- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtementsgalvanoplastiejonction de pièces par électrolyseappareillages à cet effet
- C25D 5/02 - Dépôt sur des surfaces déterminées
Détention brevets de la classe C25D 5/02
Brevets de cette classe: 1355
Historique des publications depuis 10 ans
|
117
|
114
|
112
|
94
|
89
|
82
|
86
|
81
|
65
|
30
|
| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Lam Research Corporation | 5651 |
54 |
| Ebara Corporation | 2335 |
29 |
| Applied Materials, Inc. | 20438 |
28 |
| Toyota Motor Corporation | 35857 |
26 |
| MacDermid Enthone Inc. | 252 |
26 |
| International Business Machines Corporation | 62672 |
21 |
| Atotech Deutschland GmbH | 523 |
19 |
| Sumitomo Electric Industries, Ltd. | 16396 |
17 |
| Novellus Systems, Inc. | 451 |
17 |
| BASF SE | 21318 |
16 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48490 |
13 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 430 |
12 |
| Apple Inc. | 58936 |
11 |
| Tokyo Electron Limited | 13843 |
11 |
| Ibiden Co., Ltd. | 1670 |
11 |
| Samsung Electro-mechanics Co., Ltd. | 6103 |
10 |
| LG Innotek Co., Ltd. | 8495 |
9 |
| Dowa Metaltech Co., Ltd. | 174 |
9 |
| Lacks Enterprises, Inc. | 84 |
9 |
| Nivarox-FAR S.A. | 287 |
9 |
| Autres propriétaires | 998 |