- Sections
- H - Électricité
- H05H - Technique du plasma production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutronsproduction ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 1/00 - Production du plasmaMise en œuvre du plasma
Détention brevets de la classe H05H 1/00
Brevets de cette classe: 649
Historique des publications depuis 10 ans
|
24
|
38
|
36
|
40
|
54
|
40
|
26
|
46
|
23
|
15
|
| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Tokyo Electron Limited | 13854 |
46 |
| Applied Materials, Inc. | 20459 |
20 |
| General Fusion Inc. | 81 |
20 |
| Lam Research Corporation | 5652 |
13 |
| Fuji Corporation | 3664 |
11 |
| Centre National de La Recherche Scientifique | 11055 |
7 |
| Advanced Energy Industries, Inc. | 479 |
6 |
| Panasonic Corporation | 18896 |
5 |
| Hamamatsu Photonics K.K. | 4704 |
5 |
| Brilliant Light Power, Inc. | 70 |
5 |
| Gigaphoton Inc. | 1328 |
5 |
| MKS Instruments, Inc. | 548 |
5 |
| Ruhr-Universität Bochum | 93 |
5 |
| Sakura Color Products Corporation | 236 |
5 |
| Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation | 967 |
5 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 158337 |
4 |
| Kyocera Corporation | 14402 |
4 |
| Shimadzu Corporation | 6363 |
4 |
| Beijing NMC Co., Ltd. | 109 |
4 |
| IUCF-HYU (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University) | 1671 |
4 |
| Autres propriétaires | 466 |