- Sections
- H - Électricité
- H05H - Technique du plasma production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutronsproduction ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 1/00 - Production du plasmaMise en œuvre du plasma
Détention brevets de la classe H05H 1/00
Brevets de cette classe: 648
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tokyo Electron Limited | 13008 |
43 |
| General Fusion Inc. | 77 |
20 |
| Applied Materials, Inc. | 19005 |
18 |
| Lam Research Corporation | 5326 |
14 |
| Fuji Corporation | 3423 |
11 |
| Centre National de La Recherche Scientifique | 10595 |
7 |
| Advanced Energy Industries, Inc. | 485 |
6 |
| Brilliant Light Power, Inc. | 65 |
6 |
| Panasonic Corporation | 20018 |
5 |
| Hamamatsu Photonics K.K. | 4462 |
5 |
| Gigaphoton Inc. | 1249 |
5 |
| MKS Instruments, Inc. | 642 |
5 |
| Ruhr-Universität Bochum | 89 |
5 |
| Sakura Color Products Corporation | 251 |
5 |
| Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation | 986 |
5 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 148077 |
4 |
| Kyocera Corporation | 13997 |
4 |
| ASML Netherlands B.V. | 7493 |
4 |
| Shimadzu Corporation | 6202 |
4 |
| Beijing NMC Co., Ltd. | 113 |
4 |
| Autres propriétaires | 468 |