- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/76 - Création des motifs d'un masque par imagerie
Détention brevets de la classe G03F 1/76
Brevets de cette classe: 192
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 42636 |
39 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5651 |
13 |
| Applied Materials, Inc. | 18589 |
8 |
| Lam Research Corporation | 5225 |
8 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 41047 |
8 |
| FUJIFILM Corporation | 29350 |
7 |
| Kioxia Corporation | 10289 |
7 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 145864 |
6 |
| Google LLC | 42135 |
5 |
| Texas Instruments Incorporated | 19468 |
4 |
| Hoya Corporation | 2746 |
4 |
| ASML Netherlands B.V. | 7381 |
3 |
| United Microelectronics Corp. | 4264 |
3 |
| Synopsys, Inc. | 2779 |
3 |
| Tsinghua University | 5919 |
3 |
| Hefei BOE Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 1365 |
3 |
| Mycronic AB | 155 |
3 |
| Beijing Vfortune New Energy Power Technology Development Co., Ltd. | 21 |
3 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 34641 |
2 |
| LG Chem, Ltd. | 17620 |
2 |
| Autres propriétaires | 58 |