- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C01B - Éléments non métalliquesleurs composés
- C01B 32/186 - Préparation par dépôt chimique en phase vapeur [CVD]
Détention brevets de la classe C01B 32/186
Brevets de cette classe: 454
Historique des publications depuis 10 ans
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42
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53
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27
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32
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23
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tokyo Electron Limited | 14026 |
26 |
| Paragraf Limited | 92 |
24 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 159755 |
21 |
| HdC Inc. | 18 |
8 |
| Heiq Materials AG | 78 |
8 |
| Agc, Inc. | 5686 |
8 |
| Commonwealth Scientific and Industrial Research Organisation | 1650 |
7 |
| General Graphene Corp. | 18 |
7 |
| Centre National de La Recherche Scientifique | 11143 |
6 |
| Corning Incorporated | 10560 |
6 |
| Imam Abdulrahman Bin Faisal University | 642 |
6 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 49440 |
5 |
| Massachusetts Institute of Technology | 10324 |
5 |
| National Taiwan University | 1341 |
5 |
| Aixtron SE | 338 |
5 |
| Universite Grenoble Alpes | 788 |
5 |
| Seoul National University R&db Foundation | 4281 |
5 |
| Versarien PLC | 45 |
5 |
| Dickinson Corporation | 21 |
5 |
| California Institute of Technology | 4048 |
4 |
| Autres propriétaires | 283 |