- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
Détention brevets de la classe G03F 7/039
Brevets de cette classe: 4419
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 29329 |
1054 |
| JSR Corporation | 2512 |
520 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1546 |
491 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5644 |
482 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9046 |
196 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 42549 |
132 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 426 |
109 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3461 |
102 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 145630 |
66 |
| Merck Patent GmbH | 5828 |
66 |
| Zeon Corporation | 4080 |
59 |
| LG Chem, Ltd. | 17615 |
55 |
| Central Glass Company, Limited | 1265 |
48 |
| International Business Machines Corporation | 61198 |
42 |
| Toray Industries, Inc. | 6935 |
29 |
| Tokyo Electron Limited | 12681 |
27 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1718 |
25 |
| Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | 1493 |
23 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 8230 |
21 |
| Dongjin Semichem Co., Ltd. | 486 |
21 |
| Autres propriétaires | 851 |