- Sections
- H - Électricité
- H05H - Technique du plasma production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutronsproduction ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 1/46 - Production du plasma utilisant des champs électromagnétiques appliqués, p. ex. de l'énergie à haute fréquence ou sous forme de micro-ondes
Détention brevets de la classe H05H 1/46
Brevets de cette classe: 2873
Historique des publications depuis 10 ans
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| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tokyo Electron Limited | 12599 |
655 |
| Applied Materials, Inc. | 18475 |
198 |
| Lam Research Corporation | 5217 |
104 |
| Nissin Electric Co., Ltd. | 242 |
71 |
| ULVAC, Inc. | 1381 |
46 |
| Tohoku University | 2766 |
41 |
| Hitachi High-Tech Corporation | 5264 |
34 |
| Kokusai Electric Corporation | 1973 |
32 |
| Advanced Energy Industries, Inc. | 468 |
30 |
| Canon Anelva Corporation | 686 |
30 |
| MKS Instruments, Inc. | 667 |
29 |
| Kyosan Electric Mfg. Co., Ltd. | 172 |
28 |
| Hitachi Kokusai Electric Inc. | 881 |
26 |
| AES Global Holdings, Pte. Ltd. | 342 |
25 |
| National University Corporation Nagoya University | 862 |
22 |
| Sharp Kabushiki Kaisha | 18788 |
20 |
| Plasmology4, Inc. | 47 |
18 |
| Shimadzu Corporation | 6150 |
16 |
| Daihen Corporation | 459 |
16 |
| EMD Corporation | 26 |
16 |
| Autres propriétaires | 1416 |