- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p. ex. préchauffage
Détention brevets de la classe G03F 7/38
Brevets de cette classe: 1352
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5663 |
183 |
| FUJIFILM Corporation | 29424 |
127 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 42863 |
117 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9049 |
112 |
| Tokyo Electron Limited | 12751 |
78 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1540 |
71 |
| JSR Corporation | 2527 |
70 |
| Applied Materials, Inc. | 18706 |
46 |
| Merck Patent GmbH | 5818 |
27 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1716 |
26 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 429 |
25 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 146534 |
24 |
| International Business Machines Corporation | 61287 |
18 |
| Lam Research Corporation | 5259 |
18 |
| Carbon, Inc. | 398 |
17 |
| Central Glass Company, Limited | 1265 |
14 |
| Inpria Corporation | 122 |
14 |
| Nissan Chemical Corporation | 2028 |
13 |
| Osaka University | 3377 |
11 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3466 |
10 |
| Autres propriétaires | 331 |