• Sections
  • H - Électricité
  • H01L - Dispositifs à semi-conducteurs non couverts par la classe
  • H01L 21/225 - Diffusion des impuretés, p. ex. des matériaux de dopage, des matériaux pour électrodes, à l'intérieur ou hors du corps semi-conducteur, ou entre les régions semi-conductricesRedistribution des impuretés, p. ex. sans introduction ou sans élimination de matériau dopant supplémentaire en utilisant la diffusion dans ou hors d'un solide, à partir d'une ou en phase solide, p. ex. une couche d'oxyde dopée

Détention brevets de la classe H01L 21/225

Brevets de cette classe: 1529

Historique des publications depuis 10 ans

214
230
206
179
158
111
76
66
75
35
2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023 2024 2025

Propriétaires principaux

Proprétaire
Total
Cette classe
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.
42863
161
International Business Machines Corporation
61287
126
Texas Instruments Incorporated
19448
60
Fuji Electric Co., Ltd.
5158
51
Infineon Technologies AG
8221
50
Infineon Technologies Austria AG
2152
31
United Microelectronics Corp.
4230
31
Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation
1767
31
Hitachi Chemical Company, Ltd.
2346
30
Applied Materials, Inc.
18706
30
GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc.
6430
28
Samsung Electronics Co., Ltd.
146534
24
Semiconductor Manufacturing International (Beijing) Corporation
1033
24
Intel Corporation
47013
23
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
1540
23
Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences
1383
20
Screen Holdings Co., Ltd.
2831
19
Micron Technology, Inc.
26256
18
Mitsubishi Electric Corporation
46160
18
Toray Industries, Inc.
6951
18
Autres propriétaires 713