- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/76 - Création des motifs d'un masque par imagerie
Détention brevets de la classe G03F 1/76
Brevets de cette classe: 201
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 47734 |
44 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5997 |
13 |
| Applied Materials, Inc. | 20145 |
10 |
| Lam Research Corporation | 5560 |
8 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 43343 |
8 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 155224 |
7 |
| FUJIFILM Corporation | 30327 |
7 |
| Kioxia Corporation | 10727 |
7 |
| Hoya Corporation | 2734 |
5 |
| Google LLC | 44062 |
5 |
| Texas Instruments Incorporated | 19636 |
4 |
| ASML Netherlands B.V. | 7785 |
4 |
| United Microelectronics Corp. | 4463 |
3 |
| Synopsys, Inc. | 2729 |
3 |
| Tsinghua University | 6128 |
3 |
| Hefei BOE Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 1393 |
3 |
| Mycronic AB | 167 |
3 |
| Beijing Vfortune New Energy Power Technology Development Co., Ltd. | 26 |
3 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 38092 |
2 |
| LG Chem, Ltd. | 17883 |
2 |
| Autres propriétaires | 57 |