The present invention provides a culture method of cells and/or tissues including culturing cells and/or tissues in a suspended state by using a medium composition wherein indeterminate structures are formed in a liquid medium, the structures are uniformly dispersed in the solution and substantially retain the cells and/or tissues without substantially increasing the viscosity of the solution, thus affording an effect of preventing sedimentation thereof, and the like
C12N 5/00 - Cellules non différenciées humaines, animales ou végétales, p.ex. lignées cellulaires; Tissus; Leur culture ou conservation; Milieux de culture à cet effet
C12N 5/071 - Cellules ou tissus de vertébrés, p.ex. cellules humaines ou tissus humains
G01N 33/50 - Analyse chimique de matériau biologique, p.ex. de sang ou d'urine; Test par des méthodes faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques par ligands; Test immunologique
A resist underlayer film for lithography does not cause intermixing with a resist layer, has high dry etching resistance and high heat resistance, and generates a low amount of sublimate. A resist underlayer film-forming composition containing a polymer having a unit structure of the following formula (1):
A resist underlayer film for lithography does not cause intermixing with a resist layer, has high dry etching resistance and high heat resistance, and generates a low amount of sublimate. A resist underlayer film-forming composition containing a polymer having a unit structure of the following formula (1):
A resist underlayer film for lithography does not cause intermixing with a resist layer, has high dry etching resistance and high heat resistance, and generates a low amount of sublimate. A resist underlayer film-forming composition containing a polymer having a unit structure of the following formula (1):
wherein A is a divalent group having at least two amino groups, the group is derived from a compound having a condensed ring structure and an aromatic group for substituting a hydrogen atom on the condensed ring, and B1 and B2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, a benzene ring group, a condensed ring group, or a combination thereof, or B1 and B2 optionally form a ring with a carbon atom bonded to B1 and B2.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
C08G 12/26 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones obtenus uniquement avec des composés contenant de l'hydrogène fixé sur de l'azote d'aldéhydes avec des composés hétérocycliques
C09D 161/26 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des composés contenant de l'hydrogène lié à l'azote d'aldéhydes avec des composés hétérocycliques
A resist underlayer film for lithography does not cause intermixing with a resist layer, has high dry etching resistance and high heat resistance, and generates a low amount of sublimate. A resist underlayer film-forming composition containing a polymer having a unit structure of the following formula (1):
2.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
C08G 12/26 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones obtenus uniquement avec des composés contenant de l'hydrogène fixé sur de l'azote d'aldéhydes avec des composés hétérocycliques
C08G 16/02 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones avec des monomères non prévus dans les groupes d'aldéhydes
C09D 161/26 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des composés contenant de l'hydrogène lié à l'azote d'aldéhydes avec des composés hétérocycliques
H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
4.
Amorphous metal oxide semiconductor layer and semiconductor device
Methods for producing the amorphous metal oxide semiconductor layer where amorphous metal oxide semiconductor layer is formed by use of a precursor composition containing a metal salt, a primary amide, and a water-based solution. The methodology for producing the amorphous metal oxide semiconductor layer includes applying the precursor composition onto a substrate to form a precursor film, and firing the film at a temperature of 150° C. or higher and lower than 300° C.
H01L 29/24 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des matériaux semi-conducteurs inorganiques non couverts par les groupes , , ou
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
C04B 35/626 - Préparation ou traitement des poudres individuellement ou par fournées
C04B 35/01 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base d'oxydes
C04B 35/453 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base d'oxydes à base d'oxydes de zinc, d'étain ou de bismuth ou de leurs solutions solides avec d'autres oxydes, p.ex. zincates, stannates ou bismuthates
5.
METHOD FOR PREPARING LIQUID MEDIUM COMPOSITION, AND PREPARATION DEVICE AND KIT THEREFOR
The present invention provides a method capable of easily mixing any liquid containing a linking substance such as a divalent metal cation and the like with a liquid containing a particular compound at a high concentration, and capable of producing a liquid medium composition comprising fine structures dispersed therein, and a production device therefor and a kit therefor. The first liquid containing a particular compound is passed through a through-hole having a given cross-sectional area formed in a nozzle part at a given flow rate and injected into the second liquid at a given flow rate. By this simple operation, a structure in which the particular compound is bonded via the linking substance is formed, and the structure is preferably dispersed in a mixture of the both liquids.
C08B 37/00 - Préparation des polysaccharides non prévus dans les groupes ; Leurs dérivés
C12N 5/00 - Cellules non différenciées humaines, animales ou végétales, p.ex. lignées cellulaires; Tissus; Leur culture ou conservation; Milieux de culture à cet effet
A61J 1/20 - Dispositions pour le transfert des liquides, p.ex. du flacon à la seringue
B01J 19/24 - Réacteurs fixes sans élément interne mobile
C08J 3/205 - Formation de mélanges de polymères avec des additifs, p.ex. coloration en présence d'une phase liquide
6.
METAL OXIDE PARTICLES CONTAINING TITANIUM OXIDE COATED WITH SILICON DIOXIDE-STANNIC OXIDE COMPLEX OXIDE
A substrate is coated with a transparent coating film using a coating liquid for forming a transparent coating film including metal oxide particles and a matrix formation component. The metal oxide particles each include a metal oxide particle containing titanium oxide coated with silicon dioxide-stannic oxide complex oxide, including a titanium oxide-containing core particle; and a coating layer with which the titanium oxide-containing core particle is coated and that is made of silicon dioxide-stannic oxide complex oxide colloidal particles having a mass ratio of silicon dioxide/stannic oxide of 0.1 to 5.0, where one or more intermediate thin film layers that are made of any one of an oxide; a complex oxide of at least one element selected from Si, Al, Sn, Zr, Zn, Sb, Nb, Ta, and W; and a mixture of the oxide and the complex oxide are interposed between the core particle and the coating layer.
C09D 5/00 - Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, caractérisées par leur nature physique ou par les effets produits; Apprêts en pâte
B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p.ex. nanocomposites
A transdermally absorbable base material including: a lipid peptide compound including at least one of compound of Formula (1) below and the similar compounds or pharmaceutically usable salts thereof; a surfactant; a specific polyhydric alcohol; a fatty acid; and water,
2 group, or a 5-membered cyclic group optionally having 1 to 3 nitrogen atoms, a 6-membered cyclic group optionally having 1 to 3 nitrogen atoms, or a condensed heterocyclic group constituted by a 5-membered cyclic group and a 6-membered cyclic group which optionally have 1 to 3 nitrogen atoms.
A61K 8/64 - Protéines; Peptides; Leurs dérivés ou produits de dégradation
A61K 47/26 - Hydrates de carbone, p.ex. polyols ou sucres alcoolisés, sucres aminés, acides nucléiques, mono-, di- ou oligosaccharides; Leurs dérivés, p.ex. polysorbates, esters d’acide gras de sorbitan ou glycyrrhizine
A61Q 19/00 - Préparations pour les soins de la peau
8.
Film forming composition containing fluorine-containing surfactant
3-5 perfluoroalkyl partial structure. The perfluoroalkyl partial structure may further include an alkyl partial structure. The surfactant is contained in an amount of 0.0001% by mass to 1.5% by mass based on the total solid content of the film forming composition. The film forming composition further includes a coating film resin, the coating film resin is a novolac resin, a condensation epoxy resin, a (meth)acrylic resin, a polyether-based resin, or a silicon-containing resin, etc. The formed film can be used as a resist underlayer film or a resist overlayer film.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
C08L 33/14 - Homopolymères ou copolymères des esters d'esters contenant des atomes d'halogène, d'azote, de soufre ou d'oxygène en plus de l'oxygène du radical carboxyle
G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
G03F 7/30 - Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
C08L 101/04 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par la présence de groupes déterminés contenant des atomes d'halogènes
C08L 101/00 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés
9.
Composition for forming resist underlayer film and method for forming resist pattern using same
A method includes applying a composition for forming a resist underlayer film to a substrate having a recess in a surface, and baking the composition for forming a resist underlayer film to form a resist underlayer film for filling at least the recess. The composition for forming a resist underlayer film has a copolymer having a structural unit of following formula (1), a cross-linkable compound, a cross-linking catalyst, and a solvent:
1-3 alkylene group or a single bond, Z is an —O— group, a —S— group, or a —S—S— group, and Ar is an arylene group.
A resist underlayer film-forming composition includes a resin; and a crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2):
A resist underlayer film-forming composition includes a resin; and a crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2):
A resist underlayer film-forming composition includes a resin; and a crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2):
wherein the crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2) is a compound obtained by reacting a compound of Formula (3) or Formula (4):
A resist underlayer film-forming composition includes a resin; and a crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2):
wherein the crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2) is a compound obtained by reacting a compound of Formula (3) or Formula (4):
A resist underlayer film-forming composition includes a resin; and a crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2):
wherein the crosslinkable compound of Formula (1) or Formula (2) is a compound obtained by reacting a compound of Formula (3) or Formula (4):
with an ether compound comprising a hydroxy group or a C2-10 alcohol.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
C09D 161/22 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des composés contenant de l'hydrogène lié à l'azote d'aldéhydes avec des composés acycliques ou carbocycliques
C09D 161/06 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols d'aldéhydes avec des phénols
Photoreactive liquid crystal composition, display element, optical element, method for manufacturing display element, and method for manufacturing optical element
A photoreactive liquid crystal composition containing (A) a photoreactive polymer liquid crystal which includes a photoreactive side chain in which at least one type of reaction selected from (A-1) photocrosslinking and (A-2) photoisomerization occurs, and (B) a low molecular weight liquid crystal. An optical element or display element is formed having a liquid crystal cell including the photoreactive liquid crystal composition.
C09K 19/32 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant des systèmes cycliques condensés, c. à d. systèmes cycliques condensés en ortho ou en péri, pontés ou condensés en spiro
C09K 19/06 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides
C09K 19/20 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant au moins deux cycles benzéniques liés par une chaîne contenant des atomes de carbone et d'oxygène comme chaînons, p.ex. esters
C09K 19/14 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant au moins deux cycles benzéniques liés par une chaîne carbonée
C09K 19/30 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant des cycles non aromatiques saturés ou insaturés, p.ex. cycle cyclohexanique
C09K 19/12 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant au moins deux cycles benzéniques au moins deux cycles benzéniques directement liés, p.ex. biphényles
C09K 19/44 - Mélanges de composés formant des cristaux liquides couverts par plus d'un groupe précédent contenant des composés à noyaux benzéniques directement liés
C09K 19/04 - Substances formant des cristaux liquides caractérisées par la structure chimique des constituants formant des cristaux liquides
G03H 1/02 - Procédés ou appareils holographiques utilisant la lumière, les infrarouges ou les ultraviolets pour obtenir des hologrammes ou pour en obtenir une image; Leurs détails spécifiques - Détails
12.
Electroconductive film and method for manufacturing electroconductive pattern
A method for manufacturing an electroconductive pattern 40, provided with: a lamination step for laminating an acid generation film 10 containing an acid proliferation agent and a photoacid generator on a polymer film 20 containing an electroconductive polymer formed on a substrate 21; a masking step for masking the top of the acid generation film 10; a light irradiation step for irradiating the laminate from the acid-generation-film 10 side; a doping step for doping the electroconductive polymer with an acid generated and proliferated in the acid generation film 10 by the light irradiation; and a releasing step for releasing the acid generation film 10 from the polymer film 20. This method makes it possible to provide an electroconductive film and a method for manufacturing an electroconductive pattern in which photoacid generation and acid proliferation effects are utilized.
G03F 7/34 - Dépouillement selon l'image par transfert sélectif, p.ex. par arrachement
H01B 1/12 - Conducteurs ou corps conducteurs caractérisés par les matériaux conducteurs utilisés; Emploi de matériaux spécifiés comme conducteurs composés principalement d'autres substances non métalliques substances organiques
H01B 13/00 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de conducteurs ou câbles
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
C03C 17/28 - Traitement de surface du verre, p.ex. du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement par des matières organiques
H01B 5/14 - Conducteurs ou corps conducteurs non isolés caractérisés par la forme comprenant des couches ou pellicules conductrices sur supports isolants
13.
Culture medium composition and method of culturing cell or tissue using thereof
The present invention provides a culture method of cells and/or tissues including culturing cells and/or tissues in a suspended state by using a medium composition wherein indeterminate structures are formed in a liquid medium, the structures are uniformly dispersed in the solution and substantially retain the cells and/or tissues without substantially increasing the viscosity of the solution, thus affording an effect of preventing sedimentation thereof, and the like.
C12N 5/00 - Cellules non différenciées humaines, animales ou végétales, p.ex. lignées cellulaires; Tissus; Leur culture ou conservation; Milieux de culture à cet effet
G01N 33/50 - Analyse chimique de matériau biologique, p.ex. de sang ou d'urine; Test par des méthodes faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques par ligands; Test immunologique
C12N 5/071 - Cellules ou tissus de vertébrés, p.ex. cellules humaines ou tissus humains
1 is an organic group of Formula (2):
3 is an alkoxy group, an acyloxy group, or a halogen group; a is an integer of 1; b is an integer of 0 to 2; and a+b is an integer of 1 to 3], and a ratio of sulfur atoms to silicon atoms is 7% by mole or more in the whole of the silane. A resist underlayer film obtained by applying the resist underlayer film-forming composition onto a semiconductor substrate and baking it.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
C08G 77/28 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène groupes contenant du soufre
G03F 7/26 - Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
C09D 183/08 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène
G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
Provided is a method for manufacturing a carbonaceous luminescent material in which a polycarboxylic-acid-containing starting material, an acid catalyst, and a solvent are mixed together and heated.
A transdermally absorbable base material including: a lipid peptide compound including at least one of compound of Formula (1) below and the similar compounds or pharmaceutically usable salts thereof; a surfactant; a specific polyhydric alcohol; a fatty acid; and water,
2 group, or a 5-membered cyclic group optionally having 1 to 3 nitrogen atoms, a 6-membered cyclic group optionally having 1 to 3 nitrogen atoms, or a condensed heterocyclic group constituted by a 5-membered cyclic group and a 6-membered cyclic group which optionally have 1 to 3 nitrogen atoms.
A61K 9/00 - Préparations médicinales caractérisées par un aspect particulier
A61K 47/10 - Alcools; Phénols; Leurs sels, p.ex. glycérol; Polyéthylène glycols [PEG]; Poloxamères; Alkyléthers de PEG/POE
A61K 47/12 - Acides carboxyliques; Leurs sels ou anhydrides
A61K 47/42 - Protéines; Polypeptides; Leurs produits de dégradation; Leurs dérivés p.ex. albumine, gélatine ou zéine
A61K 47/18 - Amines; Amides; Urées; Composés d’ammonium quaternaire; Acides aminés; Oligopeptides ayant jusqu’à cinq acides aminés
A61K 47/26 - Hydrates de carbone, p.ex. polyols ou sucres alcoolisés, sucres aminés, acides nucléiques, mono-, di- ou oligosaccharides; Leurs dérivés, p.ex. polysorbates, esters d’acide gras de sorbitan ou glycyrrhizine
A61Q 19/00 - Préparations pour les soins de la peau
A production method for an optical waveguide including: a first step of inserting a needle-like portion at a tip end of an ejection unit into uncured cladding; a second step of moving the needle-like portion in the uncured cladding while ejecting an uncured material from the needle-like portion to form an uncured core surrounded and covered with the uncured cladding; a third step of removing the needle-like portion from the uncured cladding; and a fourth step of curing the uncured cladding and core, wherein the uncured cladding is composed of a composition including a reactive silicone compound composed of a polycondensate of a diarylsilicic acid compound of Formula [1]
and a di(meth)acrylate compound of Formula [3]
and the uncured core is composed of a composition including a reactive silicone compound and an aromatic vinyl compound of Formula [4]
G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
B29K 83/00 - Utilisation de polymères contenant dans la chaîne principale uniquement du silicium avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone comme matière de moulage
G02B 6/12 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES - Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
18.
Additive for resist underlayer film-forming composition and resist underlayer film-forming composition containing the same
An additive for a resist underlayer film-forming composition, including a copolymer having structural units of the following Formulae (1) to (3):
4 is a linear, branched, or cyclic organic group having a carbon atom number of 1 to 12, wherein at least one hydrogen atom is substituted with a fluoro group and that optionally has at least one hydroxy group as a substituent. A resist underlayer film-forming composition for lithography including additive, a resin that is different from copolymer, organic acid, crosslinker, and solvent, wherein the copolymer's content is 3 parts by mass to 40 parts by mass relative to 100 parts by mass of the resin.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
C08F 220/36 - Esters contenant de l'azote contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p.ex. préchauffage
G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
A saccharification reaction mixture, a saccharification enzyme composition, and a saccharide production method are aimed to enhance saccharization rate by use of an enzyme in a simple step as well as a method for producing ethanol from a saccharide. The saccharification reaction mixture can saccharify at least one of cellulose and hemicellulose and contains at least one of cellulose and hemicellulose, a saccharification enzyme, silica or a silica-containing substance, and at least one compound (A) selected from the group made of thiourea, a thiourea derivative, an isothiourea derivative, and a salt of any of these.
A polymerizable composition suitable for producing a molded article that can maintain a high refractive index and a low Abbe's number and can be restrained from dimensional changes due to a high-temperature thermal history has (a) 100 parts by mass of a specific reactive silsesquioxane compound, (b) 10 to 500 parts by mass of a specific fluorene compound and (c) 1 to 100 parts by mass of a specific aromatic vinyl compound. A cured product can be obtained by curing the polymerizable composition.
C08F 220/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
C08F 230/08 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et contenant du phosphore, du sélénium, du tellure ou un métal contenant un métal contenant du silicium
C08G 77/442 - Polymères séquencés ou greffés contenant des segments de polysiloxanes contenant des segments de polymères vinyliques
B29D 11/00 - Fabrication d'éléments optiques, p.ex. lentilles ou prismes
G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
B29K 83/00 - Utilisation de polymères contenant dans la chaîne principale uniquement du silicium avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone comme matière de moulage
C08G 77/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone
21.
Agent for dispersing electrically conductive carbon material, and dispersion of electrically conductive carbon material
Provided is an agent for dispersing an electrically conductive carbon material, in which the agent consists of a polymer which has an oxazoline group in a side chain and which is obtained by using an oxazoline group-containing monomer such as that represented by formula (1) for example, and in which the agent exhibits excellent dispersion of an electrically conductive carbon material and produces a thin film that exhibits excellent adhesion to a current collection substrate when formed into a thin film together with the electrically conductive carbon material.
4 each independently denote a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group optionally having a branched structure having 1-5 carbon atoms, an aryl group having 6-20 carbon atoms, or an aralkyl group having 7-20 carbon atoms.)
C08F 226/06 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par une liaison simple ou double à l'azote ou par un hétérocyc par un hétérocycle contenant de l'azote
C08K 7/24 - Particules expansibles, poreuses ou creuses inorganiques
C08L 33/02 - Homopolymères ou copolymères des acides; Leurs sels métalliques ou d'ammonium
C08L 101/02 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par la présence de groupes déterminés
C08L 101/06 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par la présence de groupes déterminés contenant des atomes d'oxygène
C08L 101/14 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par des propriétés physiques, p.ex. anisotropie, viscosité ou conductivité électrique les composés macromoléculaires étant solubles dans l'eau ou gonflables dans l'eau, p.ex. gels aqueux
C09D 133/02 - Homopolymères ou copolymères d'acides; Leurs sels métalliques ou d'ammonium
C09D 139/04 - Homopolymères ou copolymères de monomères contenant des hétérocycles possédant de l'azote dans le cycle
H01B 1/24 - Matériau conducteur dispersé dans un matériau organique non conducteur le matériau conducteur comportant des compositions à base de carbone-silicium, du carbone ou du silicium
H01G 11/32 - Condensateurs hybrides, c. à d. ayant des électrodes positive et négative différentes; Condensateurs électriques à double couche [EDL]; Procédés de fabrication desdits condensateurs ou de leurs composants Électrodes caractérisées par leur matériau à base de carbone
H01G 11/68 - Collecteurs de courant caractérisés par leur matériau
H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p.ex. liants, charges
Inorganic oxide microparticles having amphiphilic organic silane compound bonded thereto, organic solvent dispersion thereof, and composition for film formation
1-18 alkylene group or a vinylene group as a hydrophobic group bonded to a surface of modified metal oxide colloidal particles (C) having a primary particle diameter of 2 to 100 nm, the modified metal oxide colloidal particles wherein a surface of metal oxide colloidal particles (A) having a primary particle diameter of 2 to 60 nm as a nucleus is coated with a coating material (B) including metal oxide colloidal particles having a primary particle diameter of 1 to 4 nm.
C09C 1/00 - Traitement de substances inorganiques particulières, autres que des charges fibreuses ; Préparation du noir de carbone
C09C 3/00 - Traitement, en général, de substances inorganiques, autres que des charges fibreuses, pour améliorer leurs propriétés de pigmentation ou de charge
C09D 7/62 - Adjuvants non macromoléculaires inorganiques modifiés par traitement avec d’autres composés
C09C 3/06 - Traitement par des composés inorganiques
C09D 5/00 - Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, caractérisées par leur nature physique ou par les effets produits; Apprêts en pâte
C09D 17/00 - Pigments en pâtes, p.ex. pour pigmenter les peintures
C09D 135/02 - Homopolymères ou copolymères d'esters
C09D 183/06 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
A composition for forming a resist underlayer film that has a high dry etching rate, functions as an anti-reflective coating during exposure, and fills a recess having a narrow space and a high aspect ratio. A composition for forming a resist underlayer film has a copolymer having a structural unit of following formula (1), a cross-linkable compound, a cross-linking catalyst, and a solvent:
1-3 alkylene group or a single bond, Z is an —O— group, a —S— group, or a —S—S— group, and Ar is an arylene group. The copolymer is synthesized by a reaction of a carboxyl group of a dicarboxylic acid compound having an —O— group, a —S— group, or a —S—S— group with an epoxy group of a diglycidyl ether compound having an arylene group.
A coating-forming composition for an electrical steel sheet that maintains excellent insulating properties, corrosion resistance, adhesion, and the like required in a coating for an electrical steel sheet, and exhibits excellent viscosity stability, with an increase in viscosity over time being kept gradual. A coating-forming composition for an electrical steel sheet comprises colloidal silica, a phosphate, phenylphosphonic acid or a salt thereof, and an aqueous medium.
C23C 22/00 - Traitement chimique de surface de matériaux métalliques par réaction de la surface avec un milieu réactif laissant des produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, p.ex. revêtement par conversion, passivation des métaux
A method for roughening a surface of a substrate, including: applying a composition containing inorganic particles and organic resin to the surface of the substrate and drying and curing the composition to form an organic resin layer; and etching the substrate by a solution containing hydrogen fluoride, hydrogen peroxide, or an acid, to roughen the surface. Preferably, the solution contains hydrogen fluoride and ammonium fluoride or hydrogen peroxide and ammonia, the resin layer contains a ratio of the particles to the resin of 5 to 50 parts by mass to 100 parts by mass, and the composition is a mixture of silica sol wherein silica is dispersed as the inorganic particles in organic solvent or titanium oxide sol wherein titanium oxide is dispersed, with a solution of the organic resin.
H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique
H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique en utilisant des masques
H01L 33/22 - Surfaces irrégulières ou rugueuses, p.ex. à l'interface entre les couches épitaxiales
H01L 51/52 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED) - Détails des dispositifs
C09D 161/34 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones avec des monomères couverts par au moins deux des groupes , et
C03C 17/34 - Traitement de surface du verre, p.ex. du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement avec au moins deux revêtements ayant des compositions différentes
C09K 13/06 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage contenant un acide inorganique avec une substance organique
C08F 212/32 - Monomères contenant un seul radical aliphatique non saturé contenant plusieurs cycles
C09K 13/08 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage contenant un acide inorganique contenant un composé du fluor
C03C 17/00 - Traitement de surface du verre, p.ex. du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement
C08G 14/06 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones et de plusieurs autres monomères couverts par au moins deux des groupes d'aldéhydes avec des phénols et des monomères contenant de l'hydrogène fixé sur l'azote
C03C 15/00 - Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique
C09D 125/02 - Homopolymères ou copolymères d'hydrocarbures
C09D 161/18 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des hydrocarbures aromatiques ou leurs dérivés halogénés
A nonlinear optically active copolymer having satisfactory orientation characteristics and able to allow for reduction in heat-induced orientation relaxation of a nonlinear optical material, and a nonlinear optical material obtained using the copolymer. The copolymer including at least a repeating unit A having adamantyl group and a repeating unit B having a nonlinear optically active moiety in one molecule, and an organic nonlinear optical material including the copolymer as a component.
C08F 8/30 - Introduction d'atomes d'azote ou de groupes contenant de l'azote
C08F 8/34 - Introduction d'atomes de soufre ou de groupes contenant du soufre
C08F 220/36 - Esters contenant de l'azote contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
An epoxy resin composition in a liquid or solid state having excellent solubility and having high preservation stability. A modified epoxy resin composition including: Compound A containing tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate having 1 to 3 glycidyl group(s) in a molecule substituted with a functional group(s) of Formula (1):
2 are each independently an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an aralkyl group, a heterocyclic group; or a halogenated derivative, an aminated derivative, or a nitrated derivative of these groups; and Compound B containing tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate, wherein tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate of Compound A before the substitution and tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate of Compound B comprise 2% by mass to 15% by mass of β-type tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate and a remaining percentage of α-type tris-(2,3-epoxypropyl)-isocyanurate based on a total mass of Compound A before the substitution and Compound B.
C08G 59/42 - Acides polycarboxyliques; Leurs anhydrides, halogénures ou esters à bas poids moléculaire
C08G 59/32 - Composés époxydés contenant au moins trois groupes époxyde
C08G 59/16 - Polycondensats modifiés par post-traitement chimique par des acides monocarboxyliques ou par leurs anhydrides, halogénures ou esters à bas poids moléculaire
A resin composition capable of forming a cured film having a high refractive index, high transparency and high heat resistance, and a polymer which is used for the resin composition. A polymer having a structural unit of Formula (1):
2 are each independently an —O— group or a —C(═O)O— group; X is a divalent organic group having at least one aromatic ring or heterocyclic ring, wherein, when the X has two or more aromatic rings or heterocyclic rings, the rings are optionally bonded to each other via a single bond, are optionally bonded to each other via a heteroatom, or optionally form a condensed ring; and Y is a divalent organic group having at least one aromatic ring or condensed ring. A resin composition, includes: the polymer; a cross-linking agent; and a solvent.
G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
29.
Production method for carbon-based light-emitting material
Provided is a production method for a carbon-based light-emitting material that generates light having a wavelength of 500 to 700 nm when exposed to excitation light having a wavelength of 300 to 600 nm. The production method comprises a step for mixing and heating a starting material containing ascorbic acid, an acid catalyst containing an inorganic acid, and a solvent.
A polyester resin composition containing 100 parts by mass of a polyester resin and 0.01 to 10 parts by mass of a 2-amino-1,3,5-triazine derivative of Formula [1]:
a polyester resin molded body obtained by the composition, and a crystal nucleating agent including the triazine derivative. A polyester resin composition containing a crystal nucleating agent that makes it possible to produce, with high productivity, a polyester resin molded product that promotes polyester resin crystallization and maintains high transparency after crystallization and is applicable for a wide variety of uses can be provided.
C08L 67/00 - Compositions contenant des polyesters obtenus par des réactions créant une liaison ester carboxylique dans la chaîne principale; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
C01B 33/143 - Préparation d'hydrosols ou de dispersions aqueuses par traitement acide de silicates de solutions aqueuses de silicates
B01D 15/38 - Adsorption sélective, p.ex. chromatographie caractérisée par le mécanisme de séparation impliquant une interaction spécifique non couverte par un ou plusieurs des groupes , p.ex. chromatographie d'affinité, chromatographie d'échange par ligand ou chromatographie chirale
B01J 39/07 - Procédés utilisant des échangeurs organiques sous forme faiblement acide
B01D 15/36 - Adsorption sélective, p.ex. chromatographie caractérisée par le mécanisme de séparation impliquant une interaction ionique, p.ex. échange d'ions, paire d'ions, suppression d'ions ou exclusion d'ions
B01J 39/04 - Procédés utilisant des échangeurs organiques
B01J 45/00 - Echange d'ions dans lequel se forme un complexe ou un chélate; Utilisation d'une substance comme échangeur d'ions formant des complexes ou des chélates; Traitement d'une substance en vue d'améliorer ses propriétés d'échange d'ions formant des complexes ou des chélates
B01J 47/026 - Procédés sur colonne ou sur lit utilisant des colonnes ou des lits en séries de substances échangeur d’ions différentes
A composition applied over a resist pattern includes a modified polysiloxane in which some of silanol groups of a polysiloxane containing a hydrolysis condensate of a hydrolyzable silane are capped, and a solvent, wherein a ratio of silanol groups to all Si atoms contained in the modified polysiloxane is 40 mol % or less. The modified polysiloxane ratio of the silanol groups is adjusted to a desired ratio by reacting the silanol groups of the polysiloxane with an alcohol. A method for producing a semiconductor device having the steps of forming a resist film on a substrate, forming a resist pattern by exposing and developing the resist film, applying the composition over the resist pattern during or after development, and reversing a pattern by removing the resist pattern by etching.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
Provided is an electrode for energy storage devices, which is provided with a collector substrate, an undercoat layer that is formed on at least one surface of the collector substrate and contains carbon nanotubes, and an active material layer that is formed on the surface of the undercoat layer, and wherein the active material layer does not contain a conductive assistant.
H01M 4/36 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs
H01G 11/28 - Condensateurs hybrides, c. à d. ayant des électrodes positive et négative différentes; Condensateurs électriques à double couche [EDL]; Procédés de fabrication desdits condensateurs ou de leurs composants Électrodes caractérisées par leur structure, p.ex. multicouches, selon la porosité ou les caractéristiques de surface agencées ou disposées sur un collecteur de courant; Couches ou phases entre les électrodes et les collecteurs de courant, p.ex. adhésifs
H01G 11/36 - Nanostructures, p.ex. nanofibres, nanotubes ou fullerènes
H01M 4/505 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques de manganèse d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes contenant du manganèse pour insérer ou intercaler des métaux légers, p.ex. LiMn2O4 ou LiMn2OxFy
H01M 4/13 - PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES Électrodes Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif Électrodes pour accumulateurs à électrolyte non aqueux, p.ex. pour accumulateurs au lithium; Leurs procédés de fabrication
H01M 4/58 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs de structures polyanioniques, p.ex. phosphates, silicates ou borates
H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p.ex. liants, charges
H01M 4/48 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques
H01G 11/50 - Condensateurs hybrides, c. à d. ayant des électrodes positive et négative différentes; Condensateurs électriques à double couche [EDL]; Procédés de fabrication desdits condensateurs ou de leurs composants Électrodes caractérisées par leur matériau spécialement adaptées aux condensateurs lithium-ion, p.ex. pour doper le lithium ou pour intercalation
H01M 10/0525 - Batteries du type "rocking chair" ou "fauteuil à bascule", p.ex. batteries à insertion ou intercalation de lithium dans les deux électrodes; Batteries à l'ion lithium
34.
Non-aqueous ink compositions containing transition metal complexes, and uses thereof in organic electronics
Described herein are non-aqueous ink compositions containing a polythiophene having a repeating unit complying with formula (I) described herein, a transition metal complex having at least one β-diketonate ligand, and a liquid carrier having one or more organic solvents. The present disclosure also concerns the uses of such non-aqueous ink compositions, for example, in organic electronic devices.
C09D 11/102 - Encres d’imprimerie à base de résines artificielles contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions autres que celles faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
C09D 11/033 - Encres d’imprimerie caractérisées par des particularités autres que la nature chimique du liant caractérisées par le solvant
C09D 11/36 - Encres pour l'impression à jet d'encre à base de solvants non aqueux
C09D 11/38 - Encres pour l'impression à jet d'encre caractérisées par des additifs non macromoléculaires autres que les solvants, les pigments ou les colorants
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/50 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
C07F 11/00 - Composés contenant des éléments des groupes 6 ou 16 de la classification périodique
35.
Liquid crystal aligning agent containing crosslinking agent and polymer that has site having isocyanate group and/or blocked isocyanate group and site having photoreactivity, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
Provided is a liquid crystal display element that can be baked at a low temperature when forming a liquid crystal alignment film capable of imparting an alignment regulating property and a pretilt angle developing property via a photoalignment method. Further provided is a liquid crystal display element in which the liquid crystal pretilt angles are highly stable, and display burn-in hardly occurs even due to long usage. Further provided are a vertical liquid crystal alignment film to be used in the liquid crystal display element, and a liquid crystal aligning agent with which it is possible to provide the vertical liquid crystal alignment film. A liquid crystal aligning agent of the present invention contains: component (A), which is a polymer including (A-1) a site having an isocyanate group and/or a blocked isocyanate group and (A-2) a site having photoreactivity; component (B), which is a compound having, in a molecule, at least two functional groups of at least one type selected from the group consisting of an amino group and a hydroxyl group; and an organic solvent.
The present invention relates to a liquid crystal aligning agent which contains a polymer that has a site having an isocyanate group and/or a blocked isocyanate group, a site having a photoreactive group having photoalignment, and a site having at least one functional group selected from an amino group and a hydroxyl group in each molecule. The present invention provides a liquid crystal display element which enables baking at low temperatures during the formation of a liquid crystal alignment film by a photoalignment method, the liquid crystal alignment film being able to be imparted with alignment regulating property and pretilt angle developing property.
G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
C08G 18/81 - Isocyanates ou isothiocyanates non saturés
C09K 19/20 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant au moins deux cycles benzéniques liés par une chaîne contenant des atomes de carbone et d'oxygène comme chaînons, p.ex. esters
C08F 220/36 - Esters contenant de l'azote contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
C08F 220/20 - Esters des alcools polyhydriques ou des phénols polyhydriques
C09K 19/54 - Additifs n'ayant pas de mésophase spécifique
C09K 19/30 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant des cycles non aromatiques saturés ou insaturés, p.ex. cycle cyclohexanique
C09K 19/04 - Substances formant des cristaux liquides caractérisées par la structure chimique des constituants formant des cristaux liquides
Provided is an electrode for energy storage devices, which is provided with: a collector substrate; an undercoat layer that is formed on at least one surface of the collector substrate and contains carbon nanotubes; and an active material layer that is formed on the surface of the undercoat layer and contains an active material which contains a titanium-containing oxide.
H01G 11/28 - Condensateurs hybrides, c. à d. ayant des électrodes positive et négative différentes; Condensateurs électriques à double couche [EDL]; Procédés de fabrication desdits condensateurs ou de leurs composants Électrodes caractérisées par leur structure, p.ex. multicouches, selon la porosité ou les caractéristiques de surface agencées ou disposées sur un collecteur de courant; Couches ou phases entre les électrodes et les collecteurs de courant, p.ex. adhésifs
H01G 11/36 - Nanostructures, p.ex. nanofibres, nanotubes ou fullerènes
H01G 11/86 - Procédés de fabrication de condensateurs hybrides ou EDL ou de leurs composants spécialement adaptés pour les électrodes
H01G 11/70 - Collecteurs de courant caractérisés par leur structure
H01M 4/48 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques
H01M 4/131 - PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES Électrodes Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif Électrodes pour accumulateurs à électrolyte non aqueux, p.ex. pour accumulateurs au lithium; Leurs procédés de fabrication Électrodes à base d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes, ou de mélanges d'oxydes ou d'hydroxydes, p.ex. LiCoOx
H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p.ex. liants, charges
H01M 4/1391 - Procédés de fabrication d'électrodes à base d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes, ou de mélanges d'oxydes ou d'hydroxydes, p.ex. LiCoOx
H01G 11/68 - Collecteurs de courant caractérisés par leur matériau
H01G 11/38 - Pâtes ou mélanges de carbone; Liants ou additifs
H01M 4/13 - PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES Électrodes Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif Électrodes pour accumulateurs à électrolyte non aqueux, p.ex. pour accumulateurs au lithium; Leurs procédés de fabrication
H01M 4/36 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs
H01M 10/0525 - Batteries du type "rocking chair" ou "fauteuil à bascule", p.ex. batteries à insertion ou intercalation de lithium dans les deux électrodes; Batteries à l'ion lithium
G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
C08L 67/07 - Polyesters non saturés comportant des liaisons non saturées carbone-carbone terminales
C08J 3/24 - Réticulation, p.ex. vulcanisation, de macromolécules
C08F 299/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des interréactions de polymères impliquant uniquement des réactions entre des liaisons non saturées carbone-carbone, en l'absence de monomères non macromoléculaires
C09D 4/06 - Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
C08F 290/04 - Polymères prévus par les sous-classes ou
C09D 151/08 - Compositions de revêtement à base de polymères greffés dans lesquels le composant greffé est obtenu par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères greffés sur des composés macromoléculaires obtenus autrement que par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
C09J 151/08 - Adhésifs à base de polymères greffés dans lesquels le composant greffé est obtenu par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone; Adhésifs à base de dérivés de tels polymères greffés sur des composés macromoléculaires obtenus autrement que par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
(B) component: a compound of Formula (3) below
6 is a single bond or an alkylene group, Y is a single bond or an ester bond, A is a mono- to tetra-valent organic group which optionally contain at least one hetero atom, or a hetero atom, and h is an integer of 1 to 4.
B05D 1/38 - Applications successives de liquides ou d'autres matériaux fluides, p.ex. sans traitement intermédiaire avec traitement intermédiaire
B05D 3/02 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides par cuisson
C08L 33/06 - Homopolymères ou copolymères des esters d'esters ne contenant que du carbone, de l'hydrogène et de l'oxygène, l'oxygène, faisant uniquement partie du radical carboxyle
C08L 63/00 - Compositions contenant des résines époxy; Compositions contenant des dérivés des résines époxy
C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
C08F 220/32 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des radicaux époxyde
G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
C09D 133/06 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters ne contenant que du carbone, de l'hydrogène et de l'oxygène, l'atome d'oxygène faisant uniquement partie du radical carboxyle
C08F 220/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
C08G 59/18 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde
G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
G02B 1/18 - Revêtements pour garder des surfaces optiques propres, p.ex. films hydrophobes ou photocatalytiques
C08J 3/24 - Réticulation, p.ex. vulcanisation, de macromolécules
3-bO— and, as a dispersion medium, a mixed solvent formed of a polar solvent S1 having a dielectric constant at 20° C. of 15 or higher and lower than 60 and a non-polar solvent S2 having a dielectric constant at 20° C. of 1 or higher and lower than 15, at a mass ratio (S1/S2) of 0.3 to 6.
C01B 33/14 - Silice colloïdale, p.ex. sous forme de dispersions, gels, sols
C08G 81/02 - Composés macromoléculaires obtenus par l'interréaction de polymères en l'absence de monomères, p.ex. polymères séquencés au moins un des polymères étant obtenu par des réactions ne faisant intervenir que des liaisons non saturées carbone-carbone
C01B 33/145 - Préparation d'hydro-organosols, d'organosols ou de dispersions dans un milieu organique
C08F 292/00 - Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des substances inorganiques
A method for adjusting hardness of a stick-shaped base material including a lipid peptide compound. A method for adjusting hardness of a gelled solid base material for skin external application including a surfactant, water, and lipid peptide compound including compounds of formulae (1) or similar,
2)n-X group, n is a number from 1 to 4, and X is amino group, the method including adding a pH adjuster to a solution in which the material is dissolved, or a solution including a surfactant, water, and lipid peptide compound including at least one of compounds of formulae (1) to (3) or pharmaceutically usable salts thereof, to adjust the pH of the solution to a weak acidic to neutral range, causing gelation of the solution to form a solid base material for skin external application.
A retardation material-forming resin composition for providing an orientation material that has high photoreaction efficiency and with which a polymerizable crystal can be aligned in a highly sensitive manner. A retardation material-forming resin composition being thermally curable wherein including a resin (component (A)) having a photo-aligning group to which a thermally reactive moiety is bonded directly or connected via a linking group; an orientation material obtained by use of the composition, and a retardation material formed by use of a cured film obtained from the composition.
C08L 33/08 - Homopolymères ou copolymères des esters de l'acide acrylique
C08F 220/64 - Acides; Leurs sels métalliques ou leurs sels d'ammonium
G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
C08F 2/38 - Polymérisation utilisant des régulateurs, p.ex. des agents d'arrêt de chaîne
C08F 220/20 - Esters des alcools polyhydriques ou des phénols polyhydriques
G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
G02B 5/30 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques autres que les lentilles Éléments polarisants
C08F 120/58 - Amides contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carbonamide
C08F 220/58 - Amides contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carbonamide
C08L 25/14 - Copolymères du styrène avec des esters non saturés
C08L 33/02 - Homopolymères ou copolymères des acides; Leurs sels métalliques ou d'ammonium
G02F 1/13363 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p.ex. des polariseurs ou des réflecteurs Éléments à biréfringence, p.ex. pour la compensation optique
C08F 220/36 - Esters contenant de l'azote contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
G02B 1/08 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances polarisantes
There is provided an epoxy resin composition containing an epoxy compound, which has a low viscosity and a low dielectric constant, and when added to a general-purpose epoxy resin composition, can lower a viscosity of the composition and can sufficiently lower a dielectric constant of an epoxy resin cured product obtained from the composition. An epoxy resin composition comprising: (a) an epoxy component containing at least an epoxy compound of formula [1]; and (b) a curing agent:
3 each independently are pentamethylene group, hexamethylene group or heptamethylene group.
C08G 59/02 - Polycondensats contenant plusieurs groupes époxyde par molécule
C08G 59/40 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde caractérisées par les agents de durcissement utilisés
C08G 59/42 - Acides polycarboxyliques; Leurs anhydrides, halogénures ou esters à bas poids moléculaire
1 is organic group of Formula (2) and is bonded to silicon atom through Si—C bond:
Resist underlayer film, obtained by applying the resist underlayer film-forming composition on semiconductor substrate and baking.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
C07F 7/18 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si ainsi qu'une ou plusieurs liaisons C—O—Si
H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
C09D 183/00 - Compositions de revêtement à base de composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant uniquement du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
C08G 77/14 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
C08G 77/18 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène à des groupes alcoxyle ou aryloxyle
C09D 183/06 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
A nonaqueous secondary cell provided with: a positive electrode provided with a positive-electrode current-collecting substrate and a positive-electrode active material layer formed thereon, the positive-electrode active material layer being able to absorb or discharge lithium; a negative electrode provided with a negative-electrode current-collecting substrate and a negative-electrode active material layer formed thereon, the negative-electrode active material layer being able to absorb or discharge lithium; a separator interposed between the positive and negative electrodes; and a nonaqueous electrolyte solution. The nonaqueous electrolyte solution contains a sulfonyl imide electrolyte and a nonaqueous organic solvent. An electroconductive protective layer obtained by dispersing an electroconductive carbon material in a binder resin is formed on one or both surfaces of the positive-electrode current-collecting substrate and/or the negative-electrode current-collecting substrate. Regardless of whether the nonaqueous electrolyte solution including the sulfonyl imide electrolyte is used, the nonaqueous secondary cell has good cycle characteristics and high output characteristics.
H01M 10/0525 - Batteries du type "rocking chair" ou "fauteuil à bascule", p.ex. batteries à insertion ou intercalation de lithium dans les deux électrodes; Batteries à l'ion lithium
H01M 4/136 - PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES Électrodes Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif Électrodes pour accumulateurs à électrolyte non aqueux, p.ex. pour accumulateurs au lithium; Leurs procédés de fabrication Électrodes à base de composés inorganiques autres que les oxydes ou les hydroxydes, p.ex. sulfures, séléniures, tellurures, halogénures ou LiCoFy
H01M 10/0568 - Matériaux liquides caracterisés par les solutés
H01M 10/0569 - Matériaux liquides caracterisés par les solvants
H01M 4/58 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs de structures polyanioniques, p.ex. phosphates, silicates ou borates
H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p.ex. liants, charges
H01M 4/36 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs
H01B 1/24 - Matériau conducteur dispersé dans un matériau organique non conducteur le matériau conducteur comportant des compositions à base de carbone-silicium, du carbone ou du silicium
H01M 4/02 - PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES Électrodes Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif
47.
RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING LONG CHAIN ALKYL GROUP-CONTAINING NOVOLAC
A resist underlayer film-forming composition comprising a novolac resin obtained by reacting an aromatic compound (A) with an aldehyde (B) having formyl group bonded to a secondary carbon atom or tertiary carbon atom of a C2-26 alkyl group. A resist underlayer film-forming composition according to the first aspect, in which the novolac resin comprises a unit structure of Formula (1):
A resist underlayer film-forming composition comprising a novolac resin obtained by reacting an aromatic compound (A) with an aldehyde (B) having formyl group bonded to a secondary carbon atom or tertiary carbon atom of a C2-26 alkyl group. A resist underlayer film-forming composition according to the first aspect, in which the novolac resin comprises a unit structure of Formula (1):
A resist underlayer film-forming composition comprising a novolac resin obtained by reacting an aromatic compound (A) with an aldehyde (B) having formyl group bonded to a secondary carbon atom or tertiary carbon atom of a C2-26 alkyl group. A resist underlayer film-forming composition according to the first aspect, in which the novolac resin comprises a unit structure of Formula (1):
(in Formula (1), A is a bivalence group derived from a C6-40 aromatic compound; b1 is a C1-16 alkyl group; and b2 is a hydrogen atom or a C1-9 alkyl group). A is the bivalent group derived from an aromatic compound comprising an amino group, a hydroxy group, or both an amino group and a hydroxy group.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
C09D 161/22 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des composés contenant de l'hydrogène lié à l'azote d'aldéhydes avec des composés acycliques ou carbocycliques
G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
C08G 8/10 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols d'aldéhydes de formaldéhyde, p.ex. de formaldéhyde formé in situ avec du phénol
C09D 161/06 - Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols d'aldéhydes avec des phénols
H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique en utilisant des masques
48.
Composition for hole trapping layer of organic photoelectric conversion element
Provided is a composition for a hole trapping layer of an organic photoelectric conversion element, such composition: containing a solvent and a charge-transporting substance comprising a polyaniline derivative represented by formula (1); and providing a thin film that is suitable as a hole trapping layer of an organic photoelectric conversion element and can also be used to produce an inverse lamination type organic photoelectric conversion element.
4 groups is an alkoxy group having 1-20 carbon atoms, a thioalkoxy group having 1-20 carbon atoms, an alkyl group having 1-20 carbon atoms, an alkenyl group having 2-20 carbon atoms, an alkynyl group having 2-20 carbon atoms, a haloalkyl group having 1-20 carbon atoms, an aryl group having 6-20 carbon atoms or an aralkyl group having 7-20 carbon atoms, and m and n are numbers that satisfy the relationships 0≤m≤1, 0≤n≤1 and m+n=1.}
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/42 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement
H01L 51/44 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement - Détails des dispositifs
H01B 1/12 - Conducteurs ou corps conducteurs caractérisés par les matériaux conducteurs utilisés; Emploi de matériaux spécifiés comme conducteurs composés principalement d'autres substances non métalliques substances organiques
A thermosetting resin composition, a thermosetting resin composition for protective films, a thermosetting resin composition for planarizing films, and a method for producing a cured film, a protective film, or a planarizing film by using the resin composition. A thermosetting resin composition has a polymer having a structural unit of Formula (1) below, a curing agent in an amount of 0% by mass to 30% by mass with respect to the polymer, and a solvent. When the thermosetting resin composition includes the curing agent, the curing agent is at least one compound selected from polyfunctional (meth)acrylate compounds and polyfunctional blocked isocyanate compounds:
2 alkenylene group or alkynylene group).
C09D 163/10 - Résines époxy modifiées par des composés non saturés
C08F 283/01 - Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères prévus par la sous-classe sur des polyesters non saturés
C09D 167/06 - Polyesters non saturés comportant des insaturations carbone-carbone
C08F 120/36 - Esters contenant de l'azote contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
C08G 59/14 - Polycondensats modifiés par post-traitement chimique
C08F 299/04 - Composés macromoléculaires obtenus par des interréactions de polymères impliquant uniquement des réactions entre des liaisons non saturées carbone-carbone, en l'absence de monomères non macromoléculaires à partir de polycondensats non saturés à partir de polyesters
C08G 63/685 - Polyesters contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène contenant de l'azote
C09D 7/63 - Adjuvants non macromoléculaires organiques
B05D 3/02 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides par cuisson
C08G 59/17 - Polycondensats modifiés par post-traitement chimique par des acides monocarboxyliques ou par leurs anhydrides, halogénures ou esters à bas poids moléculaire par l'acide acrylique ou méthacrylique
An optical waveguide-forming composition: 100 parts by mass of a reactive silicone compound (a) composed of a polycondensate of a diarylsilicic acid compound A of Formula [1]
2 is methyl, ethyl, or vinylphenyl group, and a is 2 or 3, and 1 part by mass to 200 parts by mass of a di(meth)acrylate compound (b) of Formula [3].
2 are an alkylene group, and m and n are 0 or a positive integer, wherein m+n is 0 to 20.
C08F 230/08 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et contenant du phosphore, du sélénium, du tellure ou un métal contenant un métal contenant du silicium
G02B 6/12 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES - Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
51.
Saccharification reaction mixture, saccharification enzyme composition, sugar production method, and ethanol production method
A saccharification reaction mixture wherein the reaction mixture can saccharify at least one of cellulose and hemicellulose and contains at least one of cellulose and hemicellulose, a saccharification enzyme, silica or a silica-containing substance, and at least one compound (A) selected from the group including a polyhydric alcohol compound represented by the following formula (1) or a derivative thereof and an acetylene glycol represented by formula (2) or an alkylene oxide adduct thereof. The symbols in the chemical formulas are defined in the specification.
C12P 7/10 - Ethanol en tant que produit chimique et non en tant que boisson alcoolique préparé comme sous-produit, ou préparé à partir d'un substrat constitué par des déchets ou par des matières cellulosiques d'un substrat constitué par des matières cellulosiques
C12N 9/42 - Hydrolases (3.) agissant sur les composés glycosyliques (3.2) agissant sur les liaisons bêta-glucosidiques-1, 4, p.ex. cellulase
C12N 9/26 - Hydrolases (3.) agissant sur les composés glycosyliques (3.2) agissant sur les liaisons alpha-glucosidiques-1, 4, p.ex. hyaluronidase, invertase, amylase
NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY (Japon)
NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION KYOTO INSTITUTE OF TECHNOLOGY (Japon)
Inventeur(s)
Tateno, Hiroaki
Katayama, Junko
Matoba, Kazutaka
Kumada, Yoichi
Abrégé
A purpose of the present invention is to provide a highly sensitive and less expensive lectin-immobilized base material (for example, a lectin plate), said lectin-immobilized base material having stable qualities and being able to be sufficiently washed after a target sugar chain-containing antigen binds thereto. Another purpose of the present invention is to provide a method for immobilizing lectin to a base material therefor. Provided are: a method whereby a lectin-peptide fusion, in which a peptide capable of adsorbing to a base material surface such as a PS tag is fused with the N-terminal side or C-terminal side of lectin capable of recognizing a target sugar chain, is immobilized on the peptide side to a base material; and a lectin-immobilized base material produced by this method. By using the lectin-immobilized base material, a target sugar chain-containing antigen can be highly sensitively and evenly measured and, moreover, target sugar chain-containing cells, etc. can be separated (concentrated and harvested).
G01N 33/53 - Tests immunologiques; Tests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet
G01N 33/543 - Tests immunologiques; Tests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet avec un support insoluble pour l'immobilisation de composés immunochimiques
A liquid crystal display device, which includes a first substrate and a second substrate disposed to face each other with a liquid crystal sandwiched therebetween. The first substrate is an electrode-provided substrate having a first electrode and a plurality of second electrodes overlaid on the first electrode via an insulating film, formed on a pixel region on a surface on the liquid crystal side, where one of the first electrode and the second electrodes is a pixel electrode and the other is a counter electrode, having a first liquid crystal alignment film formed on the surface on the liquid crystal side of the first substrate covered with the second electrodes. The second substrate is a substrate having a second liquid crystal alignment film formed on a surface on the liquid crystal side, the second liquid crystal alignment film containing a photosensitive side chain type polymer which develops liquid crystallinity.
G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
C08F 20/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
C09D 179/08 - Polyimides; Polyesterimides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
C08F 283/04 - Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères prévus par la sous-classe sur des polycarbonamides, des polyesteramides ou des polyimides
C08G 73/12 - Précurseurs de polyimides non saturés
2 or less. Since this undercoat foil can be effectively welded by ultrasound, the use thereof allows a low-resistance energy storage device and a simple and effective production method therefor to be provided.
H01G 11/68 - Collecteurs de courant caractérisés par leur matériau
H01G 11/28 - Condensateurs hybrides, c. à d. ayant des électrodes positive et négative différentes; Condensateurs électriques à double couche [EDL]; Procédés de fabrication desdits condensateurs ou de leurs composants Électrodes caractérisées par leur structure, p.ex. multicouches, selon la porosité ou les caractéristiques de surface agencées ou disposées sur un collecteur de courant; Couches ou phases entre les électrodes et les collecteurs de courant, p.ex. adhésifs
H01G 11/36 - Nanostructures, p.ex. nanofibres, nanotubes ou fullerènes
H01G 11/70 - Collecteurs de courant caractérisés par leur structure
H01G 11/74 - Bornes, p.ex. extensions des collecteurs de courant
H01M 4/13 - PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES Électrodes Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif Électrodes pour accumulateurs à électrolyte non aqueux, p.ex. pour accumulateurs au lithium; Leurs procédés de fabrication
H01M 50/531 - Connexions d’électrodes dans un boîtier de batterie
H01G 11/86 - Procédés de fabrication de condensateurs hybrides ou EDL ou de leurs composants spécialement adaptés pour les électrodes
H01M 4/131 - PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES Électrodes Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif Électrodes pour accumulateurs à électrolyte non aqueux, p.ex. pour accumulateurs au lithium; Leurs procédés de fabrication Électrodes à base d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes, ou de mélanges d'oxydes ou d'hydroxydes, p.ex. LiCoOx
H01M 10/0525 - Batteries du type "rocking chair" ou "fauteuil à bascule", p.ex. batteries à insertion ou intercalation de lithium dans les deux électrodes; Batteries à l'ion lithium
H01G 11/38 - Pâtes ou mélanges de carbone; Liants ou additifs
H01G 11/84 - Procédés de fabrication de condensateurs hybrides ou EDL ou de leurs composants
H01G 11/50 - Condensateurs hybrides, c. à d. ayant des électrodes positive et négative différentes; Condensateurs électriques à double couche [EDL]; Procédés de fabrication desdits condensateurs ou de leurs composants Électrodes caractérisées par leur matériau spécialement adaptées aux condensateurs lithium-ion, p.ex. pour doper le lithium ou pour intercalation
B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p.ex. nanocomposites
55.
Water absorbing and releasing body for engine oil, automotive parts including water absorbing and releasing body, and method for producing water absorbing and releasing body for engine oil
A water absorbing and releasing body that absorbs water in engine oil and releases water when the temperature of the engine oil is high in order to maintain the performance of the engine oil, automotive parts including the water absorbing and releasing body, and a method for producing the water absorbing and releasing body for engine oil.
C02F 1/68 - Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout par addition de substances spécifiées, pour améliorer l'eau potable, p.ex. par addition d'oligo-éléments
B01D 35/00 - Dispositifs filtrants ayant des particularités non couvertes spécifiquement par les groupes , applications non couvertes spécifiquement par les groupes ; Dispositifs auxiliaires pour la filtration; Structure du carter de filtre
B01J 20/22 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation contenant une substance organique
C08L 101/14 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par des propriétés physiques, p.ex. anisotropie, viscosité ou conductivité électrique les composés macromoléculaires étant solubles dans l'eau ou gonflables dans l'eau, p.ex. gels aqueux
B01J 20/10 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation contenant une substance inorganique contenant de la silice ou un silicate
B01J 20/12 - Argiles d'origine naturelle ou terres décolorantes
C08L 33/02 - Homopolymères ou copolymères des acides; Leurs sels métalliques ou d'ammonium
56.
Liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film and liquid crystal display element
G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
C08G 73/10 - Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
C09K 19/20 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant au moins deux cycles benzéniques liés par une chaîne contenant des atomes de carbone et d'oxygène comme chaînons, p.ex. esters
C09K 19/14 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant au moins deux cycles benzéniques liés par une chaîne carbonée
C09K 19/58 - Agents de dopage ou de transfert de charge
C08G 73/12 - Précurseurs de polyimides non saturés
There is provided a polymerizable composition suitable to produce a molded product in which high refractive index is maintained, and dimensional change and a transmittance change further caused by a high-temperature heat history can be suppressed. A polymerizable composition comprising (a) 100 parts by mass of a specific reactive silsesquioxane compound and (b) 10 to 2,000 parts by mass of a specific fluorene compound, and a cured product obtained by curing the polymerizable composition, and a resin lens manufactured from the polymerizable composition.
C08G 77/20 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes aliphatiques non saturés
C08F 230/08 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et contenant du phosphore, du sélénium, du tellure ou un métal contenant un métal contenant du silicium
G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
C08G 77/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone
B29D 11/00 - Fabrication d'éléments optiques, p.ex. lentilles ou prismes
C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
B29K 83/00 - Utilisation de polymères contenant dans la chaîne principale uniquement du silicium avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone comme matière de moulage
A method for producing forsterite microparticles having a primary particle size of 1, to 50 nm, as determined through electron microscopy. The method includes spray-drying, in an atmosphere of 50° C. or higher and lower than 300° C., a solution containing a water-soluble magnesium salt and colloidal silica at a mole ratio of magnesium atoms to silicon atoms (Mg/Si) of 2; and subsequently, firing the spray-dried product in air at 800 to 1,000° C.
C04B 35/20 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base d'oxydes à base de silicates autres que l'argile riches en oxyde de magnésium
The present invention relates to a polymer composition which contains (A) a photosensitive side-chain polymer that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range and has a repeating unit comprising a vertically aligning group, and (B) an organic solvent. The present invention provides: a liquid crystal alignment film which has excellent tilt angle characteristics, while being provided with alignment controllability with high efficiency; a polymer composition which enables the achievement of this liquid crystal alignment film; a twisted nematic liquid crystal display element; and a vertical field switching mode liquid crystal display element.
C08L 101/02 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par la présence de groupes déterminés
C08F 238/00 - Copolymères de composés contenant une ou plusieurs liaisons triples carbone-carbone
C08F 232/08 - Copolymères de composés cycliques ne contenant pas de radicaux aliphatiques non saturés dans une chaîne latérale et contenant une ou plusieurs liaisons doubles carbone-carbone dans un système carbocyclique contenant des cycles condensés
C09K 19/02 - Substances formant des cristaux liquides caractérisées par les propriétés optiques, électriques ou physiques des constituants, en général
C08F 220/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
C08F 20/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
C08F 216/36 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un radical alcool, éther, aldéhyde, cétone, acétal ou céta par un radical cétone
C08L 101/12 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par des propriétés physiques, p.ex. anisotropie, viscosité ou conductivité électrique
G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
An object is to provide a method of manufacturing luminescent nanocarbon with which the luminescent nanocarbon can be efficiently manufactured in large amounts. This method is to manufacture luminescent nanocarbon (Product) from a raw material aqueous solution that contains a carbon source compound and a nitrogen source compound. This method includes a reaction step of heating the raw material aqueous solution from a storage container (Reservoir) in a heating section (Furnace) to react the raw material aqueous solution at a reaction temperature of 100° C. or higher and 500° C. or lower and a cooling step of cooling a reaction solution that contains a reaction product generated in the reaction step. The cooling step is carried out in a bath (Ice bath).
A resist underlayer film forming composition for lithography for forming a resist underlayer film that can be used as a hard mask, including: a hydrolyzable silane, a hydrolysis product thereof, a hydrolysis condensate thereof, or a combination thereof as a silane, wherein the hydrolyzable silane includes at least one hydrolyzable silane selected from the group made of hydrolyzable silanes of Formula (1), Formula (2), and Formula (3):
A method for producing a semiconductor device including: forming an organic underlayer film on a semiconductor substrate; applying the resist underlayer film forming composition onto the organic underlayer film and baking the composition to form a resist underlayer film; applying a resist film forming composition onto the resist underlayer film to form a resist film; exposing the resist film to light; developing the resist film after exposure to obtain a resist pattern; and etching in this order.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
C08G 77/18 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène à des groupes alcoxyle ou aryloxyle
C08G 77/28 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène groupes contenant du soufre
G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
C08G 77/14 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
C08G 77/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone
C09D 183/08 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène
C08G 77/44 - Polymères séquencés ou greffés contenant des segments de polysiloxanes ne contenant que des segments de polysiloxanes
C08G 77/08 - Procédés de préparation caractérisés par les catalyseurs utilisés
To provide a novel pesticidal composition, particularly a composition for a fungicide. A fungicidal or bactericidal composition comprising one or more compounds selected from oxime-substituted amide compounds represented by the formula (I), or their N-oxides or salts, and one or more compounds selected from known fungicidal or bactericidal compounds:
5 represents methyl, etc.
A01N 43/36 - Biocides, produits repoussant ou attirant les animaux nuisibles, ou régulateurs de croissance des végétaux, contenant des composés hétérocycliques comportant des cycles avec un atome d'azote comme unique hétéro-atome du cycle des cycles à cinq chaînons
A01N 37/18 - Biocides, produits repoussant ou attirant les animaux nuisibles, ou régulateurs de croissance des végétaux, contenant des composés organiques comportant un atome de carbone possédant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus deux liaisons à un contenant le groupe —CO—N, p.ex. amides ou imides d'acide carboxylique; Leurs thio-analogues
A01N 43/74 - Biocides, produits repoussant ou attirant les animaux nuisibles, ou régulateurs de croissance des végétaux, contenant des composés hétérocycliques comportant des cycles avec des atomes d'azote et des atomes d'oxygène ou de soufre, comme hétéro-atomes du cycle des cycles à cinq chaînons avec un atome d'azote et soit un atome d'oxygène, soit un atome de soufre, en positions 1,3
A01N 43/40 - Biocides, produits repoussant ou attirant les animaux nuisibles, ou régulateurs de croissance des végétaux, contenant des composés hétérocycliques comportant des cycles avec un atome d'azote comme unique hétéro-atome du cycle des cycles à six chaînons
63.
Polymer containing triazine ring and composition containing same
It is possible to obtain a thin film that can form a minute pattern and that has a high index of refraction by using a polymer containing a triazine ring and containing a repeating unit structure represented for example by formula (22) or (26).
C08G 73/06 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale de la macromolécule; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p.ex. préchauffage
G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
G03F 7/30 - Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
A61K 47/26 - Hydrates de carbone, p.ex. polyols ou sucres alcoolisés, sucres aminés, acides nucléiques, mono-, di- ou oligosaccharides; Leurs dérivés, p.ex. polysorbates, esters d’acide gras de sorbitan ou glycyrrhizine
A61Q 1/02 - Préparations contenant des colorants cutanés, p.ex. pigments
A61K 8/04 - Cosmétiques ou préparations similaires pour la toilette caractérisés par une forme physique particulière Émulsions
C07C 43/32 - Composés comportant des groupes ou des groupes
C07C 233/03 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone acycliques ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués avec des atomes de carbone de groupes carboxamides liés à des atomes d'hydrogène
65.
RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION COMPRISING EPOXY ADDUCT HAVING LONG-CHAIN ALKYL GROUP
A resist underlayer film-forming composition in which a coating film having high flattening properties is formed on a substrate. A resist underlayer film-forming composition including an epoxy adduct (C) obtained by reacting an epoxy group-containing compound (A) with an epoxy adduct-forming compound (B), wherein one or both of the epoxy group-containing compound (A) and the epoxy adduct-forming compound (B) contain an optionally branched alkyl group having a carbon atom number of three or more. The epoxy adduct-forming compound (B) is at least one compound selected from the group consisting of carboxylic acid (B1), carboxylic anhydride (B2), a phenol compound (B3), a hydroxyl group-containing compound (B4), a thiol compound (B5), an amino compound (B6), and an imide compound (B7). The optionally branched alkyl group having a carbon atom number of three or more is contained in the epoxy adduct-forming compound (B). The optionally branched alkyl group has a C3-19 alkyl group.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
C09D 163/00 - Compositions de revêtement à base de résines époxy; Compositions de revêtement à base de dérivés des résines époxy
C09D 5/00 - Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, caractérisées par leur nature physique ou par les effets produits; Apprêts en pâte
G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
G03F 7/30 - Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
G03F 7/36 - Dépouillement selon l'image non couvert par les groupes , p.ex. utilisant un courant gazeux, un plasma
C07F 7/18 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si ainsi qu'une ou plusieurs liaisons C—O—Si
C08G 77/50 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone dans lesquels au moins deux atomes de silicium, mais pas la totalité, sont liés autrement que par des atomes d'oxygène par des liaisons au carbone
C08G 77/14 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
A solvent-free light-curable adhesive composition includes: for example, a triazine ring-containing polymer including a repeating unit structure represented by formula [3] and having a weight-average molecular weight of 500-5000; and a reactive diluent such as N-vinylformamide, the composition not including a solvent. The solvent-free light-curable adhesive composition has good compatibility with acrylic materials and the like, which are adhesive components, even without including a solvent.
C09J 4/00 - Adhésifs à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable
C09J 11/06 - Additifs non macromoléculaires organiques
C09J 179/04 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
C08F 226/02 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par une liaison simple ou double à l'azote ou par un hétérocyc par une simple ou une double liaison à l'azote
C09J 7/10 - Adhésifs sous forme de films ou de pellicules sans support
C09J 133/04 - Homopolymères ou copolymères d'esters
C09J 133/14 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters contenant des atomes d'halogène, d'azote, de soufre ou d'oxygène en plus de l'oxygène du radical carboxyle
C09J 7/30 - Adhésifs sous forme de films ou de pellicules caractérisés par la composition de l’adhésif
C08G 69/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant une liaison amide carboxylique dans la chaîne principale de la macromolécule
C08G 73/06 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale de la macromolécule; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
C09J 133/08 - Homopolymères ou copolymères d'esters de l'acide acrylique
C09J 133/10 - Homopolymères ou copolymères d'esters de l'acide méthacrylique
G02B 1/111 - Revêtements antiréfléchissants utilisant des couches comportant des matériaux organiques
C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY (Japon)
NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. (Japon)
Inventeur(s)
Kawanami, Hajime
Ishizaka, Takayuki
Fujiyama, Hitomi
Kakiuchi, Nobuyuki
Shiga, Norihito
Abrégé
A method for preparing a branched alcohol by dimerizing an aliphatic monoalcohol having three or more carbon atoms in the presence of a base and a catalyst. The dimerization reaction is performed under atmospheric pressure while injecting a hydrogen gas. With this method, it is possible to obtain a dimerized alcohol with excellent yield even when using a branched aliphatic monoalcohol as the starting material.
C07C 29/34 - Préparation de composés comportant des groupes hydroxyle ou O-métal liés à un atome de carbone ne faisant pas partie d'un cycle aromatique à six chaînons par des réactions augmentant le nombre d'atomes de carbone sans formation de groupes hydroxyle par condensation impliquant des groupes hydroxyle, ou leurs esters d'acides minéraux, p.ex. réaction de Guerbet
C07C 31/125 - Alcools monohydroxyliques acycliques contenant de cinq à vingt-deux atomes de carbone
B01J 31/02 - Catalyseurs contenant des hydrures, des complexes de coordination ou des composés organiques contenant des composés organiques ou des hydrures métalliques
There are provided a coating composition being possible to form a cured film which has excellent transparency and weather resistance, and especially hardness. A coating composition obtained by which a silicon-containing substance as a component (M) and a silica colloidal particle having a primary particle diameter of 2 to 80 nm as a component (S) are mixed, and then the component (M) is hydrolyzed, and the resulting aqueous solution is subsequently mixed with a colloidal particle (C) wherein a component (F) is a modified metal oxide colloidal particle (C) having a primary particle diameter of 2 to 100 nm, which includes a metal oxide colloidal particle (A) having a primary particle diameter of 2 to 60 nm as a core, whose surface is coated with a coating (B) formed of an acidic oxide colloidal particle.
C09D 5/00 - Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, caractérisées par leur nature physique ou par les effets produits; Apprêts en pâte
B05D 1/18 - Procédés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces par immersion
B05D 3/02 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides par cuisson
Provided are: a charge-transporting varnish that contains a charge-transporting substance comprising an oligoaniline derivative represented by formula (1), a charge transporting substance that does not contain fluorine atoms, and an organic solvent; and an organic electroluminescent element including a thin film obtained from the varnish.
10 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, or an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group or heteroaryl group that may be substituted; A represents a prescribed fluorine atom-containing substituent; and k represents an integer from 1 to 20.)
H01B 1/12 - Conducteurs ou corps conducteurs caractérisés par les matériaux conducteurs utilisés; Emploi de matériaux spécifiés comme conducteurs composés principalement d'autres substances non métalliques substances organiques
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
C07C 231/12 - Préparation d'amides d'acides carboxyliques par des réactions n'impliquant pas la formation de groupes carboxamide
C07C 233/80 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino avec le radical hydrocarboné substitué lié à l'atome d'azote du groupe carboxamide par un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons
C07C 209/10 - Préparation de composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné par substitution de groupes fonctionnels par des groupes amino par substitution d'atomes d'halogène avec formation de groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ou à partir d'amines ayant des atomes d'azote liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons
C07C 231/02 - Préparation d'amides d'acides carboxyliques à partir d'acides carboxyliques ou à partir de leurs esters, anhydrides ou halogénures par réaction avec de l'ammoniac ou des amines
C07C 231/14 - Préparation d'amides d'acides carboxyliques par formation de groupes carboxamide combinée avec des réactions n'impliquant pas les groupes carboxamide
H01L 51/50 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
71.
PHOTOSENSITIVE FIBERS AND METHOD FOR FORMING FIBER PATTERN
The invention provides a method capable of conveniently producing an intricate and fine resist pattern. The invention also provides a fiber containing a positive-type or negative-type photosensitive material.
D01F 6/50 - Filaments, ou similaires, faits par l’homme, à un seul composant, formés de polymères synthétiques; Leur fabrication à partir de mélanges de polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone comme constituant majeur avec d'autres polymères ou des composés de bas poids moléculaire de polyalcools, polyacétals ou polycétals
D01F 1/10 - Autres agents modifiant les propriétés de ces filaments
The invention provides a composition for coating a resist pattern and reversing the pattern by utilizing a difference in etching rates. A composition for applying to a resist pattern includes a component (A) which is at least one compound selected from the group consisting of a metal oxide (a1), a polyacid (a2), a polyacid salt (a3), a hydrolyzable silane (a4), a hydrolysis product (a5) of the hydrolyzable silane, and a hydrolysis condensate (a6) of the hydrolyzable silane; and a component (B), which is an aqueous solvent, in which the hydrolyzable silane (a4) is (i) a hydrolyzable silane containing an organic group having an amino group, (ii) a hydrolyzable silane containing an organic group having an ionic functional group, (iii) a hydrolyzable silane containing an organic group having hydroxy group, or (iv) a hydrolyzable silane containing an organic group having a functional group convertible to hydroxy group.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p.ex. préchauffage
G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs
C08G 77/26 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène groupes contenant de l'azote
C09D 183/08 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène
G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
C08G 77/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone
73.
Triazine ring-containing polymer, and composition for film formation use containing same
A triazine ring-containing polymer which contains a repeating unit structure represented by, for example, formula [4] has a high refractive index and also has excellent solubility in various organic solvents including low-polarity solvents, hydrophobic solvents and low-boiling point solvents. A thin film having a high refractive index and excellent transparency can be formed using a composition for film formation use which contains the polymer.
C08G 73/06 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale de la macromolécule; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
C09D 179/04 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
The invention provides a medium additive, medium composition and a culture method and the like, capable of efficiently culturing cells or tissues in a well dispersed state, and further, permitting cell image analysis of the cells or tissues. The medium additive or medium composition contains agar, which preferably is a low molecular weight agar having a weight average molecular weight of 10,000-60,000. Using same, cells or tissues can be cultured in a well-dispersed state in a medium, and a proliferation promoting effect for the cells or tissues can also be obtained. In addition, the cells can be cultured in any of a floating state and a precipitated state by adjusting the concentration of the aforementioned agar.
C12N 5/00 - Cellules non différenciées humaines, animales ou végétales, p.ex. lignées cellulaires; Tissus; Leur culture ou conservation; Milieux de culture à cet effet
G01N 33/50 - Analyse chimique de matériau biologique, p.ex. de sang ou d'urine; Test par des méthodes faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques par ligands; Test immunologique
C12Q 1/02 - Procédés de mesure ou de test faisant intervenir des enzymes, des acides nucléiques ou des micro-organismes; Compositions à cet effet; Procédés pour préparer ces compositions faisant intervenir des micro-organismes viables
A film-forming composition for ink-jet coating which comprises: a triazine-ring-containing polymer including, for example, the repeating unit structure represented by the following formula [3]; and an organic solvent comprising more than 50 mass % solvent based on a glycol dialkyl ether. The composition is less apt to corrode the heads of ink-jet coating devices, and droplets thereof are satisfactorily ejected in ink-jet coating. Therefore, with the composition, it is possible to easily produce a high-refractive-index film according to a desired pattern through pattern printing by an ink-jet coating device.
C09D 179/04 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
G02B 5/00 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques autres que les lentilles
C08G 73/06 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale de la macromolécule; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
C08L 33/06 - Homopolymères ou copolymères des esters d'esters ne contenant que du carbone, de l'hydrogène et de l'oxygène, l'oxygène, faisant uniquement partie du radical carboxyle
C08F 20/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
G02F 1/13363 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p.ex. des polariseurs ou des réflecteurs Éléments à biréfringence, p.ex. pour la compensation optique
G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
C08F 220/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
C08F 267/06 - Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères d'acides polycarboxyliques non saturés ou de leurs dérivés tels que définis dans le groupe sur des polymères d'esters
G02B 27/26 - Autres systèmes optiques; Autres appareils optiques pour produire des effets stéréoscopiques ou autres effets de relief comprenant des moyens de polarisation
77.
Cured film formation composition, orientation material, and retardation material
A cured-film formation composition that forms a cured film exhibiting excellent liquid-crystal orientation properties and excellent light transmission properties when the cured-film formation composition is used as an orientation material and a layer of a polymerizable liquid crystal is arranged thereon. A cured-film formation composition including a component (A) that is a compound obtained by reacting a cinnamic acid compound of Formula (1) below with a compound having at least one epoxy group in one molecule,
1-6 haloalkoxy, cyano, and nitro; and a component (B) that is a cross-linking agent, an orientation material which is obtained from the composition, and a retardation material which is obtained from the composition.
C08G 59/16 - Polycondensats modifiés par post-traitement chimique par des acides monocarboxyliques ou par leurs anhydrides, halogénures ou esters à bas poids moléculaire
C09D 163/10 - Résines époxy modifiées par des composés non saturés
G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
G02F 1/13363 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p.ex. des polariseurs ou des réflecteurs Éléments à biréfringence, p.ex. pour la compensation optique
C08G 59/40 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde caractérisées par les agents de durcissement utilisés
C09D 201/00 - Compositions de revêtement à base de composés macromoléculaires non spécifiés
C08G 81/02 - Composés macromoléculaires obtenus par l'interréaction de polymères en l'absence de monomères, p.ex. polymères séquencés au moins un des polymères étant obtenu par des réactions ne faisant intervenir que des liaisons non saturées carbone-carbone
C09D 163/00 - Compositions de revêtement à base de résines époxy; Compositions de revêtement à base de dérivés des résines époxy
C09D 187/00 - Compositions de revêtement à base de composés macromoléculaires non spécifiés, obtenus autrement que par des réactions de polymérisation ne faisant intervenir que des liaisons non saturées carbone-carbone
G02B 5/30 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques autres que les lentilles Éléments polarisants
C07C 67/26 - Préparation d'esters d'acides carboxyliques par réaction d'acides carboxyliques ou de leurs dérivés avec une liaison éther carbone-oxygène, p.ex. acétal, tétrahydrofuranne avec un cycle oxirane
C07C 69/65 - Esters contenant des atomes d'halogène d'acides non saturés
C07C 69/618 - Esters d'acides carboxyliques avec un groupe carboxyle lié à un atome de carbone acyclique et comportant un cycle aromatique à six chaînons dans la partie acide avec insaturation autre que celle du cycle aromatique à six chaînons
A photosensor element that is capable of achieving a good balance between high photoelectric conversion efficiency and low dark current is able to be obtained by using a composition for forming a hole collecting layer of a photosensor element, which contains an organic solvent and a charge-transporting material that is composed, for example, of an aniline derivative or thiophene derivative represented by one of formulae (AA)-(DD) and having a molecular weight of 200-2,000.
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
C08G 73/00 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant de l'azote, avec ou sans oxygène ou carbone, non prévus dans les groupes
C08G 61/12 - Composés macromoléculaires contenant d'autres atomes que le carbone dans la chaîne principale de la macromolécule
H01L 51/42 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement
79.
Method for preparing liquid medium composition, and preparation device and kit therefor
The present invention provides a method capable of easily mixing any liquid containing a linking substance such as a divalent metal cation and the like with a liquid containing a particular compound at a high concentration, and capable of producing a liquid medium composition comprising fine structures dispersed therein, and a production device therefor and a kit therefor. The first liquid containing a particular compound is passed through a through-hole having a given cross-sectional area formed in a nozzle part at a given flow rate and injected into the second liquid at a given flow rate. By this simple operation, a structure in which the particular compound is bonded via the linking substance is formed, and the structure is preferably dispersed in a mixture of the both liquids.
C08B 37/00 - Préparation des polysaccharides non prévus dans les groupes ; Leurs dérivés
C12N 5/00 - Cellules non différenciées humaines, animales ou végétales, p.ex. lignées cellulaires; Tissus; Leur culture ou conservation; Milieux de culture à cet effet
A61J 1/20 - Dispositions pour le transfert des liquides, p.ex. du flacon à la seringue
B01J 19/24 - Réacteurs fixes sans élément interne mobile
C08J 3/205 - Formation de mélanges de polymères avec des additifs, p.ex. coloration en présence d'une phase liquide
80.
SACCHARIFICATION REACTION LIQUID, SACCHARIFICATION ENZYME COMPOSITION, PRODUCTION METHOD FOR SUGAR, AND PRODUCTION METHOD FOR ETHANOL
A saccharification reaction liquid for saccharification of cellulose and/or hemicellulose, the reaction liquid comprising cellulose and/or hemicellulose, a saccharification enzyme, silica or a silica-containing substance, and at least one compound (A) selected from the group consisting of polyhydric alcohol compounds represented by general formula (1) and derivatives thereof, and acetylene glycols represented by general formula (2) and alkylene oxide adducts thereof. The symbols in the chemical formulas are as defined in the description.
C13K 1/02 - Glucose; Sirops glucosés obtenus par saccharification de matières cellulosiques
C12P 7/10 - Ethanol en tant que produit chimique et non en tant que boisson alcoolique préparé comme sous-produit, ou préparé à partir d'un substrat constitué par des déchets ou par des matières cellulosiques d'un substrat constitué par des matières cellulosiques
C12P 19/14 - Préparation de composés contenant des radicaux saccharide préparés par action d'une carbohydrase, p.ex. par action de l'alpha-amylase
81.
Coating solution for resist pattern coating and method for forming pattern
A coating solution has a polymer having a formula (1) structural unit, a formula (2) primary, secondary, or tertiary amine, and a formula (3) ester capable of dissolving the polymer and amine:
6 are each independently a linear or branched organic group having a 1-16 carbon atom number.
G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
C09D 133/06 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters ne contenant que du carbone, de l'hydrogène et de l'oxygène, l'atome d'oxygène faisant uniquement partie du radical carboxyle
G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs
G03F 7/42 - Elimination des réserves ou agents à cet effet
H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique en utilisant des masques
The present invention provides: a liquid crystal alignment agent which is capable of suppressing coating defects that occur in an alignment film due to the effects of a wiring structure or C/H, and suppressing a defect in which the display of a liquid crystal display device becomes non-uniform, and which has a reduced viscosity and an increased proportion of resin components; and a liquid crystal alignment film using the liquid crystal alignment agent. The present invention pertains to a liquid crystal alignment agent characterized by containing: at least one polymer selected from the group consisting of a polyimide precursor and polyimide, which is an imidized product thereof, and containing a protecting group that is removed by heat; and a solvent component containing a solvent from Group A below, a solvent from Group B below, and isobutyl ketone. The solvent from Group A is at least one solvent selected from the group consisting of N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, and 1,3-dimethylimidazolidinone, and the solvent from Group B is at least one solvent selected from the group consisting of butyl cellosolve, 1-butoxy-2-propanol, 2-butoxy-1-propanol, and dipropylene glycol dimethyl ether.
There is provided a composition for coating a stepped substrate that has high filling properties of a pattern, and is capable of forming a coating film that does not cause degassing and heat shrinkage, and is used to form a coating film having flattening properties on the substrate. The composition for coating a stepped substrate includes a compound (C) having in the molecule a partial structure of Formula (1) (where R1 and R2 are each independently a hydrogen atom, a C1-10 alkyl group, or a C6-40 aryl group; five R3s are each independently a hydrogen atom, a hydroxy group, a C1-10 alkoxy group, a C1-10 alkyl group, a nitro group, or a halogen atom; and * is a bond site to the compound); and a solvent.
C08J 3/24 - Réticulation, p.ex. vulcanisation, de macromolécules
C09D 163/00 - Compositions de revêtement à base de résines époxy; Compositions de revêtement à base de dérivés des résines époxy
G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
C08F 299/02 - Composés macromoléculaires obtenus par des interréactions de polymères impliquant uniquement des réactions entre des liaisons non saturées carbone-carbone, en l'absence de monomères non macromoléculaires à partir de polycondensats non saturés
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
There are provided a hydrogel having a highly strengthened self-supporting property, which can be prepared by simply mixing at room temperature, and a method for producing the hydrogel. A hydrogel-formable composition capable of forming a hydrogel having a self-supporting property characterized by comprising: a water-soluble organic polymer having an organic acid structure, an organic acid salt structure, or an organic acid anion structure; a silicate; a compound having a diphosphonic acid structure of Formula (I):
2 each are independently a single bond or a linking group, and n is an integer of 1 to 5; or a salt thereof; and a compound having or generating a positive charge of divalent or more, a hydrogel which is formed from the composition, and a method for producing the hydrogel.
C08L 33/02 - Homopolymères ou copolymères des acides; Leurs sels métalliques ou d'ammonium
C08L 101/14 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par des propriétés physiques, p.ex. anisotropie, viscosité ou conductivité électrique les composés macromoléculaires étant solubles dans l'eau ou gonflables dans l'eau, p.ex. gels aqueux
1 is a divalent organic group containing at least one arylene group having at least one substituent, wherein the substituent is a substituent of the following formula (2); and wherein Z is a divalent, aliphatic, aromatic, or alicyclic group optionally having a substituent.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
C08G 65/40 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant une liaison éther dans la chaîne principale de la macromolécule à partir de composés hydroxylés ou de leurs dérivés métalliques dérivés des phénols à partir des phénols et d'autres composés
C09D 171/00 - Compositions de revêtement à base de polyéthers obtenus par des réactions créant une liaison éther dans la chaîne principale; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
There is provided a composition for forming a resist underlayer film for lithography that can be used as an underlayer anti-reflective coating that decreases the reflection of irradiated light during exposure from a semiconductor substrate toward the photoresist layer that is formed on the semiconductor substrate and in particular, can be suitably used as a flattening film for flattening a semiconductor substrate having a recess and a project by embedding, in a lithography process for production of a semiconductor device. A resist underlayer film-forming composition for lithography comprising (A) an alicyclic epoxy compound having an alicyclic skeleton and one or more epoxy groups, and a light absorption moiety, in the molecule, (B) a thermal acid generator, and (C) a solvent.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
C08G 59/20 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde caractérisées par les composés époxydés utilisés
C09D 163/00 - Compositions de revêtement à base de résines époxy; Compositions de revêtement à base de dérivés des résines époxy
G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
A method forms a resist underlayer film that has high resistance to dry etching using a gas containing a fluorocarbon. A method for forming a resist underlayer film includes the steps of: applying to a substrate a resist underlayer film-forming composition containing a fullerene derivative in which one to six molecules of malonic acid diester of the following Formula (1):
1-10 alkyl group, are added to one molecule of fullerene, a compound having at least two epoxy groups, and a solvent; and baking the substrate applied with the resist underlayer film-forming composition at least one time at a temperature of 240° C. or higher under an atmosphere of nitrogen, argon, or a mixture thereof.
C07C 67/347 - Préparation d'esters d'acides carboxyliques par modification de la partie acide de l'ester sans introduction d'un groupe ester par modification de la taille du squelette carboné par augmentation du nombre d'atomes de carbone par addition à des liaisons non saturées carbone-carbone
C07C 69/753 - Esters d'acides carboxyliques dont un groupe carboxyle est lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons d'acides polycycliques
C08F 20/36 - Esters contenant de l'azote contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
C09D 133/14 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters contenant des atomes d'halogène, d'azote, de soufre ou d'oxygène en plus de l'oxygène du radical carboxyle
Provided is a method for manufacturing a carbonaceous luminescent material in which a polycarboxylic-acid-containing starting material, an acid catalyst, and a solvent are mixed together and heated.
There is provided an aqueous suspension agrochemical composition including (Z)-4-[5-(3,5-dichlorophenyl)-5-trifluoromethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl]-N-(methoxyiminomethyl)-2-methylbenzamide, a thickener, a surfactant, and water, which is excellent in homogeneity stability during storage, and simultaneously excellent in ease of discharge from a storage container. An aqueous suspension agrochemical composition comprising (a) (Z)-4-[5-(3,5-dichlorophenyl)-5-trifluoromethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl]-N-(methoxyiminomethyl)-2-methylbenzamide, (b) xanthan gum, (c) a surfactant, and (d) water, wherein the xanthan gum is contained in an amount of 0.15 to 0.65% by mass in the aqueous suspension agrochemical composition. The surfactant is preferably one selected from the group consisting of polyoxyethylene styryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene block polymers, and mixtures thereof.
A01N 43/80 - Biocides, produits repoussant ou attirant les animaux nuisibles, ou régulateurs de croissance des végétaux, contenant des composés hétérocycliques comportant des cycles avec des atomes d'azote et des atomes d'oxygène ou de soufre, comme hétéro-atomes du cycle des cycles à cinq chaînons avec un atome d'azote et soit un atome d'oxygène, soit un atome de soufre, en positions 1,2
A01N 25/30 - Biocides, produits repoussant ou attirant les animaux nuisibles, ou régulateurs de croissance des végétaux, caractérisés par leurs formes, ingrédients inactifs ou modes d'application; Substances réduisant les effets nocifs des ingrédients actifs vis-à-vis d'organismes autres que les animaux nuisibles caractérisés par les agents tensio-actifs
90.
Ligand-binding fiber and cell culture substrate using said fiber
The invention provides a ligand-bonded fiber in which a ligand having affinity for a cell membrane receptor is immobilized on a fiber precursor, and a cell culture substrate capable of repeating ex vivo amplification of a cell expressing a cell membrane receptor by using the ligand-bonded fiber.
C12N 11/08 - Enzymes ou cellules microbiennes immobilisées sur ou dans un support organique le support étant un polymère synthétique
C07K 14/705 - Récepteurs; Antigènes de surface cellulaire; Déterminants de surface cellulaire
C07K 17/08 - Peptides immobilisés sur, ou dans, un support organique le support étant un polymère synthétique
C12M 1/00 - Appareillage pour l'enzymologie ou la microbiologie
C12N 1/00 - Micro-organismes, p.ex. protozoaires; Compositions les contenant; Procédés de culture ou de conservation de micro-organismes, ou de compositions les contenant; Procédés de préparation ou d'isolement d'une composition contenant un micro-organisme; Leurs milieux de culture
D01F 1/10 - Autres agents modifiant les propriétés de ces filaments
D01F 6/00 - Filaments, ou similaires, faits par l’homme, à un seul composant, formés de polymères synthétiques; Leur fabrication
91.
Composition for forming silicon-containing resist underlayer film removable by wet process
1 is organic group of Formula (2):
3 is an alkoxy group, acyloxy group, or halogen group; is an integer of 1; b is an integer of 0 to 2; and a+b is an integer of 1 to 3), and the component (B) is cross-linkable compound having ring structure having alkoxymethyl group or hydroxymethyl group, cross-linkable compound having epoxy group or blocked isocyanate group.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p.ex. préchauffage
G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
C09D 4/00 - Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable
C08G 77/14 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/31 - Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes pour former des couches isolantes en surface, p.ex. pour masquer ou en utilisant des techniques photolithographiques; Post-traitement de ces couches; Emploi de matériaux spécifiés pour ces couches
− and m are as defined in Specification and Claims, and so on. The copolymer of the present invention can be utilized as an ion complex material excellent in a function of inhibiting adhesion of a biological substance.
C09D 143/02 - Homopolymères ou copolymères de monomères contenant du phosphore
C09D 133/14 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters contenant des atomes d'halogène, d'azote, de soufre ou d'oxygène en plus de l'oxygène du radical carboxyle
C08F 230/02 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et contenant du phosphore, du sélénium, du tellure ou un métal contenant du phosphore
C09D 5/00 - Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, caractérisées par leur nature physique ou par les effets produits; Apprêts en pâte
A radiation dosimetry gel is excellent in heat resistance, and a radiation dosimeter includes the radiation dosimetry gel as a material for measuring a radiation dose. A radiation dosimetry gel includes a water-soluble organic polymer (A) having an organic acid salt structure or an organic acid anion structure, a silicate (B), and a dispersant (C) for the silicate, and a radiation dosimeter includes the radiation dosimetry gel as a material for measuring a radiation dose.
G03G 5/10 - Supports pour la réception de charges ou autres couches
G01T 1/167 - Mesure du contenu radioactif des objets, p.ex. contamination
C08L 33/06 - Homopolymères ou copolymères des esters d'esters ne contenant que du carbone, de l'hydrogène et de l'oxygène, l'oxygène, faisant uniquement partie du radical carboxyle
10-24 aliphatic group; dissolution accelerator having, in molecules thereof, hydrophilic portion and hydrophobic portion, the hydrophilic portion having betaine structure; and water; and method for producing hydrogel by use of the dispersion.
B01J 13/00 - Chimie des colloïdes, p.ex. production de substances colloïdales ou de leurs solutions, non prévue ailleurs; Fabrication de microcapsules ou de microbilles
A61K 8/64 - Protéines; Peptides; Leurs dérivés ou produits de dégradation
A61Q 19/00 - Préparations pour les soins de la peau
A61K 8/55 - Cosmétiques ou préparations similaires pour la toilette caractérisés par la composition contenant des composés organiques contenant du phosphore
A61K 47/10 - Alcools; Phénols; Leurs sels, p.ex. glycérol; Polyéthylène glycols [PEG]; Poloxamères; Alkyléthers de PEG/POE
A61K 47/14 - Esters d’acides carboxyliques, p.ex. acides gras monoglycérides, triglycérides à chaine moyenne, parabènes ou esters d’acide gras de PEG
A61K 47/18 - Amines; Amides; Urées; Composés d’ammonium quaternaire; Acides aminés; Oligopeptides ayant jusqu’à cinq acides aminés
A61K 47/24 - Composés organiques, p.ex. hydrocarbures naturels ou synthétiques, polyoléfines, huile minérale, gelée de pétrole ou ozocérite contenant des atomes autres que des atomes de carbone, d'hydrogène, d'oxygène, d'halogènes, d'azote ou de soufre, p.ex. cyclométhicone ou phospholipides
A61K 47/36 - Polysaccharides; Leurs dérivés, p.ex. gommes, amidon, alginate, dextrine, acide hyaluronique, chitosane, inuline, agar-agar ou pectine
A liquid crystal display device, whereby transparency when no voltage is applied and scattering properties when a voltage is applied, are good, adhesion between a liquid crystal layer and a vertical liquid crystal alignment film is high, and its lifespan is long even in a severe environment. The liquid crystal display device has a liquid crystal layer formed by disposing a liquid crystal composition containing a liquid crystal and a polymerizable compound between a pair of substrates provided with electrodes, and irradiating and curing the composition with ultraviolet rays by an ultraviolet irradiation apparatus, and at least one substrate is provided with a liquid crystal alignment film to vertically align a liquid crystal, wherein the ultraviolet irradiation apparatus is an ultraviolet irradiation apparatus capable of controlling the irradiation light intensity and wavelength of the ultraviolet rays to be irradiated and the surface temperature of the pair of the substrates.
G02F 1/1334 - Dispositions relatives à la structure basées sur des cristaux liquides dispersés dans un polymère, p.ex. cristaux liquides micro-encapsulés
G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
C09K 19/06 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides
C09K 19/20 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant au moins deux cycles benzéniques liés par une chaîne contenant des atomes de carbone et d'oxygène comme chaînons, p.ex. esters
C09K 19/30 - Composés non stéroïdes formant des cristaux liquides contenant au moins deux cycles non condensés contenant des cycles non aromatiques saturés ou insaturés, p.ex. cycle cyclohexanique
C09K 19/04 - Substances formant des cristaux liquides caractérisées par la structure chimique des constituants formant des cristaux liquides
C09K 19/54 - Additifs n'ayant pas de mésophase spécifique
96.
METHOD FOR CONTROLLING PESTS, PHARMACEUTICAL COMPOSITION FOR CONTROLLING PESTS, AND PEST CONTROL AGENT SET
Provided are: a method by which various pests can be controlled even at low dosage with no problems in safety; and a pharmaceutical composition for controlling pests and a pest control agent set, which are suitable for use in said method. This method comprises applying 3-endo-[2-propoxy-4-(trifluoromethyl)phenoxy]-9-[5-(trifluoromethyl)-2-pyridyloxy]-9-azabicyclo[3.3.1]nonane or a salt thereof, along with (Z)-4-[5-(3,5-dichlorophenyl)-4,5-dihydro-5-(trifluoromethyl)-3-isoxazolyl]-N-[(methoxyimino)methyl]-2-methylbenzamide or a salt thereof, to a subject, and controls pests.
A01N 43/80 - Biocides, produits repoussant ou attirant les animaux nuisibles, ou régulateurs de croissance des végétaux, contenant des composés hétérocycliques comportant des cycles avec des atomes d'azote et des atomes d'oxygène ou de soufre, comme hétéro-atomes du cycle des cycles à cinq chaînons avec un atome d'azote et soit un atome d'oxygène, soit un atome de soufre, en positions 1,2
A01N 43/90 - Biocides, produits repoussant ou attirant les animaux nuisibles, ou régulateurs de croissance des végétaux, contenant des composés hétérocycliques comportant plusieurs hétérocycles déterminants condensés entre eux ou avec un système carbocyclique commun
A resist underlayer film forming composition for lithography that can be used as a hard mask. The composition can improve pattern resolution due to having a trihalogenoacetamide skeleton. A resist underlayer film forming composition for lithography comprising a hydrolyzable silane, a hydrolysis product thereof, a hydrolysis condensate thereof, or a combination thereof as a silane, wherein the hydrolyzable silane comprises a silane having a halogen-containing carboxylic acid amide group.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
G03F 7/26 - Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
C09D 165/00 - Compositions de revêtement à base de composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant une liaison carbone-carbone dans la chaîne principale; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
C09D 183/08 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène
G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
C08G 16/00 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones avec des monomères non prévus dans les groupes
C09D 161/00 - Compositions de revêtement à base de polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
C09D 183/06 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
C08G 77/26 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène groupes contenant de l'azote
C08G 73/06 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale de la macromolécule; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
C08G 77/24 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes organiques contenant des atomes autres que le carbone, l'hydrogène et l'oxygène groupes contenant des halogènes
98.
Resist underlayer film-forming composition containing polymer having arylene group
A resist underlayer film-forming composition for lithography process having characteristics of enabling wafer surface planarization after film formation, excellent planarization performance on substrate with level difference, and good embeddability in fine hole pattern. The resist underlayer film-forming composition including polymer having unit structure of Formula (1) and solvent,
1 in Formula (1) is organic group of Formula (2),
2 is phenylene group, naphthylene group, or organic group of Formula (3), and dotted line is bond, and
4 is independently phenylene group or naphthylene group, and dotted line is bond.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
G03F 7/16 - Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
[Problem] To provide a resist underlayer film for lithography, which does not undergo intermixing with a resist layer, has high dry etching resistance and high heat resistance, exhibits a low mass decrease at high temperatures and exhibits even coverage of an uneven substrate; and a resist underlayer film-forming composition for forming the resist underlayer film. [Solution] A resist underlayer film-forming composition that contains a polymer containing a unit structure represented by formula (1). The unit structure represented by formula (1) is the unit structure represented by formula (2). Provided is a method for producing a semiconductor device, which includes a step of forming a resist underlayer film on a semiconductor substrate using the resist underlayer film-forming composition, a step of forming a hard mask on the resist underlayer film, a step of further forming a resist film on the hard mask, a step of forming a resist pattern by irradiating and developing the resist with light or an electron beam, a step of forming a pattern by etching the hard mask by means of the resist pattern, a step of forming a pattern by etching the underlayer film by means of the patterned hard mask, and a step of processing the semiconductor substrate by means of the patterned resist underlayer film.
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
A method for manufacturing an electroconductive pattern 40, provided with: a lamination step for laminating an acid generation film 10 containing an acid proliferation agent and a photoacid generator on a polymer film 20 containing an electroconductive polymer formed on a substrate 21; a masking step for masking the top of the acid generation film 10; a light irradiation step for irradiating the laminate from the acid-generation-film 10 side; a doping step for doping the electroconductive polymer with an acid generated and proliferated in the acid generation film 10 by the light irradiation; and a releasing step for releasing the acid generation film 10 from the polymer film 20. This method makes it possible to provide an electroconductive film and a method for manufacturing an electroconductive pattern in which photoacid generation and acid proliferation effects are utilized.
G03F 7/34 - Dépouillement selon l'image par transfert sélectif, p.ex. par arrachement
G03F 7/09 - Matériaux photosensibles - caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
H01B 5/14 - Conducteurs ou corps conducteurs non isolés caractérisés par la forme comprenant des couches ou pellicules conductrices sur supports isolants
H01B 1/12 - Conducteurs ou corps conducteurs caractérisés par les matériaux conducteurs utilisés; Emploi de matériaux spécifiés comme conducteurs composés principalement d'autres substances non métalliques substances organiques
H01B 13/00 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de conducteurs ou câbles
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
C03C 17/28 - Traitement de surface du verre, p.ex. du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement par des matières organiques
brevets
