- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C09K - Substances pour des applications non prévues ailleursapplications de substances non prévues ailleurs
- C09K 13/02 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage contenant un hydroxyde d'un métal alcalin
Détention brevets de la classe C09K 13/02
Brevets de cette classe: 112
Historique des publications depuis 10 ans
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| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1339 |
10 |
| Versum Materials US, LLC | 642 |
9 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 42863 |
6 |
| FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 332 |
4 |
| Mitsubishi Paper Mills Limited | 232 |
3 |
| SCHOTT Solar AG | 48 |
3 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 146534 |
2 |
| 3m Innovative Properties Company | 17819 |
2 |
| Merck Patent GmbH | 5818 |
2 |
| FUJIFILM Corporation | 29424 |
2 |
| Texas Instruments Incorporated | 19448 |
2 |
| Tokyo Electron Limited | 12751 |
2 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5663 |
2 |
| Commissariat à l'énergie atomique et aux energies alternatives | 10917 |
2 |
| ASM IP Holding B.V. | 2080 |
2 |
| Atotech Deutschland GmbH | 555 |
2 |
| Entegris, Inc. | 1870 |
2 |
| GP Solar GmbH | 13 |
2 |
| National University of Singapore | 2453 |
2 |
| SCHOTT AG | 1712 |
2 |
| Autres propriétaires | 49 |