- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/62 - Pellicules, p. ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de supportLeur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/62
Brevets de cette classe: 641
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ASML Netherlands B.V. | 7493 |
161 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 44095 |
89 |
| Mitsui Chemicals, Inc. | 3235 |
53 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5715 |
48 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 148077 |
38 |
| Fine Semitech Corp. | 28 |
13 |
| ASML Holding N.V. | 500 |
12 |
| IUCF-HYU (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University) | 1429 |
11 |
| IMEC VZW | 1669 |
10 |
| Korea Electronics Technology Institute | 1669 |
10 |
| NGK Insulators, Ltd. | 5115 |
9 |
| Photronics, Inc. | 43 |
9 |
| Applied Materials, Inc. | 19005 |
8 |
| Lintec of America, Inc. | 157 |
8 |
| Research & Business Foundation Sungkyunkwan University | 1987 |
8 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3038 |
7 |
| Air Water Inc. | 148 |
7 |
| Lintec Corporation | 2001 |
7 |
| International Business Machines Corporation | 61616 |
6 |
| GrapheneLab.Co.,Ltd. | 13 |
6 |
| Autres propriétaires | 121 |