- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C23C - Revêtement de matériaux métalliquesrevêtement de matériaux avec des matériaux métalliquestraitement de surface de matériaux métalliques par diffusion dans la surface, par conversion chimique ou substitutionrevêtement par évaporation sous vide, par pulvérisation cathodique, par implantation d'ions ou par dépôt chimique en phase vapeur, en général
- C23C 16/26 - Dépôt uniquement de carbone
Détention brevets de la classe C23C 16/26
Brevets de cette classe: 1657
Historique des publications depuis 10 ans
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2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Applied Materials, Inc. | 18759 |
112 |
Tokyo Electron Limited | 12795 |
81 |
Lam Research Corporation | 5282 |
51 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 147003 |
33 |
Tsinghua University | 5938 |
23 |
Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | 4029 |
22 |
ASM IP Holding B.V. | 2092 |
22 |
Paragraf Limited | 79 |
20 |
Aixtron SE | 320 |
19 |
Honda Motor Co., Ltd. | 25335 |
16 |
Safran Ceramics | 410 |
16 |
National University of Singapore | 2454 |
15 |
Centre National de La Recherche Scientifique | 10465 |
14 |
Jiangsu Favored Nanotechnology Co., LTD | 162 |
14 |
Goodrich Corporation | 2134 |
13 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 43015 |
12 |
The Regents of the University of California | 19989 |
11 |
Commissariat à l'énergie atomique et aux energies alternatives | 10931 |
11 |
Federal-Mogul Burscheid GmbH | 283 |
11 |
LG Chem, Ltd. | 17641 |
10 |
Autres propriétaires | 1131 |