A gallium nitride (GaN) transistor is provided having a voltage threshold at which the transistor turns ON. The transistor has one or more control electrodes and a gate electrode disposed on a GaN material layer. A bias is applied to the control electrode(s) to prevent shifting of the transistor voltage threshold.
H10D 30/47 - Transistors FET ayant des canaux à gaz de porteurs de charge de dimension nulle [0D], à une dimension [1D] ou à deux dimensions [2D] ayant des canaux à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p. ex. transistors FET à nanoruban ou transistors à haute mobilité électronique [HEMT]
H10D 62/17 - Régions semi-conductrices connectées à des électrodes ne transportant pas de courant à redresser, amplifier ou commuter, p. ex. régions de canal
H10D 62/824 - Hétérojonctions comprenant uniquement des hétérojonctions de matériaux du groupe III-V, p. ex. des hétérojonctions GaN/AlGaN
H10D 64/00 - Électrodes de dispositifs ayant des barrières de potentiel
H10D 64/27 - Électrodes ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier, à faire osciller ou à commuter, p. ex. grilles
H10D 62/85 - Corps semi-conducteurs, ou régions de ceux-ci, de dispositifs ayant des barrières de potentiel caractérisés par les matériaux étant des matériaux du groupe III-V, p. ex. GaAs
A gallium nitride (GaN) transistor is provided having a voltage threshold at which the transistor turns ON. The transistor has one or more control electrodes and a gate electrode disposed on a GaN material layer. A bias is applied to the control electrode(s) to prevent shifting of the transistor voltage threshold.
H10D 30/47 - Transistors FET ayant des canaux à gaz de porteurs de charge de dimension nulle [0D], à une dimension [1D] ou à deux dimensions [2D] ayant des canaux à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p. ex. transistors FET à nanoruban ou transistors à haute mobilité électronique [HEMT]
H10D 62/85 - Corps semi-conducteurs, ou régions de ceux-ci, de dispositifs ayant des barrières de potentiel caractérisés par les matériaux étant des matériaux du groupe III-V, p. ex. GaAs
H10D 64/00 - Électrodes de dispositifs ayant des barrières de potentiel
3.
GaN HEMT WITH LOW THRESHOLD VOLTAGE SHIFT USING A HOLE INJECTOR/COLLECTOR
A Gallium Nitride (GaN) High Electron Mobility Transistor (HEMT) with multiple metal contacts to a single contiguous p-GaN gate material. The voltage threshold voltage (Vth) of the transistor is controlled through hole injection and removal in the p-GaN material of the transistor gate.
H10D 30/47 - Transistors FET ayant des canaux à gaz de porteurs de charge de dimension nulle [0D], à une dimension [1D] ou à deux dimensions [2D] ayant des canaux à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p. ex. transistors FET à nanoruban ou transistors à haute mobilité électronique [HEMT]
H10D 64/27 - Électrodes ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier, à faire osciller ou à commuter, p. ex. grilles
H10D 62/17 - Régions semi-conductrices connectées à des électrodes ne transportant pas de courant à redresser, amplifier ou commuter, p. ex. régions de canal
H10D 62/85 - Corps semi-conducteurs, ou régions de ceux-ci, de dispositifs ayant des barrières de potentiel caractérisés par les matériaux étant des matériaux du groupe III-V, p. ex. GaAs
H10D 64/23 - Électrodes transportant le courant à redresser, à amplifier, à faire osciller ou à commuter, p. ex. sources, drains, anodes ou cathodes
4.
MULTIPHASE N-CHANNEL HIGH-SIDE SWITCH FOR GaN INTEGRATED CIRCUITS
A power supply switch for a gallium nitride integrated circuit. The switch includes two or more parallel n-channel transistor switches (FETs). The FETs are controlled by AC gate waveforms of different phases. The use of multiple AC-controlled FETs allows effective DC operation of a bootstrap inverter circuit without requiring a second DC supply voltage.
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
5.
GaN HEMT WITH LOW THRESHOLD VOLTAGE SHIFT USING A HOLE INJECTOR/COLLECTOR
This invention pertains to the design of a novel Gallium Nitride (GaN) High Electron Mobility Transistor (HEMT) with multiple metal contacts to a single contiguous p-GaN island. The invention encompasses various embodiments which introduce innovative mechanisms for threshold voltage (Vth) control through hole injection and removal.
H10D 64/62 - Électrodes couplées de manière ohmique à un semi-conducteur
H10D 30/47 - Transistors FET ayant des canaux à gaz de porteurs de charge de dimension nulle [0D], à une dimension [1D] ou à deux dimensions [2D] ayant des canaux à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p. ex. transistors FET à nanoruban ou transistors à haute mobilité électronique [HEMT]
H10D 62/85 - Corps semi-conducteurs, ou régions de ceux-ci, de dispositifs ayant des barrières de potentiel caractérisés par les matériaux étant des matériaux du groupe III-V, p. ex. GaAs
H10D 89/00 - Aspects des dispositifs intégrés non couverts par les groupes
An enhancement mode gallium nitride (GaN) transistor configured to eliminate holes in the gate material under the gate metal. The transistor has four electrodes, namely a drain electrode, a source electrode, a gate electrode and a hole collector electrode. In a preferred embodiment, a negative voltage is applied to the hole collector electrode, attracting holes in the gate material under the gate metal. The attracted holes recombine with electrons supplied by the negative voltage, thereby substantially eliminating the holes.
H10D 30/47 - Transistors FET ayant des canaux à gaz de porteurs de charge de dimension nulle [0D], à une dimension [1D] ou à deux dimensions [2D] ayant des canaux à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p. ex. transistors FET à nanoruban ou transistors à haute mobilité électronique [HEMT]
H10D 62/85 - Corps semi-conducteurs, ou régions de ceux-ci, de dispositifs ayant des barrières de potentiel caractérisés par les matériaux étant des matériaux du groupe III-V, p. ex. GaAs
7.
GaN TRANSISTOR HAVING MULTI-THICKNESS FRONT BARRIER
A gallium nitride (GaN) transistor which includes a multi-layer/multi-thickness barrier layer formed of segments of progressively increasing thickness between the gate and drain to progressively increase the 2DEG density in the channel from gate to drain. The GaN gate can be formed on the base barrier layer to produce an enhancement mode device with a positive threshold voltage. By forming the gate over a thicker segment of the barrier layer, a GaN transistor with a less positive threshold voltage, or a depletion mode transistor with a negative threshold voltage, can be produced.
H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
8.
GaN TRANSISTOR HAVING MULTI-THICKNESS FRONT BARRIER
A gallium nitride (GaN) transistor which includes a multi-layer/multi-thickness barrier layer formed of segments (40, 42, 44, 46) of progressively increasing thickness between the gate (22) and drain (20) to progressively increase the 2DEG density in the channel from gate to drain. The GaN gate (26) can be formed on the base barrier layer (16) to produce an enhancement mode device with a positive threshold voltage. By forming the gate over a thicker segment of the barrier layer, a GaN transistor with a less positive threshold voltage, or a depletion mode transistor with a negative threshold voltage, can be produced.
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 21/337 - Transistors à effet de champ à jonction PN
H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
H01L 29/15 - Structures avec une variation de potentiel périodique ou quasi périodique, p.ex. puits quantiques multiples, superréseaux
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
9.
MULTIPHASE N-CHANNEL HIGH-SIDE SWITCH FOR GaN INTEGRATED CIRCUITS
A power supply switch for a gallium nitride integrated circuit. The switch includes two or more parallel n-channel transistor switches (FETs). The FETs are controlled by AC gate waveforms of different phases. The use of multiple AC-controlled FETs allows effective DC operation of a supply switch without requiring a second DC supply voltage.
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
10.
Synchronizing turn-on/turn-off times of parallel power FETs
A circuit for synchronizing the turn-on/turn-off times of parallel FETs. The circuit includes a plurality of integrated circuits and a synchronizer. Each of the integrated circuits includes a power FET which operates in parallel with the power FETs of the other integrated circuits, and a phase detector. The phase detector receives and compares the phase output signal of the integrated circuit with the phase output signal of another integrated circuit, and provides signals to the synchronizer regarding the relative turn-on times of the power FETs based upon the phase output signals. The synchronizer, in response to the signals from each of the integrated circuits, reduces or increases the turn-on times of the power FETs, thereby synchronizing the turn-on times of the power FETs.
An enhancement mode gallium nitride (GaN) transistor with a p-type gate configured to eliminate holes accumulating under the gate metal. The gate has two electrodes, a gate electrode and a hole collector electrode. In a preferred embodiment, a negative voltage is applied to the hole collector electrode, attracting holes accumulating under the gate metal. The attracted holes recombine with electrons supplied by the negative voltage, thereby substantially eliminating the holes.
H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H02M 3/07 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des résistances ou des capacités, p. ex. diviseur de tension utilisant des capacités chargées et déchargées alternativement par des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande
12.
ENHANCEMENT MODE GAN DEVICE WITH HOLE ELIMINATION ELECTRODE
An enhancement mode gallium nitride (GaN) transistor with a p-type gate configured to eliminate holes accumulating under the gate metal. The gate has two electrodes, a gate electrode and a hole collector electrode. In a preferred embodiment, a negative voltage is applied to the hole collector electrode, attracting holes accumulating under the gate metal. The attracted holes recombine with electrons supplied by the negative voltage, thereby substantially eliminating the holes.
H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H03L 7/00 - Commande automatique de fréquence ou de phaseSynchronisation
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
An enhancement mode GaN transistor that includes a multi-region field plate (406) which partially overlaps the gate and partially overlaps a barrier offset layer. The multi-region field plate includes a section of increased height with respect to the channel layer over the portion of the gate nearest the drain contact, and a section of reduced height with respect to the channel layer over the edge or transition of the barrier offset layer, minimizing the peak electric field at the corner of the gate and at the edge or transition of the barrier offset layer.
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 29/41 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative
H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
14.
THREE-TERMINAL BIDIRECTIONAL ENHANCEMENT MODE GaN SWITCH
A three-terminal bidirectional GaN FET with a single gate. The device is formed by integrating a single-gate bidirectional GaN FET in parallel with a bidirectional device formed of two back-to-back GaN FETs with a source that is connected to the field plate of the device and does not have a pin-out. Diodes or gate-shorted-to-source FETs are connected between the source without pin-out and the D/S and S/D power terminals of the device. In another embodiment, a single-gate bidirectional GaN FET is provided with diodes or gate-shorted-to-source FETs connected between the substrate and the power terminals of the device.
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
An enhancement mode GaN transistor that includes a multi-region field plate which partially overlaps the gate and partially overlaps a barrier offset layer. The multi-region field plate includes a section of increased height with respect to the channel layer over the portion of the gate nearest the drain contact, and a section of reduced height with respect to the channel layer over the edge or transition of the barrier offset layer, minimizing the peak electric field at the corner of the gate and at the edge or transition of the barrier offset layer.
H10D 64/00 - Électrodes de dispositifs ayant des barrières de potentiel
H10D 30/47 - Transistors FET ayant des canaux à gaz de porteurs de charge de dimension nulle [0D], à une dimension [1D] ou à deux dimensions [2D] ayant des canaux à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p. ex. transistors FET à nanoruban ou transistors à haute mobilité électronique [HEMT]
H10D 62/10 - Formes, dimensions relatives ou dispositions des régions des corps semi-conducteursFormes des corps semi-conducteurs
H10D 62/85 - Corps semi-conducteurs, ou régions de ceux-ci, de dispositifs ayant des barrières de potentiel caractérisés par les matériaux étant des matériaux du groupe III-V, p. ex. GaAs
H10D 64/62 - Électrodes couplées de manière ohmique à un semi-conducteur
16.
Integrated circuit for gate overvoltage protection of power devices
An integrated gate overvoltage protection circuit for protecting the gate of a main field effect transistor (FET). The gate protection circuit includes a blocking FET and a discharge FET connected between the gate and the drain of the main FET. The gate overvoltage protection circuit is configured to turn on both the first FET and the second FET in the event of a fault condition, such that charge from the gate of the main FET is discharged through the first FET and the second FET to the drain of the main FET, thereby protecting the gate of the main FET.
H03K 17/081 - Modifications pour protéger le circuit de commutation contre la surintensité ou la surtension sans réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande
17.
INTEGRATED CIRCUIT FOR GATE OVERVOLTAGE PROTECTION OF POWER DEVICES
An integrated gate overvoltage protection circuit for protecting the gate of a main field effect transistor (FET). The gate protection circuit includes a blocking FET and a discharge FET connected between the gate and the drain of the main FET. The gate overvoltage protection circuit is configured to turn on both the first FET and the second FET in the event of a fault condition, such that charge from the gate of the main FET is discharged through the first FET and the second FET to the drain of the main FET, thereby protecting the gate of the main FET.
H03K 17/082 - Modifications pour protéger le circuit de commutation contre la surintensité ou la surtension par réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
18.
THREE-TERMINAL BIDIRECTIONAL ENHANCEMENT MODE GaN SWITCH
A three-terminal bidirectional GaN FET with a single gate. The device is formed by integrating a single-gate bidirectional GaN FET in parallel with a bidirectional device formed of two back-to-back GaN FETs having a source without a pin-out. The source without pin-out is connected to the field plate of the device. Diodes or gate-shorted-to-source FETs are connected between the source without pin-out and the D/S and S/D power terminals of the device. In another embodiment, a single-gate bidirectional GaN FET is provided with diodes or gate-shorted-to-source FETs connected between the substrate and the power terminals of the device.
H03K 17/081 - Modifications pour protéger le circuit de commutation contre la surintensité ou la surtension sans réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
A driver circuit for a solid-state relay which includes a split power supply. The positive supply of the split power supply provides a voltage for application to the gate of a power FET for supplying power to a load. The negative supply of the split power supply provides a negative voltage for turning off a control transistor. The control transistor prevents the power FET from conducting power to the load when the driver circuit is turned off. The circuit is particularly adapted for driving a power GaN FET solid state relay. The circuit is provided in a cascaded embodiment to increase the blocking voltage of the solid-state relay.
H03K 17/68 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors bipolaires spécialement adaptée pour commuter des courants ou des tensions alternatifs
H03K 17/041 - Modifications pour accélérer la commutation sans réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande
H03K 17/06 - Modifications pour assurer un état complètement conducteur
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
A gate driver circuit which integrates a synchronous bootstrap circuit in an isolation well of an integrated circuit, such that the synchronous bootstrap capacitor connected to the synchronous bootstrap circuit (and to the corresponding switch node of a power converter) can float with the corresponding switch node. Due to this feature, the voltage on one synchronous bootstrapping capacitor can be used to charge the synchronous bootstrapping capacitor of another (higher level) synchronous bootstrap circuit in a separate isolation well connected to a different switch node. As a result, the supply voltages for the synchronous bootstrap circuits in different isolation wells can all be supplied from a single ground referenced supply Vdd.
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
H02M 3/158 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs avec commande automatique de la tension ou du courant de sortie, p. ex. régulateurs à commutation comprenant plusieurs dispositifs à semi-conducteurs comme dispositifs de commande finale pour une charge unique
H03K 19/20 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion caractérisés par la fonction logique, p. ex. circuits ET, OU, NI, NON
A circuit topology for use as a single-ended or differential level-shifting interface for GaN ICs that allows GaN ICs to be controlled with standard low-voltage CMOS level inputs. The logic level shift circuit is based on a resistive network is therefore insensitive to process and temperature variations, making it particularly well suited for implementation in a GaN IC. The resistive network for a single-ended input signal includes a first branch with a voltage divider connected to the input signal. The voltage divider of the first branch provides a level shifted and scaled input signal to the first input of a comparator at the optimal bias point of the comparator. The resistive network also includes a second voltage divider branch with hysteresis for providing a trip voltage to the second input to the comparator, also at the optimal bias point of the comparator. The comparator outputs complementary bipolar level shifted signals corresponding to the input signal. For a differential input signal, both branches of the resistive network follow the topology of the first branch for a single-ended input signal.
An integrated current sensing amplifier with offset cancellation implemented in GaN technology. The current sensing amplifier senses the current flowing through a low side power FET or a high side power FET of a half bridge circuit. The current sensing amplifier uses the off time of the power FET for storing the amplifier input offset voltage. The stored amplifier input offset voltage is then used to cancel the amplifier input offset voltage during the on time of the power FET, which is the interval that requires current sensing.
A gate driver circuit which integrates a synchronous bootstrap circuit in an isolation well of an integrated circuit, such that the synchronous bootstrap capacitor connected to the synchronous bootstrap circuit (and to the corresponding switch node of a power converter) can float with the corresponding switch node. Due to this feature, the voltage on one synchronous bootstrapping capacitor can be used to charge the synchronous bootstrapping capacitor of another (higher level) synchronous bootstrap circuit in a separate isolation well connected to a different switch node. As a result, the supply voltages for the synchronous bootstrap circuits in different isolation wells can all be supplied from a single ground referenced supply Vdd.
H03K 17/06 - Modifications pour assurer un état complètement conducteur
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
H01L 27/12 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
24.
CURRENT SENSING AMPLIFIER WITH OFFSET CANCELLATION
An integrated current sensing amplifier with offset cancellation implemented in GaN technology. The current sensing amplifier senses the current flowing through a low side power FET or a high side power FET of a half bridge circuit. The current sensing amplifier uses the off time of the power FET for storing the amplifier input offset voltage. The stored amplifier input offset voltage is then used to cancel the amplifier input offset voltage during the on time of the power FET, which is the interval that requires current sensing.
A single-ended or differential level-shifting interface for GaN ICs that allows GaN ICs to be controlled with standard low-voltage CMOS level inputs. The logic level shift circuit is based on a resistive network is therefore insensitive to process and temperature variations, making it particularly well suited for implementation in a GaN IC. The resistive network for a single-ended input signal includes a first branch with a voltage divider connected to the input signal. The voltage divider of the first branch provides a level shifted and scaled input signal to the first input of a comparator at the optimal bias point of the comparator. The resistive network also includes a second voltage divider branch with hysteresis for providing a trip voltage to the second input to the comparator, also at the optimal bias point of the comparator. The comparator outputs complementary bipolar level shifted signals corresponding to the input signal.
H03K 5/22 - Circuits présentant plusieurs entrées et une sortie pour comparer des impulsions ou des trains d'impulsions entre eux en ce qui concerne certaines caractéristiques du signal d'entrée, p. ex. la pente, l'intégrale
H03K 5/24 - Circuits présentant plusieurs entrées et une sortie pour comparer des impulsions ou des trains d'impulsions entre eux en ce qui concerne certaines caractéristiques du signal d'entrée, p. ex. la pente, l'intégrale la caractéristique étant l'amplitude
H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ
A bootstrapping gate driver circuit in which the size of the bootstrap capacitors is reduced. The gate-to-source voltage of the high side (pull-up) FET is pre-driven to an initial voltage (pre-driven voltage) before the bootstrap capacitor releases charge to charge up the gate-to-source voltage of the high side FET. This pre-driven voltage is applied through a pre-driven FET that allows current flow from the supply voltage to charge the gate of the high side FET to the pre-driven voltage. The pre-driven FET is turned on by a turn-on signal that occurs before the bootstrap capacitor releases charge. The pre-driven period (and hence, the pre-driven voltage) is determined from the time that the pre-driven FET begins to turn on, to the time that the bootstrap capacitor starts to release charge.
H03K 17/0412 - Modifications pour accélérer la commutation sans réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande par des dispositions prises dans le circuit de commande
A circuit to enhance the driving capability of conventional inverting bootstrapping GaN drivers. When the inverting driver input is logic high and the driver output is off, the voltage stored on the first bootstrap capacitor for turning on the high side (pull-up) FET of the inverting driver is charged to the full supply voltage using an active charging FET, instead of using a diode or diode-connected FET in a conventional bootstrapping driver. The gate voltage of the active charging FET is bootstrapped to a voltage higher than supply voltage by a second bootstrap capacitor that connects to the inverting driver input, which is at a logic high. The second bootstrap capacitor is charged by an additional diode or diode-connected FET connected to the supply voltage when the inverting driver input is a logic low.
H03K 17/06 - Modifications pour assurer un état complètement conducteur
H03K 17/0412 - Modifications pour accélérer la commutation sans réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande par des dispositions prises dans le circuit de commande
A bootstrapping circuit that utilizes multiple pre-charged capacitor voltages and applies the capacitor voltages to the high side FET of a GaN bootstrapping driver. During the pre-charging phase of the bootstrapping driver, multiple capacitors are charged in parallel to the supply voltage. During the driving phase of the bootstrapping driver, the capacitors are connected in series through a number of FETs and connected to the gate terminal of the high side FET of the bootstrapping driver. As a result, the gate-to-source voltage of the high side FET is equal to or greater than the supply voltage during the driving phase, increasing the driving capability of the high side FET and reducing the total required capacitance and die area of the bootstrapping driver.
H03K 17/06 - Modifications pour assurer un état complètement conducteur
H03K 17/0412 - Modifications pour accélérer la commutation sans réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande par des dispositions prises dans le circuit de commande
A bootstrapping gate driver circuit in which the size of the bootstrap capacitors is reduced. The gate-to-source voltage of the high side (pull-up) FET is pre-driven to an initial voltage (pre-driven voltage) before the bootstrap capacitor releases charge to charge up the gate-to-source voltage of the high side FET. This pre-driven voltage is applied through a pre-driven FET that allows current flow from the supply voltage to charge the gate of the high side FET to the pre-driven voltage. The pre-driven FET is turned on by a turn-on signal that occurs before the bootstrap capacitor releases charge. The pre-driven period (and hence, the pre-driven voltage) is determined from the time that the pre-driven FET begins to turn on, to the time that the bootstrap capacitor starts to release charge.
H03K 17/0412 - Modifications pour accélérer la commutation sans réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande par des dispositions prises dans le circuit de commande
H03K 17/042 - Modifications pour accélérer la commutation par réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande
H03K 17/06 - Modifications pour assurer un état complètement conducteur
A circuit to enhance the driving capability of conventional inverting bootstrapping GaN drivers. When the inverting driver input is logic high and the driver output is off, the voltage stored on the first bootstrap capacitor for turning on the high side (pull-up) FET of the inverting driver is charged to the full supply voltage using an active charging FET, instead of using a diode or diode-connected FET in a conventional bootstrapping driver. The gate voltage of the active charging FET is bootstrapped to a voltage higher than supply voltage by a second bootstrap capacitor that connects to the inverting driver input, which is at a logic high. The second bootstrap capacitor is charged by an additional diode or diode-connected FET connected to the supply voltage when the inverting driver input is a logic low.
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
A bootstrapping circuit that utilizes multiple pre-charged capacitor voltages and applies the capacitor voltages to the high side FET of a GaN bootstrapping driver. During the pre-charging phase of the bootstrapping driver, multiple capacitors are charged in parallel to the supply voltage. During the driving phase of the bootstrapping driver, the capacitors are connected in series through a number of FETs and connected to the gate terminal of the high side FET of the bootstrapping driver. As a result, the gate-to-source voltage of the high side FET is equal to or greater than the supply voltage during the driving phase, increasing the driving capability of the high side FET and reducing the total required capacitance and die area of the bootstrapping driver.
A bidirectional GaN FET with a single gate formed by integrating a single-gate bidirectional GaN FET in parallel with a bidirectional device formed of two back-to-back GaN FETs with a common source. The single-gate bidirectional GaN FET occupies most of the integrated circuit die, such that the integrated device has a low channel resistance, while also capturing the advantages of a back-to-back bidirectional GaN FET device.
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
H10D 62/85 - Corps semi-conducteurs, ou régions de ceux-ci, de dispositifs ayant des barrières de potentiel caractérisés par les matériaux étant des matériaux du groupe III-V, p. ex. GaAs
H10D 64/00 - Électrodes de dispositifs ayant des barrières de potentiel
A bidirectional GaN FET with a single gate formed by integrating a single-gate bidirectional GaN FET in parallel with a bidirectional device formed of two back-to-back GaN FETs with a common source. The single-gate bidirectional GaN FET occupies most of the integrated circuit die, such that the integrated device has a low channel resistance, while also capturing the advantages of a back-to-back bidirectional GaN FET device.
H03K 17/081 - Modifications pour protéger le circuit de commutation contre la surintensité ou la surtension sans réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande
34.
Half-bridge circuits with symmetrical layout of parallel transistors and capacitors
A physical arrangement of at least two power switches and at least one capacitor in a power loop. At least one of the switches is formed of at least two parallel electronic devices, such as transistors. The arrangement minimizes total power loop impedance and results in approximately equal impedance in each parallel branch of the switch formed of two parallel devices, thereby resulting in approximately equal currents in the switches.
H02M 3/158 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs avec commande automatique de la tension ou du courant de sortie, p. ex. régulateurs à commutation comprenant plusieurs dispositifs à semi-conducteurs comme dispositifs de commande finale pour une charge unique
H02M 3/00 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu
35.
HALF-BRIDGE SWITCHING CIRCUITS WITH PARALLEL SWITCHES
A physical arrangement of at least two power switches and at least one capacitor in a power loop. At least one of the switches is formed of at least two parallel electronic devices, such as transistors. The arrangement minimizes total power loop impedance and results in approximately equal impedance in each parallel branch of the switch formed of two parallel devices, thereby resulting in approximately equal currents in the switches.
An integrated circuit includes a GaN FET and a metal-insulator-metal capacitor. The capacitor is fully integrated with a lateral GaN process flow, i.e., the same gate metal layer, field plate metal layer and dielectric layer of the GaN FET are also used to form the bottom plate (1001), insulator (2001) and top plate (3001) of the capacitor. The top plate is contacted by a conductive via (3003), which extends through the top plate. To increase the voltage breakdown capability of the capacitor of the integrated circuit, a portion of the gate metal layer is formed in the shape of a ring around the conductive via.
H01L 21/8252 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie III-V
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 49/02 - Dispositifs à film mince ou à film épais
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
37.
Gate metal-insulator-field plate metal integrated circuit capacitor and method of forming the same
An integrated circuit which includes a GaN FET and a metal-insulator-metal capacitor. The capacitor is fully integrated with a lateral GaN process flow, i.e., the same gate metal layer, field plate metal layer and dielectric layer of the GaN FET are also used to form the bottom plate, insulator and top plate of the capacitor. The top plate is contacted by a conductive via, which extends through the top plate. To increase the voltage breakdown capability of the capacitor of the integrated circuit, a portion of the gate metal layer is formed in the shape of a ring around the conductive via.
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 21/8252 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie III-V
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 49/02 - Dispositifs à film mince ou à film épais
38.
Differential activated latch for GaN based level shifter
A cross-coupled differential activated latch circuit with circuitry comprising a plurality of n-FETs and inverters that can be implemented completely in GaN. The circuitry prevents the digital latched values on the outputs of the latch from changing unless the digital input values on the inputs are different, thus preventing common-mode voltage on the inputs from corrupting the stored latch values.
H03L 5/00 - Commande automatique de la tension, du courant ou de la puissance
H03K 5/22 - Circuits présentant plusieurs entrées et une sortie pour comparer des impulsions ou des trains d'impulsions entre eux en ce qui concerne certaines caractéristiques du signal d'entrée, p. ex. la pente, l'intégrale
H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ
A cross-coupled differential activated latch circuit with circuitry comprising a plurality of n-FETs and inverters (72, 74) that can be implemented completely in GaN. The circuitry prevents the digital latched values on the outputs of the latch (24, 26) from changing unless the digital input values on the inputs (20, 22) are different, thus preventing common-mode voltage on the inputs (20, 22 being high or 20, 22 being low) from corrupting the stored latch values (20, 22).
A multi-level converter includes a flying capacitor and a resistive voltage divider. The multi-level converter is configured to convert an input voltage into an output voltage. The resistive voltage divider is configured to charge a flying capacitor in the multi-level converter during an initial charging mode of operation. In some implementations, the multi-level converter includes a plurality of flying capacitors and a plurality of resistive voltage dividers including a resistive voltage divider for each flying capacitor in the plurality of flying capacitors.
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
H02M 1/36 - Moyens pour mettre en marche ou arrêter les convertisseurs
H02M 1/06 - Circuits spécialement adaptés pour rendre non-conducteurs les tubes à décharge ou les dispositifs à semi-conducteurs équivalents, p. ex. thyratrons, thyristors
H02M 3/07 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des résistances ou des capacités, p. ex. diviseur de tension utilisant des capacités chargées et déchargées alternativement par des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande
H02M 7/483 - Convertisseurs munis de sorties pouvant chacune avoir plus de deux niveaux de tension
41.
Multi-level converter with voltage divider for pre-charging flying capacitor
A multi-level converter includes a flying capacitor and a resistive voltage divider. The multi-level converter is configured to convert an input voltage into an output voltage. The resistive voltage divider is configured to charge a flying capacitor in the multi-level converter during an initial charging mode of operation. In some implementations, the multi-level converter includes a plurality of flying capacitors and a plurality of resistive voltage dividers including a resistive voltage divider for each flying capacitor in the plurality of flying capacitors.
H02M 3/07 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des résistances ou des capacités, p. ex. diviseur de tension utilisant des capacités chargées et déchargées alternativement par des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande
H02M 3/158 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs avec commande automatique de la tension ou du courant de sortie, p. ex. régulateurs à commutation comprenant plusieurs dispositifs à semi-conducteurs comme dispositifs de commande finale pour une charge unique
H02M 7/483 - Convertisseurs munis de sorties pouvant chacune avoir plus de deux niveaux de tension
H02M 1/36 - Moyens pour mettre en marche ou arrêter les convertisseurs
H02M 3/06 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des résistances ou des capacités, p. ex. diviseur de tension
42.
Low parasitic inductance structure for power switched circuits
A highly efficient, multi-layered, single component sided circuit board layout design providing reduced parasitic inductance for power switched circuits. Mounted on the top board are one or more transistor switches, one or more loads, and one or more capacitors. The switches and capacitors form a loop with very low parasitic inductance. The loads may be a part of the loop, i.e. in series with the switches and capacitors, or may be connected to two or more nodes of the loop to form additional loops with common vertices. Parallel wide conductors carry the switch load current resulting in a low inductance path for the power loop. The power loop and gate loop current travel in opposite directions and are well separated, minimizing common source inductance (CSI) and maximizing switching speed.
H05K 1/18 - Circuits imprimés associés structurellement à des composants électriques non imprimés
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
A laser-diode driver for Lidar applications with an output stage comprised of two enhancement mode GaN FETs. The output stage includes a driver GaN FET in a traditional common-source configuration, with the drain connected to the cathode of a laser diode and the source connected to ground. The gate of the driver GaN FET is driven by the source of the second, substantially smaller GaN FET in a source-follower configuration, rather than being driven directly by a pre-driver. The source-follower GaN FET has its drain connected to the drain of the common-source driver GaN FET, similar to a Darlington connection used in bipolar devices. The input drive signal from the pre-driver is applied at the gate of the source-follower GaN FET. The current required to turn on the driver GaN FET is thereby drawn from a main power supply through the laser diode, rather than from the power supply for the pre-driver, improving overall current efficiency.
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
H03K 17/00 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts
H03K 17/51 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés
H03K 17/56 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs
A laser-diode driver for Lidar applications with an output stage comprised of two enhancement mode GaN FETs. The output stage includes a driver GaN FET in a traditional common-source configuration, with the drain connected to the cathode of a laser diode and the source connected to ground. The gate of the driver GaN FET is driven by the source of the second, substantially smaller GaN FET in a source-follower configuration, rather than being driven directly by a pre-driver. The source-follower GaN FET has its drain connected to the drain of the common-source driver GaN FET, similar to a Darlington connection used in bipolar devices. The input drive signal from the pre-driver is applied at the gate of the source-follower GaN FET. The current required to turn on the driver GaN FET is thereby drawn from a main power supply through the laser diode, rather than from the power supply for the pre-driver, improving overall current efficiency.
A gallium nitride (GaN) transistor which includes multiple insulator semiconductor interface regions. Two or more first insulator segments and two or more second insulator segments are positioned between the gate and drain contacts and interleaved together. At least one first insulator segment is nearer to the gate contact than the second insulator segments. At least one second insulator segment is nearer to the drain contact than the first insulator segments. The first and second insulators are chosen such that a net electron donor density above the channel under the first insulator segments is lower than a net electron density above the channel under the second insulator segments. The first insulator segments reduce gate leakage and electric fields near the gate that cause high gate-drain charge. The second insulator segments reduce electric fields near the drain contact and provide a high density of charge in the channel for reduced on-resistance.
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
H01L 29/51 - Matériaux isolants associés à ces électrodes
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
A gallium nitride (GaN) transistor which includes multiple insulator semiconductor interface regions. Two or more first insulator segments and two or more second insulator segments are positioned between the gate and drain contacts and interleaved together. At least one first insulator segment is nearer to the gate contact than the second insulator segments. At least one second insulator segment is nearer to the drain contact than the first insulator segments. The first and second insulators are chosen such that a net electron donor density above the channel under the first insulator segments is lower than a net electron density above the channel under the second insulator segments. The first insulator segments reduce gate leakage and electric fields near the gate that cause high gate-drain charge. The second insulator segments reduce electric fields near the drain contact and provide a high density of charge in the channel for reduced on-resistance.
H01L 29/207 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV caractérisés en outre par le matériau de dopage
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
H01L 29/205 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV comprenant plusieurs composés dans différentes régions semi-conductrices
H01L 29/51 - Matériaux isolants associés à ces électrodes
An integrated circuit that includes a plurality of GaN transistor sets. A first set of the plurality of GaN transistor sets includes transistors with a first drain-to-source distance, and wherein a second of the plurality of GaN transistor sets includes transistors with a second drain-to-source distance that is greater than the first drain-to-source distance.
H01L 27/12 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
H02M 3/335 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu avec transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrodes de commande pour produire le courant alternatif intermédiaire utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H02M 3/158 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs avec commande automatique de la tension ou du courant de sortie, p. ex. régulateurs à commutation comprenant plusieurs dispositifs à semi-conducteurs comme dispositifs de commande finale pour une charge unique
H02M 1/42 - Circuits ou dispositions pour corriger ou ajuster le facteur de puissance dans les convertisseurs ou les onduleurs
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
G01R 19/00 - Dispositions pour procéder aux mesures de courant ou de tension ou pour en indiquer l'existence ou le signe
G01R 33/07 - Mesure de la direction ou de l'intensité de champs magnétiques ou de flux magnétiques en utilisant des dispositifs galvano-magnétiques des dispositifs à effet Hall
H01F 21/04 - Inductances ou transformateurs variables du type pour signaux continûment variables, p. ex. variomètres par déplacement relatif de spires ou de parties d'enroulements
H03K 5/153 - Dispositions dans lesquelles une impulsion est délivrée à l'instant où une caractéristique prédéterminée d'un seuil d'entrée est présente, ou après un intervalle de temps fixé suivant cet instant
49.
Magnetic field pulse current sensing for timing-sensitive circuits
G01R 31/02 - Essai des appareils, des lignes ou des composants électriques pour y déceler la présence de courts-circuits, de discontinuités, de fuites ou de connexions incorrectes de lignes
G01R 19/00 - Dispositions pour procéder aux mesures de courant ou de tension ou pour en indiquer l'existence ou le signe
G01R 33/09 - Mesure de la direction ou de l'intensité de champs magnétiques ou de flux magnétiques en utilisant des dispositifs galvano-magnétiques des dispositifs magnéto-résistifs
G01R 33/06 - Mesure de la direction ou de l'intensité de champs magnétiques ou de flux magnétiques en utilisant des dispositifs galvano-magnétiques
50.
Level shifter in half bridge GaN driver applications
A direct-coupled level shifter to level shift a ground referenced input logic signal to an output logic signal that can have either a positive or negative reference. The level shifter includes two level shift drivers, each of which includes a positive level shift driver and a negative level shift driver. The positive level shift drivers operate when the reference of the latch is above ground and turn off when the reference is below ground. Similarly, the negative level shift drivers operate when the reference is below ground and turn off when the reference is above ground. The output logic signal is based on the output from the positive level shift driver receiving the input signal and the output from the negative level shift driver receiving an inverse of the input signal. The inverse of the output logic signal is based on the output from the positive level shift driver receiving an inverse of the input signal and the output from the negative level shift driver receiving the input signal.
A direct-coupled level shifter to level shift a ground referenced input logic signal to an output logic signal that can have either a positive or negative reference. The level shifter includes two level shift drivers, each of which includes a positive level shift driver and a negative level shift driver. The positive level shift drivers operate when the reference of the latch is above ground and turn off when the reference is below ground. Similarly, the negative level shift drivers operate when the reference is below ground and turn off when the reference is above ground. The output logic signal is based on the output from the positive level shift driver receiving the input signal and the output from the negative level shift driver receiving an inverse of the input signal. The inverse of the output logic signal is based on the output from the positive level shift driver receiving an inverse of the input signal and the output from the negative level shift driver receiving the input signal.
A multi-channel current pulse generator for driving a plurality of loads with unique positive terminals and a shared negative terminal. The pulse generator comprises a pulse control transistor and, for each load, a load capacitor and a charging control transistor. The pulse control transistor allows or blocks current pulses through the loads and has a drain terminal connected to the shared negative terminal, a source terminal connected to ground, and a gate terminal for receiving a load driver control signal. The load capacitors are discharged by current pulses through the corresponding loads. The charging control transistors allow or block charging currents for the corresponding load capacitors. The pulse control transistor is preferably an enhancement mode GaN FET and is chosen to withstand current pulses through a maximum number of loads to be driven simultaneously.
H03K 3/57 - Générateurs caractérisés par le type de circuit ou par les moyens utilisés pour produire des impulsions par l'utilisation d'un élément accumulant de l'énergie déchargé dans une charge par un dispositif interrupteur commandé par un signal extérieur et ne comportant pas de réaction positive le dispositif de commutation étant un dispositif à semi-conducteurs
H03K 3/02 - Générateurs caractérisés par le type de circuit ou par les moyens utilisés pour produire des impulsions
H03K 3/53 - Générateurs caractérisés par le type de circuit ou par les moyens utilisés pour produire des impulsions par l'utilisation d'un élément accumulant de l'énergie déchargé dans une charge par un dispositif interrupteur commandé par un signal extérieur et ne comportant pas de réaction positive
53.
Multi-channel pulse current generator with charging
A multi-channel current pulse generator for driving a plurality of loads with unique positive terminals and a shared negative terminal. The pulse generator comprises a pulse control transistor and, for each load, a load capacitor and a charging control transistor. The pulse control transistor allows or blocks current pulses through the loads and has a drain terminal connected to the shared negative terminal, a source terminal connected to ground, and a gate terminal for receiving a load driver control signal. The load capacitors are discharged by current pulses through the corresponding loads. The charging control transistors allow or block charging currents for the corresponding load capacitors. The pulse control transistor is preferably an enhancement mode GaN FET and is chosen to withstand current pulses through a maximum number of loads to be driven simultaneously.
G05F 3/24 - Régulation de la tension ou du courant là où la tension ou le courant sont continus utilisant des dispositifs non commandés à caractéristiques non linéaires consistant en des dispositifs à semi-conducteurs en utilisant des combinaisons diode-transistor dans lesquelles les transistors sont uniquement du type à effet de champ
H02J 7/34 - Fonctionnement en parallèle, dans des réseaux, de batteries avec d'autres sources à courant continu, p. ex. batterie tampon
H02J 7/00 - Circuits pour la charge ou la dépolarisation des batteries ou pour alimenter des charges par des batteries
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
55.
Cascaded bootstrapping GaN power switch and driver
A cascaded bootstrapping gate driver configured to provide quick turn-on of a high side power FET and low static current consumption. The cascaded bootstrapping gate driver includes an initial bootstrapping stage with a resistor to decrease static current consumption during transistor turn-off. A secondary bootstrapping stage is driven by the initial bootstrapping stage and includes a GaN FET transistor with a low on resistance in place of the resistor. The source terminal of the GaN FET transistor provides a gate driving voltage to the high side power switch FET. The low on-resistance of the GaN FET transistor provides quick turn-on of the high side power FET. Transistors in the cascaded bootstrapping gate driver are preferably enhancement mode GaN FETs and may be integrated into a single semiconductor die.
H03K 17/06 - Modifications pour assurer un état complètement conducteur
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
An enhancement mode GaN FET based gate driver circuit including an active pre-driver to drive a high-slew rate, high current output stage GaN FET. Due to the active driver current from the pre-driver, the output stage pull-up FET can turn on faster as compared to a pre-driver that utilizes a passive pull-up load. The active pre-driver must provide a voltage to drive the gate of the output stage pull-up FET which is higher than the normal supply voltage to enable the maximum output level of the driver FET to approach the normal supply voltage. A feedback circuit is included in the active pre-driver to avoid the need for two supply voltages.
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
57.
GaN based fail-safe shutdown of high-current drivers
A driver shutdown circuit configured to trigger driver shutdown based on the magnitude and duration of the driving current. A first GaN FET is connected to a second GaN FET and an input node and generates a discharging current proportional to the driving current. The discharging current is drawn from a timer capacitor through the first and second GaN FETs. The second GaN FET receives a control signal and stops flow of the discharging current in between driver pulses so a pre-charger circuit can recharge the timer capacitor to a particular voltage. The discharging current drains the timer capacitor, and a shutdown signal generator outputs a shutdown signal to the driver in response to the voltage on the timer capacitor decreasing below a triggering voltage.
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H03K 17/30 - Modifications pour fournir un seuil prédéterminé avant commutation
An enhancement mode GaN FET based gate driver circuit including an active pre-driver to drive a high-slew rate, high current output stage GaN FET. Due to the active driver current from the pre-driver, the output stage pull-up FET can turn on faster as compared to a pre-driver that utilizes a passive pull-up load. The active pre-driver must provide a voltage to drive the gate of the output stage pull-up FET which is higher than the normal supply voltage to enable the maximum output level of the driver FET to approach the normal supply voltage. A feedback circuit is included in the active pre-driver to avoid the need for two supply voltages.
H03K 17/042 - Modifications pour accélérer la commutation par réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande
H03K 19/01 - Modifications pour accélérer la commutation
H03K 19/02 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion utilisant des éléments spécifiés
H03K 19/08 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion utilisant des éléments spécifiés utilisant des dispositifs à semi-conducteurs
H03K 19/094 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion utilisant des éléments spécifiés utilisant des dispositifs à semi-conducteurs utilisant des transistors à effet de champ
59.
CASACADED BOOTSTRAPPING GaN POWER SWITCH AND DRIVER
A cascaded bootstrapping gate driver configured to provide quick turn-on of a high side power switch FET and low static current consumption. An initial bootstrapping stage includes a resistor to decrease static current consumption during transistor turn-off. A secondary bootstrapping stage includes a GaN FET transistor with a low on resistance driven by the initial bootstrapping stage. A source terminal of the GaN FET transistor is configured to provide a gate driving voltage to the high side power switch FET. The low on resistance of the GaN FET transistor provides quick turn-on of the high side power switch FET. Transistors in the cascaded bootstrapping gate driver are preferably enhancement mode GaN FETs and may be integrated into a single semiconductor die.
H03K 17/06 - Modifications pour assurer un état complètement conducteur
H03K 19/01 - Modifications pour accélérer la commutation
H02M 3/07 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des résistances ou des capacités, p. ex. diviseur de tension utilisant des capacités chargées et déchargées alternativement par des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande
A lateral power semiconductor device with a metal interconnect layout for low on-resistance. The metal interconnect layout includes first, second, and third metal layers, each of which include source bars and drain bars. Source bars in the first, second, and third metal layers are electrically connected. Drain bars in the first, second, and third metal layers are electrically connected. In one embodiment, the first and second metal layers are parallel, and the third metal layer is perpendicular to the first and second metal layers. In another embodiment, the first and third metal layer are parallel, and the second metal layer is perpendicular to the first and third metal layers. A nonconductive layer ensures solder bumps electrically connect to only source bars or only drain bars. As a result, a plurality of available pathways exists and enables current to take any of the plurality of available pathways.
H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H03K 17/00 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts
H03K 5/24 - Circuits présentant plusieurs entrées et une sortie pour comparer des impulsions ou des trains d'impulsions entre eux en ce qui concerne certaines caractéristiques du signal d'entrée, p. ex. la pente, l'intégrale la caractéristique étant l'amplitude
G01S 17/89 - Systèmes lidar, spécialement adaptés pour des applications spécifiques pour la cartographie ou l'imagerie
62.
GAN BASED FAIL-SAFE SHUTDOWN OF HIGH-CURRENT DRIVERS
A driver shutdown circuit configured to trigger driver shutdown based on the magnitude and duration of the driving current. A first GaN FET is connected to a second GaN FET and an input node and generates a discharging current proportional to the driving current. The discharging current is drawn from a timer capacitor through the first and second GaN FETs. The second GaN FET receives a control signal and stops flow of the discharging current in between driver pulses so a pre-charger circuit can recharge the timer capacitor to a particular voltage. The discharging current drains the timer capacitor, and a shutdown signal generator outputs a shutdown signal to the driver in response to the voltage on the timer capacitor decreasing below a triggering voltage.
H03K 17/08 - Modifications pour protéger le circuit de commutation contre la surintensité ou la surtension
H03K 17/0812 - Modifications pour protéger le circuit de commutation contre la surintensité ou la surtension sans réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande par des dispositions prises dans le circuit de commande
H03K 17/082 - Modifications pour protéger le circuit de commutation contre la surintensité ou la surtension par réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande
H03K 17/51 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés
H03K 17/56 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs
A lateral power semiconductor device with a metal interconnect layout for low on-resistance. The metal interconnect layout includes first, second, and third metal layers, each of which include source bars and drain bars. Source bars in the first, second, and third metal layers are electrically connected. Drain bars in the first, second, and third metal layers are electrically connected. In one embodiment, the first and second metal layers are parallel, and the third metal layer is perpendicular to the first and second metal layers. In another embodiment, the first and third metal layer are parallel, and the second metal layer is perpendicular to the first and third metal layers. A nonconductive layer ensures solder bumps electrically connect to only source bars or only drain bars. As a result, a plurality of available pathways exists and enables current to take any of the plurality of available pathways.
H01L 23/20 - Matériaux de remplissage caractérisés par le matériau ou par ses propriétes physiques ou chimiques, ou par sa disposition à l'intérieur du dispositif complet gazeux à la température normale de fonctionnement du dispositif
64.
CURRENT PULSE GENERATOR WITH INTEGRATED BUS BOOST CIRCUIT
A current pulse generator circuit configured to be monolithically integrated into a single semiconductor die and provide high pulsing frequencies. A first GaN FET transistor controls the charging of a capacitor in a boost converter. A second GaN FET transistor controls the discharging of the capacitor through a load, such as a laser diode, connected to the boost converter. Both GaN FET transistors are preferably enhancement mode GaN FETs and may be integrated into the single semiconductor die, together with gate drivers. The diode in a conventional boost converter circuit can also be implemented in the present invention as a GaN FET transistor, and also integrated into the single semiconductor die.
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
H02M 3/158 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs avec commande automatique de la tension ou du courant de sortie, p. ex. régulateurs à commutation comprenant plusieurs dispositifs à semi-conducteurs comme dispositifs de commande finale pour une charge unique
H02M 3/335 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu avec transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrodes de commande pour produire le courant alternatif intermédiaire utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
65.
Current pulse generator with integrated bus boost circuit
A current pulse generator circuit configured to be monolithically integrated into a single semiconductor die and provide high pulsing frequencies. A first GaN FET transistor controls the charging of a capacitor in a boost converter. A second GaN FET transistor controls the discharging of the capacitor through a load, such as a laser diode, connected to the boost converter. Both GaN FET transistors are preferably enhancement mode GaN FETs and may be integrated into the single semiconductor die, together with gate drivers. The diode in a conventional boost converter circuit can also be implemented in the present invention as a GaN FET transistor, and also integrated into the single semiconductor die.
H02M 3/158 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs avec commande automatique de la tension ou du courant de sortie, p. ex. régulateurs à commutation comprenant plusieurs dispositifs à semi-conducteurs comme dispositifs de commande finale pour une charge unique
H03K 5/02 - Mise en forme d'impulsions par amplification
H02M 1/42 - Circuits ou dispositions pour corriger ou ajuster le facteur de puissance dans les convertisseurs ou les onduleurs
66.
Common gate amplifier with high isolation from output to input
A common gate amplifier circuit configured to provide decreased voltage transients in the input voltage due to reverse gain. A second FET transistor is connected in series with a first FET of the common gate amplifier to function as an additional capacitive voltage divider between the amplifier output and the amplifier input without influencing the input or output currents. The first FET transistor, coupled to the amplifier input, may be a low voltage FET and smaller than the second FET transistor, which is coupled to the amplifier output. Both FET transistors are preferably enhancement mode GaN FET transistors and may be integrated into a single semiconductor chip with a single internal bias voltage divider.
H03F 3/16 - Amplificateurs comportant comme éléments d'amplification uniquement des tubes à décharge ou uniquement des dispositifs à semi-conducteurs comportant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs avec dispositifs à effet de champ
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
67.
Wireless power receiver synchronization detection circuit
A wireless power receiver circuit includes an active rectifier circuit with a plurality of power transistors, wherein the active rectifier circuit is configured to rectify an induced AC receiver current. The wireless power receiver circuit includes also includes a gate drive controller circuit configured to sense the induced AC receiver current and to provide gate drive signals for the plurality of power transistors synchronized with the induced AC receiver current. The gate drive controller circuit includes a current sense circuit configured to provide two voltage signals having a difference proportional to the induced AC receiver current.
H02J 50/12 - Circuits ou systèmes pour l'alimentation ou la distribution sans fil d'énergie électrique utilisant un couplage inductif du type couplage à résonance
H02M 7/219 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans une configuration en pont
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
H02J 7/02 - Circuits pour la charge ou la dépolarisation des batteries ou pour alimenter des charges par des batteries pour la charge des batteries par réseaux à courant alternatif au moyen de convertisseurs
H02M 1/00 - Détails d'appareils pour transformation
Circuits, structures and techniques for independently connecting a surrounding material in a part of a semiconductor device to a contact of its respective device. To achieve this, a combination of one or more conductive wells that are electrically isolated in at least one bias polarity are provided.
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 27/085 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ
H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
H01L 21/8252 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie III-V
H01L 21/8258 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une combinaison de technologies couvertes par les groupes , , ou
H01L 23/535 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions internes, p. ex. structures d'interconnexions enterrées
A large area wireless power system having a synchronization transmitter and a plurality of synchronization receivers for receiving a plurality of differential signals from the synchronization transmitter and outputting a plurality of second single-ended signals. The synchronization transmitter generates a first single-ended signal and converts the first single-ended signal into the plurality of differential signals to be transmitted to the synchronization receivers over a plurality of differential line pairs that also provide power to the synchronization receivers. The large area wireless power system also includes a plurality of high power amplifiers for receiving the plurality of second single-ended signals from the respective synchronization receivers and generating power, and a plurality of wireless power coils for receiving the power generated by the plurality of high power amplifiers and wirelessly providing power.
H02J 50/12 - Circuits ou systèmes pour l'alimentation ou la distribution sans fil d'énergie électrique utilisant un couplage inductif du type couplage à résonance
H02J 17/00 - Systèmes pour l'alimentation ou la distribution d'énergie par ondes électromagnétiques
H02J 50/40 - Circuits ou systèmes pour l'alimentation ou la distribution sans fil d'énergie électrique utilisant plusieurs dispositifs de transmission ou de réception
H02J 50/70 - Circuits ou systèmes pour l'alimentation ou la distribution sans fil d'énergie électrique mettant en œuvre la réduction des champs de fuite électriques, magnétiques ou électromagnétiques
A large area wireless power system having a synchronization transmitter and a plurality of synchronization receivers for receiving a plurality of differential signals from the synchronization transmitter and outputting a plurality of second single-ended signals. The synchronization transmitter generates a first single-ended signal and converts the first single-ended signal into the plurality of differential signals to be transmitted to the synchronization receivers over a plurality of differential line pairs that also provide power to the synchronization receivers. The large area wireless power system also includes a plurality of high power amplifiers for receiving the plurality of second single-ended signals from the respective synchronization receivers and generating power, and a plurality of wireless power coils for receiving the power generated by the plurality of high power amplifiers and wirelessly providing power.
H02J 50/40 - Circuits ou systèmes pour l'alimentation ou la distribution sans fil d'énergie électrique utilisant plusieurs dispositifs de transmission ou de réception
H03F 3/217 - Amplificateurs de puissance de classe DAmplificateurs à commutation
H02J 50/12 - Circuits ou systèmes pour l'alimentation ou la distribution sans fil d'énergie électrique utilisant un couplage inductif du type couplage à résonance
A power converter in which two power FETs are provided in a full bridge arrangement with two diodes for supplying a rectified voltage to a load. The gates of the power FETs receive alternating and opposite voltage waveforms such that the power FETs conduct oppositely to each other. A turn-off FET is connected to the gate of each power FET to prevent spurious turn on of the power FET during periods in which the opposite power FET is turned on. A voltage sense FET is also connected to the gate of each power FET to limit the gate voltage of the power FET. The voltage sense FETs are each synchronously modulated with the corresponding power FET to limit the gate to source voltage of the voltage sense FET when the corresponding turn-off FET is on and the corresponding power FET is off.
H02M 7/217 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H02M 1/088 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques pour la commande simultanée de dispositifs à semi-conducteurs connectés en série ou en parallèle
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
72.
Low voltage drop cascaded synchronous bootstrap supply circuit
A cascaded synchronous bootstrap supply circuit with reduced voltage drop between the cascaded bootstrap capacitors by replacing bootstrap diodes with gallium nitride (GaN) transistors. GaN transistors have a much lower forward voltage drop than diodes, thus providing a cascaded gate driver bootstrap supply circuit with a reduced drop in bootstrap capacitor voltage, which is particularly important as the number of levels increases.
H02M 1/088 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques pour la commande simultanée de dispositifs à semi-conducteurs connectés en série ou en parallèle
H03K 17/06 - Modifications pour assurer un état complètement conducteur
H02M 3/00 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu
G05F 1/46 - Régulation de la tension ou de l'intensité là où la variable effectivement régulée par le dispositif de réglage final est du type continu
73.
Enhancement-mode GaN transistor with selective and nonselective etch layers for improved uniformity in GaN spacer thickness
An enhancement-mode transistor gate structure which includes a spacer layer of GaN disposed above a barrier layer, a first layer of pGaN above the spacer layer, an etch stop layer of p-type Al-containing column III-V material, for example, pAlGaN or pAlInGaN, disposed above the first p-GaN layer, and a second p-GaN layer, having a greater thickness than the first p-GaN layer, disposed over the etch stop layer. The etch stop layer minimizes damage to the underlying barrier layer during gate etching steps, and improves GaN spacer thickness uniformity.
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 29/43 - Electrodes caractérisées par les matériaux dont elles sont constituées
H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p. ex. gravure électrolytique
H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 21/285 - Dépôt de matériaux conducteurs ou isolants pour les électrodes à partir d'un gaz ou d'une vapeur, p. ex. condensation
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
74.
ENHANCEMENT-MODE GaN TRANSISTOR WITH SELECTIVE AND NONSELECTIVE ETCH LAYERS FOR IMPROVED UNIFORMITY IN GaN SPACER THICKNESS
An enhancement-mode transistor gate structure which includes a spacer layer of GaN disposed above a barrier layer, a first layer of pGaN above the spacer layer, an etch stop layer of p-type Al-containing column III-V material, for example, pAlGaN or pAlInGaN, disposed above the first p-GaN layer, and a second p-GaN layer, having a greater thickness than the first p-GaN layer, disposed over the etch stop layer. Any variation across the wafer from etching the etch stop layer and the underlying thin pGaN layer is much less than the variation resulting from etching a thick pGaN layer. The method of the present invention thus leaves a thin layer of GaN above the barrier layer with minimal variation across the wafer.
An integrated DC-DC converter device includes a plurality of GaN transistor sets. A first set of the plurality of GaN transistor sets includes transistors with a first drain-to-source distance, and wherein a second of the plurality of GaN transistor sets includes transistors with a second drain-to-source distance that is greater than the first drain-to-source distance.
H01L 27/12 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
H02M 3/335 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu avec transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrodes de commande pour produire le courant alternatif intermédiaire utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H02M 3/158 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs avec commande automatique de la tension ou du courant de sortie, p. ex. régulateurs à commutation comprenant plusieurs dispositifs à semi-conducteurs comme dispositifs de commande finale pour une charge unique
H02M 1/42 - Circuits ou dispositions pour corriger ou ajuster le facteur de puissance dans les convertisseurs ou les onduleurs
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
A scalable highly resonant wireless power coil structure that is suitable for use across a large surface area. The structure includes a plurality of single turn loops with adjacent loops that are decoupled from each other, yet form part of a single member.
H02J 50/12 - Circuits ou systèmes pour l'alimentation ou la distribution sans fil d'énergie électrique utilisant un couplage inductif du type couplage à résonance
H02J 7/02 - Circuits pour la charge ou la dépolarisation des batteries ou pour alimenter des charges par des batteries pour la charge des batteries par réseaux à courant alternatif au moyen de convertisseurs
H02J 50/40 - Circuits ou systèmes pour l'alimentation ou la distribution sans fil d'énergie électrique utilisant plusieurs dispositifs de transmission ou de réception
77.
LARGE AREA SCALABLE HIGHLY RESONANT WIRELESS POWER COIL
A scalable highly resonant wireless power coil structure that is suitable for use across a large surface area. The structure includes a plurality of single turn loops with adjacent loops decoupled from each other yet form part of a single member.
A circuit for an RF switch using FET transistors that largely cancels the non-linearity of the Coss of the FETs over a majority of the signal range, and reduces distortion. The RF switch includes two substantially identical FETs. The source of one FET is connected to the drain of the other FET and the node formed comprises one terminal of the switch. Two substantially identical capacitors are connected in series with each other and in parallel with the FETs, and the node thus formed comprises the second terminal of the switch. The capacitors are selected such that they have negligible impedance at AC frequencies for which the switch is expected be used, and in particular a much lower impedance than Coss of each FET. A voltage source with a series impedance is also connected in parallel with the capacitors and the two FETs.
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
H03K 17/00 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts
H03K 17/56 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs
H03K 17/16 - Modifications pour éliminer les tensions ou courants parasites
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
H03K 17/693 - Dispositifs de commutation comportant plusieurs bornes d'entrée et de sortie, p. ex. multiplexeurs, distributeurs
80.
Bootstrap capacitor over-voltage management circuit for GaN transistor based power converters
A drive circuit for a half bridge transistor circuit formed of enhancement mode GaN transistors. A shunt diode is connected to the bootstrap capacitor at a node between the bootstrap capacitor and ground, the shunt diode being decoupled from the midpoint node of the half bridge by a shunt resistor. The shunt diode advantageously provides a low voltage drop path to charge the bootstrap capacitor during the dead-time charging period when both the high side and low side transistors of the half bridge are off.
H03B 1/00 - PRODUCTION D'OSCILLATIONS, DIRECTEMENT OU PAR CHANGEMENT DE FRÉQUENCE, À L'AIDE DE CIRCUITS UTILISANT DES ÉLÉMENTS ACTIFS QUI FONCTIONNENT D'UNE MANIÈRE NON COMMUTATIVEPRODUCTION DE BRUIT PAR DE TELS CIRCUITS Détails
H03K 3/00 - Circuits pour produire des impulsions électriquesCircuits monostables, bistables ou multistables
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
G05F 1/571 - Régulation de la tension ou de l'intensité là où la variable effectivement régulée par le dispositif de réglage final est du type continu utilisant des dispositifs à semi-conducteurs en série avec la charge comme dispositifs de réglage final sensible à une condition du système ou de sa charge en plus des moyens sensibles aux écarts de la sortie du système, p. ex. courant, tension, facteur de puissance à des fins de protection avec détecteur de surtension
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H02M 3/158 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs avec commande automatique de la tension ou du courant de sortie, p. ex. régulateurs à commutation comprenant plusieurs dispositifs à semi-conducteurs comme dispositifs de commande finale pour une charge unique
H03K 17/042 - Modifications pour accélérer la commutation par réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande
H03K 17/06 - Modifications pour assurer un état complètement conducteur
H03K 17/0812 - Modifications pour protéger le circuit de commutation contre la surintensité ou la surtension sans réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande par des dispositions prises dans le circuit de commande
H03K 17/567 - Circuits caractérisés par l'utilisation d'au moins deux types de dispositifs à semi-conducteurs, p. ex. BIMOS, dispositifs composites tels que IGBT
H02M 1/32 - Moyens pour protéger les convertisseurs autrement que par mise hors circuit automatique
H02M 1/00 - Détails d'appareils pour transformation
81.
BOOTSTRAP CAPACITOR OVER-VOLTAGE MANAGEMENT CIRCUIT FOR GAN TRANSISTOR BASED POWER CONVERTERS
A drive circuit for a half bridge transistor circuit formed of enhancement mode GaN transistors. A shunt diode is connected to the bootstrap capacitor at a node between the bootstrap capacitor and ground, the shunt diode being decoupled from the midpoint node of the half bridge by a shunt resistor. The shunt diode advantageously provides a low voltage drop path to charge the bootstrap capacitor during the dead-time charging period when both the high side and low side transistors of the half bridge are off.
H03K 17/56 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs
H01L 27/00 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H02M 7/538 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant alternatif sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs, p. ex. onduleurs à impulsions à un seul commutateur dans une configuration push-pull
H03K 17/00 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts
H03K 17/51 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés
H03F 1/56 - Modifications des impédances d'entrée ou de sortie, non prévues ailleurs
H03F 3/217 - Amplificateurs de puissance de classe DAmplificateurs à commutation
H02J 50/12 - Circuits ou systèmes pour l'alimentation ou la distribution sans fil d'énergie électrique utilisant un couplage inductif du type couplage à résonance
83.
Multi-step surface passivation structures and methods for fabricating same
gd). A second insulator (or multiple insulators), disposed between the first insulator and the drain, minimizes electric fields at the drain contact and provides a high density of charge in the channel for low on-resistance.
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/51 - Matériaux isolants associés à ces électrodes
H01L 29/205 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV comprenant plusieurs composés dans différentes régions semi-conductrices
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
84.
MULTI-STEP SURFACE PASSIVATION STRUCTURES AND METHODS FOR FABRICATING SAME
A gallium nitride (GaN) transistor which includes two or more insulator semiconductor interface regions (insulators). A first insulator disposed between the gate and drain (near the gate) minimizes the gate leakage and fields near the gate that cause high gate-drain charge (Qgd). A second insulator (or multiple insulators), disposed between the first insulator and the drain, minimizes electric fields at the drain contact and provides a high density of charge in the channel for low on-resistance.
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
H01L 29/205 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV comprenant plusieurs composés dans différentes régions semi-conductrices
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
A fully integrated GaN driver comprising a digital logic signal inverter, a level shifter circuit, a UVLO circuit, an output buffer stage, and (optionally) a FET to be driven, all integrated in a single package. The level shifter circuit converts a ground reference 0-5 V digital signal at the input to a 0-10 V digital signal at the output. The output drive circuitry includes a high side GaN FET that is inverted compared to the low side GaN FET. The inverted high side GaN FET allows switch operation, rather than a source follower topology, thus providing a digital voltage to control the main FET being driven by the circuit.
H03K 3/00 - Circuits pour produire des impulsions électriquesCircuits monostables, bistables ou multistables
H03K 17/04 - Modifications pour accélérer la commutation
H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ
H03K 17/06 - Modifications pour assurer un état complètement conducteur
H03K 17/22 - Modifications pour assurer un état initial prédéterminé quand la tension d'alimentation a été appliquée
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
A fully integrated GaN driver comprising a digital logic signal inverter, a level shifter circuit, a UVLO circuit, an output buffer stage, and (optionally) a FET to be driven, all integrated in a single package. The level shifter circuit converts a ground reference 0-5 V digital signal at the input to a 0-10 V digital signal at the output. The output drive circuitry includes a high side GaN FET that is inverted compared to the low side GaN FET. The inverted high side GaN FET allows switch operation, rather than a source follower topology, thus providing a digital voltage to control the main FET being driven by the circuit.
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
G05F 1/00 - Systèmes automatiques dans lesquels les écarts d'une grandeur électrique par rapport à une ou plusieurs valeurs prédéterminées sont détectés à la sortie et réintroduits dans un dispositif intérieur au système pour ramener la grandeur détectée à sa valeur ou à ses valeurs prédéterminées, c.-à-d. systèmes rétroactifs
H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
H01L 25/07 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans la sous-classe
87.
GaN transistors with polysilicon layers used for creating additional components
A GaN transistor with polysilicon layers for creating additional components for an integrated circuit and a method for manufacturing the same. The GaN device includes an EPI structure and an insulating material disposed over EPI structure. Furthermore, one or more polysilicon layers are disposed in the insulating material with the polysilicon layers having one or more n-type regions and p-type regions. The device further includes metal interconnects disposed on the insulating material and vias disposed in the insulating material layer that connect source and drain metals to the n-type and p-type regions of the polysilicon layer.
H01L 27/12 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 27/085 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ
H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés
H01L 21/76 - Réalisation de régions isolantes entre les composants
H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 21/8258 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une combinaison de technologies couvertes par les groupes , , ou
H01L 29/04 - Corps semi-conducteurs caractérisés par leur structure cristalline, p.ex. polycristalline, cubique ou à orientation particulière des plans cristallins
H01L 29/16 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
88.
Gate with self-aligned ledge for enhancement mode GaN transistors
An enhancement-mode GaN transistor with reduced gate leakage current between a gate contact and a 2DEG region and a method for manufacturing the same. The enhancement-mode GaN transistor including a GaN layer, a barrier layer disposed on the GaN layer with a 2DEG region formed at an interface between the GaN layer and the barrier layer, and source contact and drain contacts disposed on the barrier layer. The GaN transistor further includes a p-type gate material formed above the barrier layer and between the source and drain contacts and a gate metal disposed on the p-type gate material, with wherein the p-type gate material including comprises a pair of self-aligned ledges that extend toward the source contact and drain contact, respectively.
H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 21/283 - Dépôt de matériaux conducteurs ou isolants pour les électrodes
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 21/285 - Dépôt de matériaux conducteurs ou isolants pour les électrodes à partir d'un gaz ou d'une vapeur, p. ex. condensation
H01L 29/205 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV comprenant plusieurs composés dans différentes régions semi-conductrices
An electrical circuit arranged in a half bridge topology. The electrical circuit includes a high side transistor; a low side transistor; a gate driver and level shifter electrically coupled to a gate of the high side transistor; a gate driver electrically coupled to a gate of the low side transistor; a capacitor electrically coupled in parallel with the gate driver and level shifter; a voltage source electrically coupled to an input of the gate driver and level shifter and an input of the gate driver; and, a bootstrap transistor electrically coupled between the voltage source and the capacitor. A GaN field-effect transistor is synchronously switched with a low side device of the half bridge circuit.
H03K 3/00 - Circuits pour produire des impulsions électriquesCircuits monostables, bistables ou multistables
H03K 17/567 - Circuits caractérisés par l'utilisation d'au moins deux types de dispositifs à semi-conducteurs, p. ex. BIMOS, dispositifs composites tels que IGBT
H03K 19/0175 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface
Circuits, structures and techniques for independently connecting a surrounding material in a part of a semiconductor device to a contact of its respective device. To achieve this, a combination of one or more conductive wells that are electrically isolated in at least one bias polarity are provided.
H01L 21/8252 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie III-V
H01L 21/8258 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une combinaison de technologies couvertes par les groupes , , ou
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 27/085 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ
H01L 23/535 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions internes, p. ex. structures d'interconnexions enterrées
H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
An enhancement-mode GaN transistor with reduced gate leakage current between a gate contact and a 2DEG region and a method for manufacturing the same. The enhancement-mode GaN transistor including a GaN layer, a barrier layer disposed on the GaN layer with a 2DEG region formed at an interface between the GaN layer and the barrier layer, and source contact and drain contacts disposed on the barrier layer. The GaN transistor further includes a p-type gate material formed above the barrier layer and between the source and drain contacts and a gate metal disposed on the p-type gate material, with wherein the p-type gate material including comprises a pair of self- aligned ledges that extend toward the source contact and drain contact, respectively.
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 21/283 - Dépôt de matériaux conducteurs ou isolants pour les électrodes
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 21/285 - Dépôt de matériaux conducteurs ou isolants pour les électrodes à partir d'un gaz ou d'une vapeur, p. ex. condensation
H01L 29/205 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV comprenant plusieurs composés dans différentes régions semi-conductrices
92.
Integrated circuit with matching threshold voltages and method for making same
An integrated circuit having a substrate, a buffer layer formed over the substrate, a barrier layer formed over the buffer layer, and an isolation region that isolates an enhancement mode device from a depletion mode device. The integrated circuit further includes a first gate contact for the enhancement mode device that is disposed in one gate contact recess and a second gate contact for the depletion mode device that is disposed in a second gate contact recess.
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 21/8252 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie III-V
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
An electrical circuit arranged in a half bridge topology. The electrical circuit includes a high side transistor; a low side transistor; a gate driver and level shifter electrically coupled to a gate of the high side transistor; a gate driver electrically coupled to a gate of the low side transistor; a capacitor electrically coupled in parallel with the gate driver and level shifter; a voltage source electrically coupled to an input of the gate driver and level shifter and an input of the gate driver; and, a bootstrap transistor electrically coupled between the voltage source and the capacitor. A GaN field-effect transistor is synchronously switched with a low side device of the half bridge circuit.
H03K 3/00 - Circuits pour produire des impulsions électriquesCircuits monostables, bistables ou multistables
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
H03K 17/042 - Modifications pour accélérer la commutation par réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande
H03K 17/16 - Modifications pour éliminer les tensions ou courants parasites
An electrical circuit arranged in a half bridge topology. The electrical circuit includes a high side transistor; a low side transistor; a gate driver and level shifter electrically coupled to a gate of the high side transistor; a gate driver electrically coupled to a gate of the low side transistor; a capacitor electrically coupled in parallel with the gate driver and level shifter; a voltage source electrically coupled to an input of the gate driver and level shifter and an input of the gate driver; and, a bootstrap transistor electrically coupled between the voltage source and the capacitor. A GaN field-effect transistor is synchronously switched with a low side device of the half bridge circuit.
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
95.
GaN transistors with polysilicon layers used for creating additional components
A GaN transistor with polysilicon layers for creating additional components for an integrated circuit and a method for manufacturing the same. The GaN device includes an EPI structure and an insulating material disposed over EPI structure. Furthermore, one or more polysilicon layers are disposed in the insulating material with the polysilicon layers having one or more n-type regions and p-type regions. The device further includes metal interconnects disposed on the insulating material and vias disposed in the insulating material layer that connect source and drain metals to the n-type and p-type regions of the polysilicon layer.
H01L 27/12 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 27/085 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 21/822 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie au silicium
H01L 21/8258 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une combinaison de technologies couvertes par les groupes , , ou
H01L 29/04 - Corps semi-conducteurs caractérisés par leur structure cristalline, p.ex. polycristalline, cubique ou à orientation particulière des plans cristallins
H01L 29/16 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée
H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
96.
Flip chip interconnection with reduced current density
A method and system for electrically connect a semiconductor device with a flip-chip form factor to a printed circuit board. An exemplary embodiment of the method comprises: aligning solder contacts on the device with a first copper contact and a second copper contact of the external circuitry, and, applying a supply current only directly to a buried layer of the first copper and not directly to the layer which is nearest the device, such that no current is sourced to the device through the layer nearest the device.
B23K 3/06 - Dispositifs d'alimentation en métal d'apportCuves de fusion du métal d'apport
H01L 23/482 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p. ex. fils de connexion ou bornes formées de couches conductrices inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
A high efficiency voltage mode class D amplifier and energy transfer system is provided. The amplifier and system includes a pair of transistors connected in series between a voltage source and a ground connection. Further, a ramp current tank circuit is coupled in parallel with one of the pair of transistors and a resonant tuned load circuit is coupled to the ramp current tank circuit. The ramp current tank circuit can include an inductor that absorbs an output capacitance COSS of the pair of transistors and a capacitor the provides DC blocking.
H02J 5/00 - Circuits pour le transfert d'énergie électrique entre réseaux à courant alternatif et réseaux à courant continu
H03F 3/217 - Amplificateurs de puissance de classe DAmplificateurs à commutation
H03F 1/56 - Modifications des impédances d'entrée ou de sortie, non prévues ailleurs
H02J 50/12 - Circuits ou systèmes pour l'alimentation ou la distribution sans fil d'énergie électrique utilisant un couplage inductif du type couplage à résonance
100.
Device and method for bias control of class A power RF amplifier
A circuit and technique are provided to control bias setting to an FET based common source RF amplifier that can operate with large signals present. The circuit and technique described herein use a second FET in an identical circuit having the gate circuits connected in parallel and being sourced by the same drain voltage that serves as a reference to a first circuit bias setting. The drain current in a first FET will include both the bias and RF amplification current, whereas the second FET only carries the bias current. Because the devices and circuits are matched, the gate voltage variations will appear in both FETs thereby providing regulation of the drain current.
H03F 3/21 - Amplificateurs de puissance, p. ex. amplificateurs de classe B, amplificateur de classe C comportant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H03G 3/10 - Commande actionnée manuellement dans des amplificateurs non accordés comportant des dispositifs à semi-conducteurs
H03F 1/02 - Modifications des amplificateurs pour augmenter leur rendement, p. ex. étages classe A à pente glissante, utilisation d'une oscillation auxiliaire
H03F 1/56 - Modifications des impédances d'entrée ou de sortie, non prévues ailleurs
H03F 3/195 - Amplificateurs à haute fréquence, p. ex. amplificateurs radiofréquence comportant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans des circuits intégrés
