- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtementsgalvanoplastiejonction de pièces par électrolyseappareillages à cet effet
- C25D 21/14 - Addition commandée des composants de l'électrolyte
Détention brevets de la classe C25D 21/14
Brevets de cette classe: 200
Historique des publications depuis 10 ans
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19
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10
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8
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20
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22
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20
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8
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| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Lam Research Corporation | 5217 |
22 |
| Ebara Corporation | 2165 |
18 |
| Novellus Systems, Inc. | 484 |
15 |
| Applied Materials, Inc. | 18530 |
12 |
| Mitsubishi Materials Corporation | 2439 |
10 |
| International Business Machines Corporation | 61207 |
7 |
| Atotech Deutschland GmbH | 558 |
4 |
| Toyota Motor Corporation | 31819 |
3 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 42461 |
3 |
| Siemens VAI Metals Technologies SAS | 64 |
3 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 40912 |
3 |
| Fuji Shoji Co., Ltd. | 68 |
3 |
| Jcu Corporation | 101 |
3 |
| Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. | 282 |
3 |
| Fabric8Labs, Inc. | 53 |
3 |
| KLA Corporation | 1532 |
3 |
| Atotech Deutschland GmbH & Co. KG | 377 |
3 |
| Asmpt NEXX, Inc. | 31 |
3 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 145416 |
2 |
| Auckland UniServices Limited | 496 |
2 |
| Autres propriétaires | 75 |