- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtementsgalvanoplastiejonction de pièces par électrolyseappareillages à cet effet
- C25D 3/02 - Dépôt électrochimiqueBains utilisés à partir de solutions
Détention brevets de la classe C25D 3/02
Brevets de cette classe: 202
Historique des publications depuis 10 ans
|
18
|
15
|
10
|
11
|
14
|
3
|
16
|
15
|
14
|
0
|
| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| BASF SE | 21131 |
13 |
| MacDermid Enthone Inc. | 240 |
9 |
| Duksan High Metal Co., Ltd. | 60 |
5 |
| Ebara Corporation | 2262 |
4 |
| Ymt Co., Ltd. | 33 |
4 |
| Rtx Corporation | 9785 |
4 |
| Huawei Technologies Co., Ltd. | 118879 |
3 |
| ACM Research (Shanghai) Inc. | 386 |
3 |
| Fabric8Labs, Inc. | 74 |
3 |
| GRU Energy Lab Inc. | 17 |
3 |
| Ningbo Anji Microelectronics Technology Co., Ltd | 7 |
3 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 423 |
3 |
| Baker Hughes Incorporated | 5088 |
2 |
| The Regents of the University of California | 20447 |
2 |
| Applied Materials, Inc. | 19849 |
2 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 46813 |
2 |
| Asia Electronic Material Co., Ltd. | 9 |
2 |
| Atotech Deutschland GmbH | 539 |
2 |
| Carbodeon Ltd Oy | 27 |
2 |
| College de France | 128 |
2 |
| Autres propriétaires | 129 |