- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtementsgalvanoplastiejonction de pièces par électrolyseappareillages à cet effet
- C25D 3/62 - Dépôt électrochimiqueBains utilisés à partir de solutions d'alliages contenant plus de 50% en poids d'or
Détention brevets de la classe C25D 3/62
Brevets de cette classe: 72
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| The Swatch Group Research and Development Ltd | 868 |
8 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 423 |
7 |
| Coventya S.p.A. | 14 |
4 |
| G. Aliprandini | 4 |
4 |
| Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 151 |
3 |
| Eeja Ltd. | 15 |
3 |
| Centre National de La Recherche Scientifique | 10914 |
2 |
| Atotech Deutschland GmbH | 528 |
2 |
| Umicore Galvanotechnik GmbH | 57 |
2 |
| Universite de Franche-comte | 181 |
2 |
| Japan Pure Chemical Co.,Ltd. | 19 |
2 |
| Metalor Technologies (Japan) Corporation | 8 |
2 |
| Italfimet SRL | 5 |
2 |
| Shenzhen United Blue Ocean Applied Materials Technology Co., Ltd. | 6 |
2 |
| Apple Inc. | 58268 |
1 |
| Sumitomo Electric Industries, Ltd. | 16191 |
1 |
| Applied Materials, Inc. | 20145 |
1 |
| Northrop Grumman Systems Corporation | 2937 |
1 |
| LG Innotek Co., Ltd. | 8264 |
1 |
| Microsoft Technology Licensing, LLC | 54289 |
1 |
| Autres propriétaires | 21 |