- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/00 - Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. masques, photomasques ou réticulesMasques vierges ou pellicules à cet effetRéceptacles spécialement adaptés à ces originauxLeur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/00
Brevets de cette classe: 1327
Historique des publications depuis 10 ans
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2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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ASML Netherlands B.V. | 7482 |
86 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 43628 |
84 |
Hoya Corporation | 2754 |
59 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5695 |
57 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 41668 |
47 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 147787 |
42 |
Samsung Display Co., Ltd. | 35374 |
32 |
Micron Technology, Inc. | 26235 |
32 |
Kioxia Corporation | 10445 |
26 |
Synopsys, Inc. | 2773 |
21 |
Carl Zeiss SMS GmbH | 49 |
21 |
Carl Zeiss SMT GmbH | 3026 |
20 |
Nikon Corporation | 7271 |
18 |
GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc. | 6413 |
18 |
Texas Instruments Incorporated | 19462 |
17 |
LG Chem, Ltd. | 17676 |
16 |
FUJIFILM Corporation | 29696 |
15 |
United Microelectronics Corp. | 4251 |
15 |
Beijing BOE Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 3891 |
15 |
Applied Materials, Inc. | 18932 |
14 |
Autres propriétaires | 672 |