- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/42 - Élimination des réserves ou agents à cet effet
Détention brevets de la classe G03F 7/42
Brevets de cette classe: 1006
Historique des publications depuis 10 ans
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| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tokyo Electron Limited | 12825 |
55 |
| FUJIFILM Corporation | 29489 |
51 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 43064 |
40 |
| Versum Materials US, LLC | 648 |
33 |
| Anji Microelectronics (Shanghai) Co., Ltd. | 160 |
32 |
| Screen Holdings Co., Ltd. | 2844 |
29 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1543 |
27 |
| BASF SE | 20967 |
20 |
| Merck Patent GmbH | 5814 |
20 |
| Nissan Chemical Corporation | 2042 |
19 |
| Entegris, Inc. | 1885 |
18 |
| DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1357 |
17 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3474 |
17 |
| Applied Materials, Inc. | 18792 |
16 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 31696 |
16 |
| Dow Global Technologies LLC | 10386 |
16 |
| LG Chem, Ltd. | 17636 |
15 |
| Lam Research Corporation | 5292 |
15 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 41421 |
14 |
| FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 332 |
12 |
| Autres propriétaires | 524 |