- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/28 - Masques à décalage de phase [PSM phase shift mask]Substrats pour PSMLeur préparation avec trois phases différentes ou plus sur le même PSMLeur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/28
Brevets de cette classe: 18
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 43064 |
3 |
| Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 4104 |
3 |
| SK Hynix Inc. | 11428 |
2 |
| ULVAC Coating Corporation | 15 |
2 |
| Shanghai Chuanxin Semiconductor Co., Ltd. | 13 |
2 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 147131 |
1 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 31696 |
1 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5676 |
1 |
| Eulitha AG | 31 |
1 |
| Kioxia Corporation | 10334 |
1 |
| Panasonic Semiconductor Solutions Co., Ltd. | 807 |
1 |
| Autres propriétaires | 0 |