet [EUV]Leur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/22
Brevets de cette classe: 610
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 41951 |
160 |
| Applied Materials, Inc. | 18344 |
62 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 143555 |
43 |
| Hoya Corporation | 2733 |
34 |
| ASML Netherlands B.V. | 7293 |
31 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5586 |
23 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 2932 |
21 |
| Agc, Inc. | 4700 |
16 |
| Fine Semitech Corp. | 28 |
10 |
| KLA-Tencor Corporation | 2546 |
10 |
| Intel Corporation | 46664 |
8 |
| KLA Corporation | 1501 |
8 |
| International Business Machines Corporation | 60806 |
7 |
| ASML Holding N.V. | 507 |
7 |
| Lam Research Corporation | 5155 |
7 |
| GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc. | 6436 |
7 |
| FUJIFILM Corporation | 29188 |
6 |
| Kioxia Corporation | 10262 |
6 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 34120 |
5 |
| Corning Incorporated | 10200 |
5 |
| Autres propriétaires | 134 |