- Sections
- H - Électricité
- H05H - Technique du plasma production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutronsproduction ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 1/03 - Dispositions pour confiner le plasma au moyen de champs électriques ou magnétiquesDispositions pour chauffer le plasma utilisant des champs électrostatiques
Détention brevets de la classe H05H 1/03
Brevets de cette classe: 23
Historique des publications depuis 10 ans
|
3
|
6
|
2
|
2
|
2
|
0
|
6
|
3
|
0
|
0
|
| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Torus Tech LLC | 9 |
3 |
| Astral Neutronics Ltd | 3 |
2 |
| Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | 1235 |
1 |
| ABB Schweiz AG | 6873 |
1 |
| Advanced Energy Industries, Inc. | 466 |
1 |
| Advanced Micro-fabrication Equipment, Inc. China | 104 |
1 |
| The Board of Regents for Oklahoma State University | 156 |
1 |
| Energy Matter Conversion Corporation | 2 |
1 |
| Evatec AG | 152 |
1 |
| Johann Wolfgang Goethe-Universität Frankfurt am Main | 158 |
1 |
| Milton Roy, LLC | 47 |
1 |
| Powerdyne, Inc. | 12 |
1 |
| University of Maryland, College Park | 1002 |
1 |
| University of New Hampshire | 172 |
1 |
| Alpha Ring International, Ltd. | 34 |
1 |
| Fusion One Corporation | 1 |
1 |
| Shenzhen Shangligong Science and Technology Development Co., Ltd. | 1 |
1 |
| Tellapure, LLC. | 15 |
1 |
| Chengdu Landmarks Technology Co., Ltd | 1 |
1 |
| Avalanche Energy Designs, Inc. | 10 |
1 |
| Autres propriétaires | 0 |