The present invention relates to plasma-resistant glass, an inner chamber-component for a semiconductor manufacturing process, and manufacturing methods therefor, and, specifically, to plasma-resistant glass, an inner chamber-component for a semiconductor manufacturing process, and manufacturing methods therefor, the glass having a low melting point implemented by controlling the amount of plasma-resistant glass ingredients, having a lowered coefficient of thermal expansion so that, when used at a high temperature, damage thereto caused by thermal shock can be prevented, and having improved light transmittance and durability.
C03C 4/20 - Compositions pour verres ayant des propriétés particulières pour verre résistant aux agents chimiques
C03C 3/091 - Compositions pour la fabrication du verre contenant de la silice avec 40 à 90% en poids de silice contenant du bore contenant de l'aluminium
C03C 3/085 - Compositions pour la fabrication du verre contenant de la silice avec 40 à 90% en poids de silice contenant de l'oxyde d'aluminium ou un composé du fer contenant un oxyde d'un métal divalent
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
2.
PLASMA POWDER DEPOSITION APPARATUS AND DEPOSITION METHOD USING SAME
The present invention relates to a plasma powder deposition apparatus and a deposition method using same, and specifically to: a plasma powder deposition apparatus which is provided in plurality so that the surfaces of powder particles are melted by plasma and the spray angle of the powder particles is adjusted or varied, thus improving the deposition rate and the density of a deposition layer and relieving stress while improving the thickness of the deposition layer, and also improving the uniformity of the coating thickness on a substrate; and a deposition method using same.
C23C 24/10 - Revêtement à partir de poudres inorganiques en utilisant la chaleur ou une pression et la chaleur avec formation d'une phase liquide intermédiaire dans la couche
KOREA INSTITUTE OF CERAMIC ENGINEERING AND TECHNOLOGY (République de Corée)
Inventeur(s)
Kim, Dae Gean
Seok, Hye Won
Lee, Mun Ki
Kim, Hyeong Jun
Abrégé
The present invention relates to plasma-resistant glass containing 32-52 mol % of SiO2, 5-15 mol % of Al2O3, 30-35 mol % of CaO, and 0.1-15 mol % of CaF2 as chemical components, and a manufacturing method thereof. According to the present invention, a glass stability index KH is 2.0 or higher, and a plasma-resistant characteristic of an etch rate of lower than 10 nm/min for a mixed plasma of fluorine and argon (Ar) is exhibited.
C03C 3/112 - Compositions pour la fabrication du verre contenant de la silice avec 40 à 90% en poids de silice contenant un halogène ou de l'azote contenant du fluor
C03C 4/20 - Compositions pour verres ayant des propriétés particulières pour verre résistant aux agents chimiques
C03B 5/16 - Caractéristiques particulières du procédé de fusionMoyens auxiliaires spécialement adaptés aux fours de verrerie
The present invention relates to a plasma-resistant glass, chamber interior parts for a semiconductor manufacturing process, and methods for manufacturing same, and specifically, to a plasma-resistant glass and a method for manufacturing same, wherein the content of components of the plasma-resistant glass can be controlled to reduce the thermal expansion coefficient of the glass and thereby prevent the glass from being damaged due to thermal shock when used at a high-temperature.
C03C 3/085 - Compositions pour la fabrication du verre contenant de la silice avec 40 à 90% en poids de silice contenant de l'oxyde d'aluminium ou un composé du fer contenant un oxyde d'un métal divalent
C03B 11/12 - Refroidissement, chauffage ou isolation du poinçon, du moule ou de la presse de verre
C03C 3/083 - Compositions pour la fabrication du verre contenant de la silice avec 40 à 90% en poids de silice contenant de l'oxyde d'aluminium ou un composé du fer
C03C 15/00 - Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique
6.
PLASMA-RESISTANT GLASS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
C03C 3/087 - Compositions pour la fabrication du verre contenant de la silice avec 40 à 90% en poids de silice contenant de l'oxyde d'aluminium ou un composé du fer contenant un oxyde d'un métal divalent contenant de l'oxyde de calcium, p. ex. verre à vitre ordinaire ou verre pour récipients creux
C03C 4/20 - Compositions pour verres ayant des propriétés particulières pour verre résistant aux agents chimiques
KOREA INSTITUTE OF CERAMIC ENGINEERING AND TECHNOLOGY (République de Corée)
Inventeur(s)
Kim, Dae Gean
Seok, Hye Won
Lee, Mun Ki
Kim, Hyeong Jun
Abrégé
2232HH is 2.0 or higher, and a plasma-resistant characteristic of an etch rate of lower than 10 nm/min for a mixed plasma of fluorine and argon (Ar) is exhibited.
C03C 3/112 - Compositions pour la fabrication du verre contenant de la silice avec 40 à 90% en poids de silice contenant un halogène ou de l'azote contenant du fluor
C03C 3/087 - Compositions pour la fabrication du verre contenant de la silice avec 40 à 90% en poids de silice contenant de l'oxyde d'aluminium ou un composé du fer contenant un oxyde d'un métal divalent contenant de l'oxyde de calcium, p. ex. verre à vitre ordinaire ou verre pour récipients creux
C03C 3/062 - Compositions pour la fabrication du verre contenant de la silice avec moins de 40% en poids de silice
8.
Forming method of yttrium oxide fluoride coating film and yttrium oxide fluoride coating film prepared thereby
A forming method of an yttrium oxide fluoride (YOF) coating film and a (YOF) coating film formed thereby are disclosed. The YOF coating film has no or extremely small pores therein and a nanostructure to increase light transmittance thereof, and has high hardness and high bonding strength and thus can protect a transparent window of a display device. The method for forming an YOF coating film involves the steps of: providing pretreated YOF powder having a particle diameter ranging from 0.1 to 12 μm; receiving a transfer gas supplied from a transfer gas supply unit and receiving the pretreated YOF powder supplied from a powder supply unit to transfer the pretreated YOF powder in an aerosol state; and colliding/smashing (spraying) the pretreated YOF powder transferred in the aerosol state with/onto a substrate in a process chamber to form an YOF coating film on the substrate.
B32B 18/00 - Produits stratifiés composés essentiellement de céramiques, p. ex. de produits réfractaires
C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
C23C 30/00 - Revêtement avec des matériaux métalliques, caractérisé uniquement par la composition du matériau métallique, c.-à-d. non caractérisé par le procédé de revêtement
C23C 4/10 - Oxydes, borures, carbures, nitrures ou siliciuresLeurs mélanges
C23C 24/00 - Revêtement à partir de poudres inorganiques
B32B 15/04 - Produits stratifiés composés essentiellement de métal comprenant un métal comme seul composant ou comme composant principal d'une couche adjacente à une autre couche d'une substance spécifique
C23C 4/12 - Revêtement par pulvérisation du matériau de revêtement à l'état fondu, p. ex. par pulvérisation à l'aide d'une flamme, d'un plasma ou d'une décharge électrique caractérisé par le procédé de pulvérisation
An embodiment of the present invention relates to a coating film forming method and a coating film formed thereby. The technical objective is to provide: a coating film forming method for mixing a yttrium oxide (Y2O3) powder and a yttrium fluoride (YF3) powder in predetermined diameter ranges and in a predetermined weight ratio, and pulverizing the mixture powder by allowing the mixture powder to collide with a substrate by aerosol deposition, thereby enabling a yttrium oxide fluoride coating film having desired XRD crystal characteristics and an EDS atomic ratio, which are suitable for a processing environment, to be implemented at low cost; and a coating film formed thereby. To this end, disclosed in an embodiment of the present invention are a coating film forming method and a coating film formed thereby, the method comprising the steps of: providing a mixture powder comprising yttrium (Y), oxygen (O) and fluorine (F); and forming a YOF coating film on a substrate by using the mixture powder, wherein the atomic ratio of Y:O:F according to X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), of the YOF coating film, is 1:1:1.
Various embodiments of the present invention relate to a method for forming an yttrium oxide fluoride coating film and an yttrium oxide fluoride coating film formed thereby. The technical task to be solved is to provide a method for forming an yttrium oxide fluoride coating film which has no or extremely small pores therein and a nanostructure to increase light-permeability thereof, and has high hardness and high bonding strength and thus can protect a transparent window of a display device, and yttrium oxide fluoride coating film formed thereby. To this end, the method for forming an yttrium oxide fluoride coating film according to various embodiments of the present invention comprises the steps of: providing a pretreated YOF powder having a particle diameter ranging from 0.1 to 12μm; receiving a transfer gas supplied from a transfer gas supply unit and receiving the pretreated YOF powder supplied from a powder supply unit to transfer the pretreated YOF powder in an aerosol state; and colliding/smashing (spraying) the pretreated YOF powder transferred in the aerosol state with/onto a substrate in a process chamber to form an yttrium oxide fluoride coating film on the substrate.
The present invention relates to a glass coating structure and a method for forming the same. A technical problem to be solved is to provide a glass coating structure having high light transmittance without grain boundary and a method of forming the same, by coating glass powder on a base material by a vacuum injection method at room temperature and then performing a heat treatment process. To this end, disclosed are a glass coating structure comprising: a base material; and a transparent coating layer without grain boundary formed by heat-treating an opaque coating layer with a grain boundary formed by mechanical impact of glass powder on the base material, and a method of forming the same.
The present invention relates to a composite structure, and a method for forming same, and the technical issues to be solved are to provide a composite structure that can prevent damage and breaks to the substrate surface due to mechanical impact during functional layer formation by forming the functional layer after protecting the substrate surface, which can develop fine cracks or etching due to high surface roughness or powder particle collisions, by forming a buffer layer thereon, and a method for forming the composite structure. To that end, disclosed are the composite structure, and method for forming same, the composite structure comprising: a substrate which has surface roughness of 0.1 ㎛ or greater or which is made of organic material; a buffer layer in which buffer powder is coated on the substrate by means of mechanical impact; and a functional layer in which functional powder is coated on the buffer layer by means of mechanical impact, wherein the strength of the buffer layer is less than the strength of the functional layer.
B05D 5/00 - Procédés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces pour obtenir des effets, finis ou des structures de surface particuliers
B05D 7/00 - Procédés, autres que le flocage, spécialement adaptés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides, à des surfaces particulières, ou pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides particuliers
B05D 7/02 - Procédés, autres que le flocage, spécialement adaptés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides, à des surfaces particulières, ou pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides particuliers à des substances macromoléculaires, p. ex. à du caoutchouc
13.
METHOD FOR FORMING TRANSPARENT FLUORINE FILM, AND TRANSPARENT FLUORINE FILM FORMED THEREBY
One embodiment of the present invention relates to a method for forming a transparent fluorine film, and a transparent fluorine film formed thereby, and the technical issues to be resolved are to provide a method for forming a transparent fluorine film, and transparent fluorine film formed thereby that can protect the transparent windows of display devices by having not only high transmissivity due to no or extremely small nano-structured pores in the interior, but also having high strength and adhesiveness. To that end, disclosed are a method for forming a transparent fluorine film, and a transparent fluorine film formed thereby, the method comprising the steps of: receiving transport gas from a transport gas supply unit and YF3 powder from a powder supply unit, and transporting the YF3 powder in aerosol form; and colliding and crushing the YF3 powder transported in aerosol form against a substrate in the interior of a processing chamber, and forming a transparent YF3 film on the substrate.
The present invention relates to a method for forming a ceramic coating having improved plasma resistance and a ceramic coating formed thereby. The present invention discloses the method for forming the ceramic coating having improved plasma resistance and the ceramic coating formed thereby, comprising the steps of: receiving, from a powder supply portion, a plurality of ceramic powders having a first powder particle size range, and transporting the powders using a transport gas; and forming a ceramic coating in which a plurality of first ceramic particles within a first coating particle size range and a plurality of second ceramic particles within a second coating particle size range, which is larger than the first coating particle size range, by causing the transported ceramic powders to collide with a substrate inside a process chamber, at the speed of 100 to 500 m/s so as to be pulverized.
C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
C04B 35/447 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur compositionCompositions céramiquesTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base d'oxydes à base de phosphates
C04B 35/505 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur compositionCompositions céramiquesTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base de composés de terres rares à base d'oxyde d'yttrium
C04B 35/622 - Procédés de mise en formeTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
15.
Method for forming coating having composite coating particle size and coating formed thereby
The present invention discloses the method for forming the coating having the composite coating particle size and the coating formed thereby, comprising the steps of: receiving, from a powder supply portion, a plurality of powders within a first powder particle size range, and transporting the powders using a transport gas; and forming a coating in which a plurality of first particles within a first coating particle size range and a plurality of second particles within a second coating particle size range, which is larger than the first coating particle size range, by causing the transported powders to collide with a substrate inside a process chamber at the speed of 100 to 500 m/s so as to be pulverized.
C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
C04B 35/447 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur compositionCompositions céramiquesTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base d'oxydes à base de phosphates
C04B 35/505 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur compositionCompositions céramiquesTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base de composés de terres rares à base d'oxyde d'yttrium
C04B 35/622 - Procédés de mise en formeTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
Disclosed is a power transmission shaft capable of performing a fuse-like function with respect to excessive torque when excessive torque is applied to a power input side. The power transmission shaft comprises: a main shaft connected to a power device; flanges provided at both sides of the main shaft so as to be connected to the power device; and a flexible coupling extending in the radial direction of the main shaft, wherein the power transmission shaft is provided with a power shutoff unit, formed at one part of at least one of the main shaft and the flanges, which shuts off power by breaking the main shaft or the flanges when torque greater than a predetermined level is applied. As such, when excessive torque is applied to the power input side, the power transmission shaft performs a fuse-like function with respect to the excessive torque, whereby it is possible to enhance safety, prevent sparks from occurring at the time of breakage of the flanges or the shaft, facilitate the production thereof, and effectively prevent vibration while sufficiently supporting the speed or load in the event of a high rotation rate.
F16D 9/06 - Accouplements avec organe de sécurité pour le désaccouplement par rupture due au cisaillement
F16D 9/08 - Accouplements avec organe de sécurité pour le désaccouplement par rupture due au cisaillement sur une zone unique entourant l'axe de rotation, p. ex. gorges de cisaillement sur les arbres
F16D 3/79 - Accouplements extensibles, c.-à-d. avec moyens permettant le mouvement entre parties accouplées durant leur entraînement avec pièces d'accouplement reliées par un ou plusieurs organes intermédiaires ayant la forme d'un disque élastique ou d'une bague plate disposés perpendiculairement à l'axe des pièces d'accouplement, différents jeux de trous dans le disque ou la bague étant reliés à chaque pièce d'accouplement, p. ex. joints Hardy le disque ou la bague étant métalliques
Disclosed is a power transmission shaft which, by alleviating the phenomenon in which stress is concentrated on a specific portion of a diaphragm, has improved fatigue life span. The power transmission shaft, which connects a power apparatus, comprises a flexible coupling, which is configured by a hub unit positioned inside in a radial direction, a rim unit positioned outside in a radial direction of the hub unit, and a flexible diaphragm unit positioned between the hub unit and the rim unit, wherein the thickness in the axial direction of the flexible diaphragm unit, from the hub unit toward the rim unit, becomes thinner then thicker and thereby has a minimum thickness interval, wherein the flexible diaphragm unit has a contoured first side on one side in the axial direction and a contoured second side on the other side, wherein the first side has a first inflection point and the second side has a second inflection point, and wherein the first inflection point is formed at a different position in a radial direction with respect to the second inflection point. Accordingly, fatigue properties of the diaphragm are improved by alleviating the phenomenon in which stress is concentrated on a specific portion of the diaphragm, and the life span of the power transmission shaft can be extended.
F16D 3/79 - Accouplements extensibles, c.-à-d. avec moyens permettant le mouvement entre parties accouplées durant leur entraînement avec pièces d'accouplement reliées par un ou plusieurs organes intermédiaires ayant la forme d'un disque élastique ou d'une bague plate disposés perpendiculairement à l'axe des pièces d'accouplement, différents jeux de trous dans le disque ou la bague étant reliés à chaque pièce d'accouplement, p. ex. joints Hardy le disque ou la bague étant métalliques
18.
METHOD FOR FORMING CERAMIC COATING HAVING IMPROVED PLASMA RESISTANCE AND CERAMIC COATING FORMED THEREBY
One embodiment of the present invention relates to a method for forming a ceramic coating having improved plasma resistance and a ceramic coating formed thereby. The present invention discloses the method for forming the ceramic coating having improved plasma resistance and the ceramic coating formed thereby, comprising the steps of: receiving, from a powder supply portion, a plurality of ceramic powders having a first powder particle size range, and transporting the powders using a transport gas; and forming a ceramic coating in which a plurality of first ceramic particles within a first coating particle size range and a plurality of second ceramic particles within a second coating particle size range, which is larger than the first coating particle size range, by causing the transported ceramic powders to collide with a substrate inside a process chamber, at the speed of 100 to 500 m/s so as to be pulverized, wherein the first ceramic coating particle size range of the first particles is 200 nm to 900 nm, and wherein the second ceramic coating particle size range of the second particles is 900 nm to 10 μm.
One embodiment of the present invention relates to a method for forming a coating having a composite coating particle size and a coating formed thereby. The present invention discloses the method for forming the coating having the composite coating particle size and the coating formed thereby, comprising the steps of: receiving, from a powder supply portion, a plurality of powders within a first powder particle size range, and transporting the powders using a transport gas; and forming a coating in which a plurality of first particles within a first coating particle size range and a plurality of second particles within a second coating particle size range, which is larger than the first coating particle size range, by causing the transported powders to collide with a substrate inside a process chamber at the speed of 100 to 500 m/s so as to be pulverized, wherein the first coating particle size range of the first particles is 200 nm to 900 nm, and wherein the second coating particle size range of the second particles is 900 nm to 10 μm.
The present invention relates to a cleaning apparatus which can remove foreign substances without causing damage to the surface of glass. For example, the cleaning apparatus comprises: a main shaft, the top of which has a main air inlet port and the bottom of which has a flange; an impeller which is coupled to the flange of the main shaft, and which has a plurality of exhaust ports; and a housing which is coupled to an upper portion of the impeller, and which has a plurality of auxiliary air inlet ports.
B08B 5/02 - Nettoyage par la force de jets, p. ex. le soufflage de cavités
B05B 1/10 - Buses, têtes de pulvérisation ou autres dispositifs de sortie, avec ou sans dispositifs auxiliaires tels que valves, moyens de chauffage agencés pour produire un jet, un pulvérisat ou tout autre écoulement de forme ou de nature particulière, p. ex. sous forme de gouttes individuelles sous forme d'un jet fin, p. ex. pour lave-glace d'automobiles
B08B 7/00 - Nettoyage par des procédés non prévus dans une seule autre sous-classe ou un seul groupe de la présente sous-classe
B05B 3/04 - Appareillages de pulvérisation ou d'arrosage avec des éléments de sortie mobiles ou des éléments déflecteurs mobiles avec des éléments rotatifs entraînés par le liquide ou autre matériau fluide refoulé, p. ex. le liquide actionnant un moteur avant de parvenir à l'orifice de sortie
brevets
