- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C23C - Revêtement de matériaux métalliquesrevêtement de matériaux avec des matériaux métalliquestraitement de surface de matériaux métalliques par diffusion dans la surface, par conversion chimique ou substitutionrevêtement par évaporation sous vide, par pulvérisation cathodique, par implantation d'ions ou par dépôt chimique en phase vapeur, en général
- C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire
Détention brevets de la classe C23C 16/48
Brevets de cette classe: 552
Historique des publications depuis 10 ans
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2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Applied Materials, Inc. | 18565 |
78 |
Tokyo Electron Limited | 12681 |
24 |
ASM IP Holding B.V. | 2067 |
17 |
Quantum Elements Development, Inc. | 19 |
14 |
Free Form Fibers, LLC | 39 |
12 |
Versum Materials US, LLC | 641 |
11 |
Kokusai Electric Corporation | 2009 |
11 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 145630 |
10 |
ASML Netherlands B.V. | 7371 |
10 |
FEI Company | 944 |
9 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 42549 |
8 |
Utica Leaseco, LLC Assignee | 103 |
8 |
Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | 1231 |
7 |
Lam Research Corporation | 5222 |
7 |
Dynetics, Inc. | 13 |
6 |
International Business Machines Corporation | 61198 |
5 |
The Aerospace Corporation | 425 |
5 |
Aixtron SE | 316 |
5 |
National University of Singapore | 2443 |
5 |
Screen Holdings Co., Ltd. | 2804 |
5 |
Autres propriétaires | 295 |