- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C09K - Substances pour des applications non prévues ailleursapplications de substances non prévues ailleurs
- C09K 13/10 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage contenant un acide inorganique contenant un composé du bore
Détention brevets de la classe C09K 13/10
Brevets de cette classe: 52
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ASM IP Holding B.V. | 2071 |
9 |
| Entegris, Inc. | 1867 |
5 |
| FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 330 |
5 |
| Soulbrain Co., Ltd. | 251 |
5 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 145864 |
4 |
| Hitachi Chemical Company, Ltd. | 2352 |
2 |
| FUJIFILM Corporation | 29350 |
2 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 42636 |
2 |
| Enf Technology Co., Ltd. | 51 |
2 |
| Avanzare Innovación Tecnológica,; S.L. | 12 |
2 |
| GrapheneLab.Co.,Ltd. | 12 |
2 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 34641 |
1 |
| Toshiba Corporation | 12334 |
1 |
| Applied Materials, Inc. | 18589 |
1 |
| Advanced Technology Materials, Inc. | 193 |
1 |
| Avantor Performance Materials, LLC | 51 |
1 |
| Central Glass Company, Limited | 1263 |
1 |
| Dip Tech Ltd. | 19 |
1 |
| Dongjin Semichem Co., Ltd. | 486 |
1 |
| DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1333 |
1 |
| Autres propriétaires | 3 |