- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtementsgalvanoplastiejonction de pièces par électrolyseappareillages à cet effet
- C25D 7/12 - Semi-conducteurs
Détention brevets de la classe C25D 7/12
Brevets de cette classe: 1083
Historique des publications depuis 10 ans
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118
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110
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104
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125
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76
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80
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92
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99
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78
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45
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| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Lam Research Corporation | 5213 |
108 |
| Ebara Corporation | 2163 |
89 |
| Applied Materials, Inc. | 18501 |
88 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 42389 |
55 |
| Novellus Systems, Inc. | 484 |
53 |
| BASF SE | 20892 |
45 |
| Atotech Deutschland GmbH | 559 |
32 |
| MacDermid Enthone Inc. | 238 |
31 |
| ACM Research (Shanghai) Inc. | 312 |
25 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 427 |
22 |
| Tokyo Electron Limited | 12620 |
21 |
| International Business Machines Corporation | 61185 |
17 |
| Alchimer | 51 |
16 |
| Texas Instruments Incorporated | 19494 |
13 |
| Centre de Recherche Public - Gabriel Lippmann | 22 |
12 |
| Aveni | 20 |
10 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 145025 |
9 |
| LG Innotek Co., Ltd. | 7590 |
8 |
| Mitsubishi Materials Corporation | 2437 |
8 |
| Asmpt NEXX, Inc. | 31 |
8 |
| Autres propriétaires | 413 |