Abrégé

Y.

Classes IPC  ?

• H01L 27/08 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type
• H01L 49/02 - Dispositifs à film mince ou à film épais
• H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive

Abrégé

There is provided a semiconductor device including a memory region and a logic region. The memory region includes a transistor (memory transistor) that stores information by accumulating charge in a sidewall insulating film. The width of the sidewall insulating film of the memory transistor included in the memory region is made larger than the width of a sidewall insulating film of a transistor (logic transistor) included in the logic region.

Classes IPC  ?

• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
• H01L 27/11573 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec isolateurs de grille à piégeage de charge, p.ex. MNOS ou NROM caractérisées par la région de circuit périphérique
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/792 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à isolant de grille à emmagasinage de charges, p.ex. transistor de mémoire MNOS
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée

Abrégé

A semiconductor structure includes first, second, and third transistor elements each having a first screening region concurrently formed therein. A second screening region is formed in the second and third transistor elements such that there is at least one characteristic of the screening region in the second transistor element that is different than the second screening region in the third transistor element. Different characteristics include doping concentration and depth of implant. In addition, a different characteristic may be achieved by concurrently implanting the second screening region in the second and third transistor element followed by implanting an additional dopant into the second screening region of the third transistor element.

Classes IPC  ?

• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/283 - Dépôt de matériaux conducteurs ou isolants pour les électrodes

Abrégé

A manufacturing method of a semiconductor device includes: forming a tunnel oxide layer and a charge-storage layer in a region of a flash memory transistor; forming a first oxide film; removing the first oxide film in regions of a first transistor and a second transistor; forming a third oxide film by adding a first oxide layer between a first oxide film and a semiconductor substrate in a region of a third transistor while forming a second oxide film in the regions of the first transistor and the second transistor by oxidation; removing the second oxide film in the region of the first transistor; and forming a fifth oxide film by adding a second oxide layer between the second oxide film and the semiconductor substrate in the region of the second transistor while forming a fourth oxide film in the region of the first transistor by oxidation, and forming a sixth oxide film by adding a third oxide layer between the first oxide layer and the semiconductor substrate in the region of the third transistor.

Classes IPC  ?

• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 27/11573 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec isolateurs de grille à piégeage de charge, p.ex. MNOS ou NROM caractérisées par la région de circuit périphérique
• H01L 27/1157 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec isolateurs de grille à piégeage de charge, p.ex. MNOS ou NROM caractérisées par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H01L 21/225 - Diffusion des impuretés, p. ex. des matériaux de dopage, des matériaux pour électrodes, à l'intérieur ou hors du corps semi-conducteur, ou entre les régions semi-conductricesRedistribution des impuretés, p. ex. sans introduction ou sans élimination de matériau dopant supplémentaire en utilisant la diffusion dans ou hors d'un solide, à partir d'une ou en phase solide, p. ex. une couche d'oxyde dopée
• H01L 21/28 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes
• H01L 21/266 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions en utilisant des masques

Abrégé

Digital circuits are disclosed that may include multiple transistors having controllable current paths coupled between first and second logic nodes. One or more of the transistors may have a deeply depleted channel formed below its gate that includes a substantially undoped channel region formed over a relatively highly doped screen layer formed over a doped body region. Resulting reductions in threshold voltage variation may improve digital circuit performance. Logic circuit, static random access memory (SRAM) cell, and passgate embodiments are disclosed.

Classes IPC  ?

• H01L 25/00 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H03K 19/00 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion
• H03K 19/0948 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion utilisant des éléments spécifiés utilisant des dispositifs à semi-conducteurs utilisant des transistors à effet de champ utilisant des transistors MOSFET utilisant des dispositifs CMOS
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• G11C 11/412 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments électriques utilisant des dispositifs à semi-conducteurs utilisant des transistors formant des cellules avec réaction positive, c.-à-d. des cellules ne nécessitant pas de rafraîchissement ou de régénération de la charge, p. ex. multivibrateur bistable, déclencheur de Schmitt utilisant uniquement des transistors à effet de champ
• H01L 27/118 - Circuits intégrés à tranche maîtresse
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 27/11 - Structures de mémoires statiques à accès aléatoire

Abrégé

An integrated circuit can include a plurality of first transistors formed in a substrate and having gate lengths of less than one micron and at least one tipless transistor formed in the substrate and having a source-drain path coupled between a circuit node and a first power supply voltage. In addition or alternatively, an integrated circuit can include minimum feature size transistors; a signal driving circuit comprising a first transistor of a first conductivity type having a source-drain path coupled between a first power supply node and an output node, and a second transistor of a second conductivity type having a source-drain path coupled between a second power supply node and the output node, and a gate coupled to a gate of the first transistor, wherein the first or second transistor is a tipless transistor.

Classes IPC  ?

• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
• H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H03K 3/356 - Circuits bistables
• H03K 5/06 - Mise en forme d'impulsions par augmentation de duréeMise en forme d'impulsions par diminution de durée par l'utilisation de lignes à retard ou d'autres éléments à retard analogues
• H03L 7/08 - Détails de la boucle verrouillée en phase
• G11C 7/08 - Leur commande
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• G11C 7/06 - Amplificateurs de lectureCircuits associés
• H03L 7/081 - Détails de la boucle verrouillée en phase avec un déphaseur commandé additionnel

Abrégé

Digital circuits are disclosed that may include multiple transistors having controllable current paths coupled between first and second logic nodes. One or more of the transistors may have a deeply depleted channel formed below its gate that includes a substantially undoped channel region formed over a relatively highly doped screen layer formed over a doped body region. Resulting reductions in threshold voltage variation may improve digital circuit performance. Logic circuit, static random access memory (SRAM) cell, and passgate embodiments are disclosed.

Classes IPC  ?

• H01L 25/00 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H03K 19/00 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion
• G11C 11/412 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments électriques utilisant des dispositifs à semi-conducteurs utilisant des transistors formant des cellules avec réaction positive, c.-à-d. des cellules ne nécessitant pas de rafraîchissement ou de régénération de la charge, p. ex. multivibrateur bistable, déclencheur de Schmitt utilisant uniquement des transistors à effet de champ
• H01L 27/118 - Circuits intégrés à tranche maîtresse
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus

Abrégé

Semiconductor devices and methods of fabricating such devices are provided. The devices include source and drain regions on one conductivity type separated by a channel length and a gate structure. The devices also include a channel region of the one conductivity type formed in the device region between the source and drain regions and a screening region of another conductivity type formed below the channel region and between the source and drain regions. In operation, the channel region forms, in response to a bias voltage at the gate structure, a surface depletion region below the gate structure, a buried depletion region at an interface of the channel region and the screening region, and a buried channel region between the surface depletion region and the buried depletion region, where the buried depletion region is substantially located in channel region.

Classes IPC  ?

• H01L 29/76 - Dispositifs unipolaires
• H01L 29/94 - Dispositifs à métal-isolant-semi-conducteur, p.ex. MOS
• H01L 31/062 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails adaptés comme dispositifs de conversion photovoltaïque [PV] caractérisés par au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface les barrières de potentiel étant uniquement du type métal-isolant-semi-conducteur
• H01L 31/113 - Dispositifs sensibles au rayonnement infrarouge, visible ou ultraviolet caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. phototransistor à effet de champ à jonction du type conducteur-isolant-semi-conducteur, p.ex. transistor à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur
• H01L 31/119 - Dispositifs sensibles au rayonnement d'ondes très courtes, p.ex. rayons X, rayons gamma ou rayonnement corpusculaire caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. détecteurs du type MIS
• H01L 27/146 - Structures de capteurs d'images
• H04N 5/3745 - Capteurs adressés, p.ex. capteurs MOS ou CMOS ayant des composants supplémentaires incorporés au sein d'un pixel ou connectés à un groupe de pixels au sein d'une matrice de capteurs, p.ex. mémoires, convertisseurs A/N, amplificateurs de pixels, circuits communs ou composants communs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus

Abrégé

There is provided a semiconductor device including a memory region and a logic region. The memory region includes a transistor (memory transistor) that stores information by accumulating charge in a sidewall insulating film. The width of the sidewall insulating film of the memory transistor included in the memory region is made larger than the width of a sidewall insulating film of a transistor (logic transistor) included in the logic region.

Classes IPC  ?

• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 27/108 - Structures de mémoires dynamiques à accès aléatoire
• H01L 27/01 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant uniquement des éléments à film mince ou à film épais formés sur un substrat isolant commun
• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
• H01L 29/792 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à isolant de grille à emmagasinage de charges, p.ex. transistor de mémoire MNOS
• H01L 27/11573 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec isolateurs de grille à piégeage de charge, p.ex. MNOS ou NROM caractérisées par la région de circuit périphérique
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter

Abrégé

An integrated circuit can include multiple SRAM cells, each including at least two pull-up transistors, at least two pull-down transistors, and at least two pass-gate transistors, each of the transistors having a gate; at least one of the pull-up transistors, the pull-down transistors, or the pass-gate transistors having a screening region a distance below the gate and separated from the gate by a semiconductor layer, the screening region having a concentration of screening region dopants, the concentration of screening region dopants being higher than a concentration of dopants in the semiconductor layer, the screening region providing an enhanced body coefficient for the pull-down transistors and the pass-gate transistors to increase the read static noise margin for the SRAM cell when a bias voltage is applied to the screening region; and a bias voltage network operable to apply one or more bias voltages to the multiple SRAM cells.

Classes IPC  ?

• G11C 7/00 - Dispositions pour écrire une information ou pour lire une information dans une mémoire numérique
• G11C 11/418 - Circuits d'adressage
• G11C 11/419 - Circuits de lecture-écriture [R-W]
• H01L 27/11 - Structures de mémoires statiques à accès aléatoire
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus

Abrégé

A semiconductor integrated circuit apparatus and a manufacturing method for the same are provided in such a manner that a leak current caused by a ballast resistor is reduced, and at the same time, the inconsistency in the leak current is reduced. The peak impurity concentration of the ballast resistors is made smaller than the peak impurity concentration in the extension regions, and the depth of the ballast resistors is made greater than the depth of the extension regions.

Classes IPC  ?

• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 27/07 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive les composants ayant une région active en commun
• H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
• H01L 27/11517 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

Y.

Classes IPC  ?

• H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
• H01L 29/8605 - Résistances à jonction PN
• H01L 49/02 - Dispositifs à film mince ou à film épais
• H01L 27/08 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type

Abrégé

Digital circuits are disclosed that may include multiple transistors having controllable current paths coupled between first and second logic nodes. One or more of the transistors may have a deeply depleted channel formed below its gate that includes a substantially undoped channel region formed over a relatively highly doped screen layer formed over a doped body region. Resulting reductions in threshold voltage variation may improve digital circuit performance. Logic circuit, static random access memory (SRAM) cell, and passgate embodiments are disclosed.

Classes IPC  ?

• H01L 25/00 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H03K 19/00 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 27/118 - Circuits intégrés à tranche maîtresse
• G11C 11/412 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments électriques utilisant des dispositifs à semi-conducteurs utilisant des transistors formant des cellules avec réaction positive, c.-à-d. des cellules ne nécessitant pas de rafraîchissement ou de régénération de la charge, p. ex. multivibrateur bistable, déclencheur de Schmitt utilisant uniquement des transistors à effet de champ

Abrégé

A semiconductor structure includes first, second, and third transistor elements each having a first screening region concurrently formed therein. A second screening region is formed in the second and third transistor elements such that there is at least one characteristic of the screening region in the second transistor element that is different than the second screening region in the third transistor element. Different characteristics include doping concentration and depth of implant. In addition, a different characteristic may be achieved by concurrently implanting the second screening region in the second and third transistor element followed by implanting an additional dopant into the second screening region of the third transistor element.

Classes IPC  ?

• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/283 - Dépôt de matériaux conducteurs ou isolants pour les électrodes
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée

Abrégé

T of FETs having dopants in the channel region to be set much more precisely. The DDC design also can have a strong body effect compared to conventional bulk CMOS transistors, which can allow for significant dynamic control of power consumption in DDC transistors. Additional structures, configurations, and methods presented herein can be used alone or in conjunction with the DDC to yield additional and different benefits.

Classes IPC  ?

• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 21/84 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant autre chose qu'un corps semi-conducteur, p.ex. étant un corps isolant
• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
• H01L 27/11 - Structures de mémoires statiques à accès aléatoire
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices

Abrégé

An integrated circuit can include a plurality of first transistors formed in a substrate and having gate lengths of less than one micron and at least one tipless transistor formed in the substrate and having a source-drain path coupled between a circuit node and a first power supply voltage. In addition or alternatively, an integrated circuit can include minimum feature size transistors; a signal driving circuit comprising a first transistor of a first conductivity type having a source-drain path coupled between a first power supply node and an output node, and a second transistor of a second conductivity type having a source-drain path coupled between a second power supply node and the output node, and a gate coupled to a gate of the first transistor, wherein the first or second transistor is a tipless transistor.

Classes IPC  ?

• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H03L 7/08 - Détails de la boucle verrouillée en phase
• H03L 7/081 - Détails de la boucle verrouillée en phase avec un déphaseur commandé additionnel
• H03K 5/06 - Mise en forme d'impulsions par augmentation de duréeMise en forme d'impulsions par diminution de durée par l'utilisation de lignes à retard ou d'autres éléments à retard analogues
• H03K 3/356 - Circuits bistables
• G11C 7/08 - Leur commande
• G11C 7/06 - Amplificateurs de lectureCircuits associés

Abrégé

A system having an integrated circuit (IC) device can include a die formed on a semiconductor substrate and having a plurality of first wells formed therein, the first wells being doped to at least a first conductivity type; a global network configured to supply a first global body bias voltage to the first wells; and a first bias circuit corresponding to each first well and configured to generate a first local body bias for its well having a smaller setting voltage than the first global body bias voltage; wherein at least one of the first wells is coupled to a transistor having a strong body coefficient formed therein, which transistor may be a transistor having a highly doped region formed below a substantially undoped channel, the highly doped region having a dopant concentration greater than that the corresponding well.

Classes IPC  ?

• H03K 17/06 - Modifications pour assurer un état complètement conducteur
• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
• G11C 5/14 - Dispositions pour l'alimentation
• H03K 3/012 - Modifications du générateur pour améliorer le temps de réponse ou pour diminuer la consommation d'énergie
• G06F 17/50 - Conception assistée par ordinateur
• G05F 3/20 - Régulation de la tension ou du courant là où la tension ou le courant sont continus utilisant des dispositifs non commandés à caractéristiques non linéaires consistant en des dispositifs à semi-conducteurs en utilisant des combinaisons diode-transistor
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• G11C 5/02 - Disposition d'éléments d'emmagasinage, p. ex. sous la forme d'une matrice
• H02M 3/07 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des résistances ou des capacités, p. ex. diviseur de tension utilisant des capacités chargées et déchargées alternativement par des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande

Abrégé

3. At least one punch through suppression region is disposed under the gate between the screening region and the well. The punch through suppression region has a third concentration of a dopant intermediate between the first concentration and the second concentration of dopant. A bias voltage may be applied to the well region to adjust a threshold voltage of the transistor.

Classes IPC  ?

• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés

Abrégé

A method for fabricating field effect transistors using carbon doped silicon layers to substantially reduce the diffusion of a doped screen layer formed below a substantially undoped channel layer includes forming an in-situ epitaxial carbon doped silicon substrate that is doped to form the screen layer in the carbon doped silicon substrate and forming the substantially undoped silicon layer above the carbon doped silicon substrate. The method may include implanting carbon below the screen layer and forming a thin layer of in-situ epitaxial carbon doped silicon above the screen layer. The screen layer may be formed either in a silicon substrate layer or the carbon doped silicon substrate.

Classes IPC  ?

• H01L 21/425 - Bombardement par des radiations par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 21/04 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives les dispositifs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement ou une région de concentration de porteurs de charges
• H01L 21/82 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

Semiconductor devices and methods of fabricating such devices are provided. The devices include source and drain regions on one conductivity type separated by a channel length and a gate structure. The devices also include a channel region of the one conductivity type formed in the device region between the source and drain regions and a screening region of another conductivity type formed below the channel region and between the source and drain regions. In operation, the channel region forms, in response to a bias voltage at the gate structure, a surface depletion region below the gate structure, a buried depletion region at an interface of the channel region and the screening region, and a buried channel region between the surface depletion region and the buried depletion region, where the buried depletion region is substantially located in channel region.

Classes IPC  ?

• H01L 29/76 - Dispositifs unipolaires
• H01L 29/94 - Dispositifs à métal-isolant-semi-conducteur, p.ex. MOS
• H01L 31/062 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails adaptés comme dispositifs de conversion photovoltaïque [PV] caractérisés par au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface les barrières de potentiel étant uniquement du type métal-isolant-semi-conducteur
• H01L 31/113 - Dispositifs sensibles au rayonnement infrarouge, visible ou ultraviolet caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. phototransistor à effet de champ à jonction du type conducteur-isolant-semi-conducteur, p.ex. transistor à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur
• H01L 31/119 - Dispositifs sensibles au rayonnement d'ondes très courtes, p.ex. rayons X, rayons gamma ou rayonnement corpusculaire caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. détecteurs du type MIS
• H01L 27/146 - Structures de capteurs d'images
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H04N 5/3745 - Capteurs adressés, p.ex. capteurs MOS ou CMOS ayant des composants supplémentaires incorporés au sein d'un pixel ou connectés à un groupe de pixels au sein d'une matrice de capteurs, p.ex. mémoires, convertisseurs A/N, amplificateurs de pixels, circuits communs ou composants communs

Abrégé

A transistor device with a tuned dopant profile is fabricated by implanting one or more dopant migrating mitigating material such as carbon. The process conditions for the carbon implant are selected to achieve a desired peak location and height of the dopant profile for each dopant implant, such as boron. Different transistor devices with similar boron implants may be fabricated with different peak locations and heights for their respective dopant profiles by tailoring the carbon implant energy to effect tuned dopant profiles for the boron.

Classes IPC  ?

• H01L 29/02 - Corps semi-conducteurs
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives

Abrégé

T of FETs having dopants in the channel region to be set much more precisely. The DDC design also can have a strong body effect compared to conventional bulk CMOS transistors, which can allow for significant dynamic control of power consumption in DDC transistors. The semiconductor structure includes an analog device and a digital device each having an epitaxial channel layer where a single gate oxidation layer is on the epitaxial channel layer of NMOS and PMOS transistor elements of the digital device and one of a double and triple gate oxidation layer is on the epitaxial channel layer of NMOS and PMOS transistor elements of the analog device.

Classes IPC  ?

• H01L 21/70 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun, ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ciFabrication de dispositifs à circuit intégré ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

T of FETs having dopants in the channel region to be set much more precisely. The DDC design also can have a strong body effect compared to conventional bulk CMOS transistors, which can allow for significant dynamic control of power consumption in DDC transistors. Additional structures, configurations, and methods presented herein can be used alone or in conjunction with the DDC to yield additional and different benefits.

Classes IPC  ?

• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 21/84 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant autre chose qu'un corps semi-conducteur, p.ex. étant un corps isolant
• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
• H01L 27/11 - Structures de mémoires statiques à accès aléatoire
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices

Abrégé

T for a given device.

Classes IPC  ?

• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/49 - Electrodes du type métal-isolant-semi-conducteur

Abrégé

Semiconductor devices and methods of fabricating such devices are provided. The devices include source and drain regions on one conductivity type separated by a channel length and a gate structure. The devices also include a channel region of the one conductivity type formed in the device region between the source and drain regions and a screening region of another conductivity type formed below the channel region and between the source and drain regions. In operation, the channel region forms, in response to a bias voltage at the gate structure, a surface depletion region below the gate structure, a buried depletion region at an interface of the channel region and the screening region, and a buried channel region between the surface depletion region and the buried depletion region, where the buried depletion region is substantially located in channel region.

Classes IPC  ?

• H01L 21/336 - Transistors à effet de champ à grille isolée
• H01L 27/146 - Structures de capteurs d'images
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

An integrated circuit can include a plurality of first transistors formed in a substrate and having gate lengths of less than one micron and at least one tipless transistor formed in the substrate and having a source-drain path coupled between a circuit node and a first power supply voltage. In addition or alternatively, an integrated circuit can include minimum feature size transistors; a signal driving circuit comprising a first transistor of a first conductivity type having a source-drain path coupled between a first power supply node and an output node, and a second transistor of a second conductivity type having a source-drain path coupled between a second power supply node and the output node, and a gate coupled to a gate of the first transistor, wherein the first or second transistor is a tipless transistor.

Classes IPC  ?

• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• G11C 7/08 - Leur commande
• H03K 5/06 - Mise en forme d'impulsions par augmentation de duréeMise en forme d'impulsions par diminution de durée par l'utilisation de lignes à retard ou d'autres éléments à retard analogues
• H03K 3/356 - Circuits bistables
• H03L 7/08 - Détails de la boucle verrouillée en phase

Abrégé

A semiconductor device includes first and second transistors connected to the same power supply. Each of the first and second transistors includes, under a channel region of a low concentration provided between a source region and a drain region of a first conductivity type, an impurity region of a second conductivity type having a higher concentration. The thickness of the gate insulating film in one of the first and second transistors is made larger than the thickness of the gate insulating film in the other one.

Classes IPC  ?

• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 21/8234 - Technologie MIS

Abrégé

There is provided a semiconductor device including a memory region and a logic region. The memory region includes a transistor (memory transistor) that stores information by accumulating charge in a sidewall insulating film. The width of the sidewall insulating film of the memory transistor included in the memory region is made larger than the width of a sidewall insulating film of a transistor (logic transistor) included in the logic region.

Classes IPC  ?

• H01L 27/108 - Structures de mémoires dynamiques à accès aléatoire
• H01L 29/76 - Dispositifs unipolaires
• H01L 31/113 - Dispositifs sensibles au rayonnement infrarouge, visible ou ultraviolet caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. phototransistor à effet de champ à jonction du type conducteur-isolant-semi-conducteur, p.ex. transistor à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur
• H01L 27/01 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant uniquement des éléments à film mince ou à film épais formés sur un substrat isolant commun
• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
• H01L 27/11573 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec isolateurs de grille à piégeage de charge, p.ex. MNOS ou NROM caractérisées par la région de circuit périphérique
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/792 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à isolant de grille à emmagasinage de charges, p.ex. transistor de mémoire MNOS

Abrégé

A method for fabricating field effect transistors using carbon doped silicon layers to substantially reduce the diffusion of a doped screen layer formed below a substantially undoped channel layer includes forming an in-situ epitaxial carbon doped silicon substrate that is doped to form the screen layer in the carbon doped silicon substrate and forming the substantially undoped silicon layer above the carbon doped silicon substrate. The method may include implanting carbon below the screen layer and forming a thin layer of in-situ epitaxial carbon doped silicon above the screen layer. The screen layer may be formed either in a silicon substrate layer or the carbon doped silicon substrate.

Classes IPC  ?

• H01L 21/425 - Bombardement par des radiations par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/04 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives les dispositifs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement ou une région de concentration de porteurs de charges
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/82 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS

Abrégé

A method for modifying a design of an integrated circuit includes obtaining design layout data for the integrated circuit and selecting at least one SRAM cell in the integrated circuit to utilize enhanced body effect (EBE) transistors comprising a substantially undoped channel layer and a highly doped screening region beneath the channel layer. The method also includes extracting, from the design layout, NMOS active area patterns and PMOS active area patterns associated with the SRAM cell to define an EBE NMOS active area layout and a EBE PMOS active area layout. The method further includes adjusting the EBE NMOS active area layout to reduce a width of at least pull-down devices in the SRAM cell and altering a gate layer layout in the design layout data such that a length of pull-up devices in the at least one SRAM and a length of the pull-down devices are substantially equal.

Classes IPC  ?

• G06F 17/50 - Conception assistée par ordinateur
• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface

Abrégé

An integrated circuit can include multiple SRAM cells, each including at least two pull-up transistors, at least two pull-down transistors, and at least two pass-gate transistors, each of the transistors having a gate; at least one of the pull-up transistors, the pull-down transistors, or the pass-gate transistors having a screening region a distance below the gate and separated from the gate by a semiconductor layer, the screening region having a concentration of screening region dopants, the concentration of screening region dopants being higher than a concentration of dopants in the semiconductor layer, the screening region providing an enhanced body coefficient for the pull-down transistors and the pass-gate transistors to increase the read static noise margin for the SRAM cell when a bias voltage is applied to the screening region; and a bias voltage network operable to apply one or more bias voltages to the multiple SRAM cells.

Classes IPC  ?

• G11C 11/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants
• G11C 11/412 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments électriques utilisant des dispositifs à semi-conducteurs utilisant des transistors formant des cellules avec réaction positive, c.-à-d. des cellules ne nécessitant pas de rafraîchissement ou de régénération de la charge, p. ex. multivibrateur bistable, déclencheur de Schmitt utilisant uniquement des transistors à effet de champ
• G11C 7/02 - Dispositions pour écrire une information ou pour lire une information dans une mémoire numérique avec des moyens d'éviter les signaux parasites
• G11C 11/419 - Circuits de lecture-écriture [R-W]
• H01L 27/11 - Structures de mémoires statiques à accès aléatoire
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• G11C 5/06 - Dispositions pour interconnecter électriquement des éléments d'emmagasinage
• G11C 5/14 - Dispositions pour l'alimentation
• G11C 11/417 - Circuits auxiliaires, p. ex. pour l'adressage, le décodage, la commande, l'écriture, la lecture, la synchronisation ou la réduction de la consommation pour des cellules de mémoire du type à effet de champ
• G11C 11/418 - Circuits d'adressage
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/167 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée caractérisés en outre par le matériau de dopage
• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface

Abrégé

Fabrication of a first device on a substrate is performed by exposing a first device region, removing a portion of the substrate to create a trench in the first device region, forming a screen layer with a first dopant concentration in the trench on the substrate, and forming an epitaxial channel on the screen layer having a first thickness. On or more other devices are similarly formed on the substrate independent of each other with epitaxial channels of different thicknesses than the first thickness. Devices with screen layers having the same dopant concentration but with different epitaxial channel thicknesses have different threshold voltages. Thus, a wide variety of threshold voltage devices can be formed on the same substrate. Further threshold voltage setting can be achieved through variations in the dopant concentration of the screen layers.

Classes IPC  ?

• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 21/8234 - Technologie MIS

Abrégé

Methods for fabricating semiconductor devices and devices therefrom are provided. A method includes providing a substrate having a semiconducting surface with first and second layers, where the semiconducting surface has a plurality of active regions comprising first and second active regions. In the first active region, the first layer is an undoped layer and the second layer is a highly doped screening layer. The method also includes removing a part of the first layer to reduce a thickness of the substantially undoped layer for at least a portion of the first active region without a corresponding thickness reduction of the first layer in the second active region. The method additionally includes forming semiconductor devices in the plurality of active regions. In the method, the part of the first layer removed is selected based on a threshold voltage adjustment required for the substrate in the portion of the first active region.

Classes IPC  ?

• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 27/11 - Structures de mémoires statiques à accès aléatoire
• H01L 29/16 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices

Abrégé

An integrated circuit can include a plurality of first transistors formed in a substrate and having gate lengths of less than one micron and at least one tipless transistor formed in the substrate and having a source-drain path coupled between a circuit node and a first power supply voltage. In addition or alternatively, an integrated circuit can include minimum feature size transistors; a signal driving circuit comprising a first transistor of a first conductivity type having a source-drain path coupled between a first power supply node and an output node, and a second transistor of a second conductivity type having a source-drain path coupled between a second power supply node and the output node, and a gate coupled to a gate of the first transistor, wherein the first or second transistor is a tipless transistor.

Classes IPC  ?

• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H03K 3/356 - Circuits bistables
• H03K 5/06 - Mise en forme d'impulsions par augmentation de duréeMise en forme d'impulsions par diminution de durée par l'utilisation de lignes à retard ou d'autres éléments à retard analogues
• H03L 7/08 - Détails de la boucle verrouillée en phase
• H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ

Abrégé

3. At least one punch through suppression region is disposed under the gate between the screening region and the well. The punch through suppression region has a third concentration of a dopant intermediate between the first concentration and the second concentration of dopant. A bias voltage may be applied to the well region to adjust a threshold voltage of the transistor.

Classes IPC  ?

• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

A transistor device with a tuned dopant profile is fabricated by implanting one or more dopant migrating mitigating material such as carbon. The process conditions for the carbon implant are selected to achieve a desired peak location and height of the dopant profile for each dopant implant, such as boron. Different transistor devices with similar boron implants may be fabricated with different peak locations and heights for their respective dopant profiles by tailoring the carbon implant energy to effect tuned dopant profiles for the boron.

Classes IPC  ?

• H01L 21/336 - Transistors à effet de champ à grille isolée
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives

Abrégé

A semiconductor structure includes first, second, and third transistor elements each having a first screening region concurrently formed therein. A second screening region is formed in the second and third transistor elements such that there is at least one characteristic of the screening region in the second transistor element that is different than the second screening region in the third transistor element. Different characteristics include doping concentration and depth of implant. In addition, a different characteristic may be achieved by concurrently implanting the second screening region in the second and third transistor element followed by implanting an additional dopant into the second screening region of the third transistor element.

Classes IPC  ?

• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 21/8234 - Technologie MIS

Abrégé

An integrated circuit can include multiple SRAM cells, each including at least two pull-up transistors, at least two pull-down transistors, and at least two pass-gate transistors, each of the transistors having a gate; at least one of the pull-up transistors, the pull-down transistors, or the pass-gate transistors having a screening region a distance below the gate and separated from the gate by a semiconductor layer, the screening region having a concentration of screening region dopants, the concentration of screening region dopants being higher than a concentration of dopants in the semiconductor layer, the screening region providing an enhanced body coefficient for the pull-down transistors and the pass-gate transistors to increase the read static noise margin for the SRAM cell when a bias voltage is applied to the screening region; and a bias voltage network operable to apply one or more bias voltages to the multiple SRAM cells.

Classes IPC  ?

• G11C 11/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants
• H01L 27/11 - Structures de mémoires statiques à accès aléatoire
• G11C 11/412 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments électriques utilisant des dispositifs à semi-conducteurs utilisant des transistors formant des cellules avec réaction positive, c.-à-d. des cellules ne nécessitant pas de rafraîchissement ou de régénération de la charge, p. ex. multivibrateur bistable, déclencheur de Schmitt utilisant uniquement des transistors à effet de champ

Abrégé

A semiconductor device includes a substrate having a semiconducting surface having formed therein a first active region and a second active region, where the first active region consists of a substantially undoped layer at the surface and a highly doped screening layer of a first conductivity type beneath the first substantially undoped layer, and the second active region consists of a second substantially undoped layer at the surface and a second highly doped screening layer of a second conductivity type beneath the second substantially undoped layer. The semiconductor device also includes a gate stack formed in each of the first active region and the second active region consists of at least one gate dielectric layer and a layer of a metal, where the metal has a workfunction that is substantially midgap with respect to the semiconducting surface.

Classes IPC  ?

• H01L 27/11 - Structures de mémoires statiques à accès aléatoire
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/161 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée comprenant plusieurs des éléments prévus en
• H01L 29/49 - Electrodes du type métal-isolant-semi-conducteur

Abrégé

A transistor device with a tuned dopant profile is fabricated by implanting one or more dopant migrating mitigating material such as carbon. The process conditions for the carbon implant are selected to achieve a desired peak location and height of the dopant profile for each dopant implant, such as boron. Different transistor devices with similar boron implants may be fabricated with different peak locations and heights for their respective dopant profiles by tailoring the carbon implant energy to effect tuned dopant profiles for the boron.

Classes IPC  ?

• H01L 21/336 - Transistors à effet de champ à grille isolée
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

A semiconductor device includes a substrate having a semiconducting surface having formed therein a first active region and a second active region, where the first active region consists of a substantially undoped layer at the surface and a highly doped screening layer of a first conductivity type beneath the first substantially undoped layer, and the second active region consists of a second substantially undoped layer at the surface and a second highly doped screening layer of a second conductivity type beneath the second substantially undoped layer. The semiconductor device also includes a gate stack formed in each of the first active region and the second active region consists of at least one gate dielectric layer and a layer of a metal, where the metal has a workfunction that is substantially midgap with respect to the semiconducting surface.

Classes IPC  ?

• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS

Abrégé

An integrated circuit device can include at least a first body bias circuit configured to generate a first body bias voltage different from power supply voltages of the IC device; at least a first bias control circuit configured to set a first body bias node to a first power supply voltage, and subsequently enabling the first body bias node to be set to the first body bias voltage; and a plurality of first transistors having bodies connected to the first body bias node.

Classes IPC  ?

• H03K 3/01 - Circuits pour produire des impulsions électriquesCircuits monostables, bistables ou multistables Détails
• G05F 3/20 - Régulation de la tension ou du courant là où la tension ou le courant sont continus utilisant des dispositifs non commandés à caractéristiques non linéaires consistant en des dispositifs à semi-conducteurs en utilisant des combinaisons diode-transistor

Abrégé

Digital circuits are disclosed that may include multiple transistors having controllable current paths coupled between first and second logic nodes. One or more of the transistors may have a deeply depleted channel formed below its gate that includes a substantially undoped channel region formed over a relatively highly doped screen layer formed over a doped body region. Resulting reductions in threshold voltage variation may improve digital circuit performance. Logic circuit, static random access memory (SRAM) cell, and passgate embodiments are disclosed.

Classes IPC  ?

• H01L 25/00 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H03K 19/00 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion
• H03K 19/0948 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion utilisant des éléments spécifiés utilisant des dispositifs à semi-conducteurs utilisant des transistors à effet de champ utilisant des transistors MOSFET utilisant des dispositifs CMOS
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• G11C 11/412 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments électriques utilisant des dispositifs à semi-conducteurs utilisant des transistors formant des cellules avec réaction positive, c.-à-d. des cellules ne nécessitant pas de rafraîchissement ou de régénération de la charge, p. ex. multivibrateur bistable, déclencheur de Schmitt utilisant uniquement des transistors à effet de champ
• H01L 27/118 - Circuits intégrés à tranche maîtresse
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 27/11 - Structures de mémoires statiques à accès aléatoire

Abrégé

A circuit can include at least one pair of deeply depleted channel (DDC) transistors having sources commonly coupled to a same current path; and a bias circuit configured to provide bias currents to the drains of the DDC transistors; wherein each DDC transistor includes a source and drain doped to a first conductivity type, a substantially undoped channel region, and a highly doped screening region of the first conductivity type formed below the channel region.

Classes IPC  ?

• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

A transistor and method of fabrication thereof includes a screening layer formed at least in part in the semiconductor substrate beneath a channel layer and a gate stack, the gate stack including spacer structures on either side of the gate stack. The transistor includes a shallow lightly doped drain region in the channel layer and a deeply lightly doped drain region at the depth relative to the bottom of the screening layer for reducing junction leakage current. A compensation layer may also be included to prevent loss of back gate control.

Classes IPC  ?

• H01L 21/331 - Transistors
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS

Abrégé

An integrated circuit device can include at least one oscillator stage having a current mirror circuit comprising first and second mirror transistors of a first conductivity type, and configured to mirror current on two mirror paths, at least one reference transistor of a second conductivity type having a source-drain path coupled to a first of the mirror paths, and a switching circuit coupled to a second of the mirror paths and configured to generate a transition in a stage output signal in response to a stage input signal received from another oscillator stage, wherein the channel lengths of the first and second mirror transistors are larger than that of the at least one reference transistor.

Classes IPC  ?

• H03K 3/03 - Circuits astables
• H03K 3/011 - Modifications du générateur pour compenser les variations de valeurs physiques, p. ex. tension, température
• G05F 3/26 - Miroirs de courant
• G05F 3/20 - Régulation de la tension ou du courant là où la tension ou le courant sont continus utilisant des dispositifs non commandés à caractéristiques non linéaires consistant en des dispositifs à semi-conducteurs en utilisant des combinaisons diode-transistor

Abrégé

Digital circuits are disclosed that may include multiple transistors having controllable current paths coupled between first and second logic nodes. One or more of the transistors may have a deeply depleted channel formed below its gate that includes a substantially undoped channel region formed over a relatively highly doped screen layer formed over a doped body region. Resulting reductions in threshold voltage variation may improve digital circuit performance. Logic circuit, static random access memory (SRAM) cell, and passgate embodiments are disclosed.

Classes IPC  ?

• H01L 25/00 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H03K 19/00 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion
• H03K 19/0948 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion utilisant des éléments spécifiés utilisant des dispositifs à semi-conducteurs utilisant des transistors à effet de champ utilisant des transistors MOSFET utilisant des dispositifs CMOS

Abrégé

A system having an integrated circuit (IC) device can include a die formed on a semiconductor substrate and having a plurality of first wells formed therein, the first wells being doped to at least a first conductivity type; a global network configured to supply a first global body bias voltage to the first wells; and a first bias circuit corresponding to each first well and configured to generate a first local body bias for its well having a smaller setting voltage than the first global body bias voltage; wherein at least one of the first wells is coupled to a transistor having a strong body coefficient formed therein, which transistor may be a transistor having a highly doped region formed below a substantially undoped channel, the highly doped region having a dopant concentration greater than that the corresponding well.

Classes IPC  ?

• G05F 3/20 - Régulation de la tension ou du courant là où la tension ou le courant sont continus utilisant des dispositifs non commandés à caractéristiques non linéaires consistant en des dispositifs à semi-conducteurs en utilisant des combinaisons diode-transistor
• G11C 5/14 - Dispositions pour l'alimentation
• H03K 17/06 - Modifications pour assurer un état complètement conducteur
• H03K 3/012 - Modifications du générateur pour améliorer le temps de réponse ou pour diminuer la consommation d'énergie
• G06F 17/50 - Conception assistée par ordinateur
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• G11C 5/02 - Disposition d'éléments d'emmagasinage, p. ex. sous la forme d'une matrice

Abrégé

An integrated circuit can include at least one slew generator circuit comprising at least one body biasable reference transistor, the slew generator circuit configured to generate at least a first signal having a slew rate that varies according to characteristics of the reference transistor; a pulse generator circuit configured to generate a pulse signal having a first pulse with a duration corresponding to the slew rate of the first signal; and a counter configured to generate a count value corresponding to a duration of the first pulse.

Classes IPC  ?

• H03K 3/01 - Circuits pour produire des impulsions électriquesCircuits monostables, bistables ou multistables Détails
• G05F 1/10 - Régulation de la tension ou de l'intensité
• G05F 3/02 - Régulation de la tension ou du courant
• H03K 5/05 - Mise en forme d'impulsions par augmentation de duréeMise en forme d'impulsions par diminution de durée par l'utilisation de signaux d'horloge ou d'autres signaux de référence de temps
• H01L 21/66 - Test ou mesure durant la fabrication ou le traitement
• H03K 5/04 - Mise en forme d'impulsions par augmentation de duréeMise en forme d'impulsions par diminution de durée
• H03K 3/017 - Réglage de la largeur ou du rapport durée période des impulsions

Abrégé

Semiconductor manufacturing processes include forming conventional channel field effect transistors (FETs) and deeply depleted channel (DDC) FETs on the same substrate and selectively forming a plurality of gate stack types where those different gate stack types are assigned to and formed in connection with one or more of a conventional channel NFET, a conventional channel PFET, a DDC-NFET, and a DDC-PFET in accordance a with a predetermined pattern.

Classes IPC  ?

• H01L 21/4763 - Dépôt de couches non isolantes, p. ex. conductrices, résistives sur des couches isolantesPost-traitement de ces couches
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 21/82 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives

Abrégé

An integrated circuit can include a plurality of drive monitoring sections, each including at least one transistor under test (TUT) having a source coupled to a first power supply node, a gate coupled to receive a start indication, and a drain coupled to a monitor node, at least one monitor capacitor coupled to the monitor node, and a timing circuit configured to generate a monitor value corresponding to a rate at which the TUT can transfer current between the monitor node and the first power supply node; and a body bias circuit configured to apply a body bias voltage to at least one body region in which at least one transistor is formed; wherein the body bias voltage is generated in response to at least a plurality of the monitor values.

Classes IPC  ?

• H03K 3/01 - Circuits pour produire des impulsions électriquesCircuits monostables, bistables ou multistables Détails
• H03K 17/14 - Modifications pour compenser les variations de valeurs physiques, p. ex. de la température

Abrégé

T of FETs having dopants in the channel region to be set much more precisely. The DDC design also can have a strong body effect compared to conventional bulk CMOS transistors, which can allow for significant dynamic control of power consumption in DDC transistors. Additional structures, configurations, and methods presented herein can be used alone or in conjunction with the DDC to yield additional and different benefits.

Classes IPC  ?

• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 27/11 - Structures de mémoires statiques à accès aléatoire
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 21/84 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant autre chose qu'un corps semi-conducteur, p.ex. étant un corps isolant
• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface

Abrégé

A system having an integrated circuit (IC) device can include a die formed on a semiconductor substrate and having a plurality of first wells formed therein, the first wells being doped to at least a first conductivity type; a global network configured to supply a first global body bias voltage to the first wells; and a first bias circuit corresponding to each first well and configured to generate a first local body bias for its well having a smaller setting voltage than the first global body bias voltage; wherein at least one of the first wells is coupled to a transistor having a strong body coefficient formed therein, which transistor may be a transistor having a highly doped region formed below a substantially undoped channel, the highly doped region having a dopant concentration greater than that the corresponding well.

Classes IPC  ?

• H03K 17/06 - Modifications pour assurer un état complètement conducteur

Abrégé

A method of fabricating a semiconductor device includes providing a substrate having a semiconducting surface and forming a first epitaxial layer on the semiconducting surface. The first epitaxial layer includes a first semiconducting material doped in-situ with at least one dopant of a first conductivity type. The method also includes adding at least one dopant of a second conductivity type into one portion of the substrate to define at least one counter-doped region with an overall doping of the second conductivity type and at least one other region with an overall doping of the first conductivity type in the other portions of substrate. The method further includes forming a second epitaxial layer on the first epitaxial layer, the second epitaxial layer being a second semiconducting material that is substantially undoped.

Classes IPC  ?

• H01L 21/76 - Réalisation de régions isolantes entre les composants
• H01L 21/00 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
• H01L 21/04 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives les dispositifs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement ou une région de concentration de porteurs de charges
• H01L 21/22 - Diffusion des impuretés, p. ex. des matériaux de dopage, des matériaux pour électrodes, à l'intérieur ou hors du corps semi-conducteur, ou entre les régions semi-conductricesRedistribution des impuretés, p. ex. sans introduction ou sans élimination de matériau dopant supplémentaire
• H01L 21/8258 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une combinaison de technologies couvertes par les groupes , , ou
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 29/167 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée caractérisés en outre par le matériau de dopage
• H01L 29/786 - Transistors à couche mince

Abrégé

An integrated circuit device can include at least one oscillator stage having a current mirror circuit comprising first and second mirror transistors of a first conductivity type, and configured to mirror current on two mirror paths, at least one reference transistor of a second conductivity type having a source-drain path coupled to a first of the mirror paths, and a switching circuit coupled to a second of the mirror paths and configured to generate a transition in a stage output signal in response to a stage input signal received from another oscillator stage, wherein the channel lengths of the first and second mirror transistors are larger than that of the at least one reference transistor.

Classes IPC  ?

• H03K 3/03 - Circuits astables

Abrégé

Semiconductor manufacturing processes include forming conventional channel field effect transistors (FETs) and deeply depleted channel (DDC) FETs on the same substrate and selectively forming a plurality of gate stack types where those different gate stack types are assigned to and formed in connection with one or more of a conventional channel NFET, a conventional channel PFET, a DDC-NFET, and a DDC-PFET in accordance a with a predetermined pattern.

Classes IPC  ?

• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 21/82 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives

Abrégé

An integrated circuit can include at least one slew generator circuit comprising at least one body biasable reference transistor, the slew generator circuit configured to generate at least a first signal having a slew rate that varies according to characteristics of the reference transistor; a pulse generator circuit configured to generate a pulse signal having a first pulse with a duration corresponding to the slew rate of the first signal; and a counter configured to generate a count value corresponding to a duration of the first pulse.

Classes IPC  ?

• H03K 5/12 - Mise en forme d'impulsions par redressement des fronts avant ou arrière
• H03K 3/351 - Générateurs caractérisés par le type de circuit ou par les moyens utilisés pour produire des impulsions par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs semi-conducteurs bipolaires comportant au moins trois jonctions PN, ou au moins quatre électrodes ou au moins deux électrodes connectées à la même région de conductivité les dispositifs étant des transistors unijonction

Abrégé

A semiconductor integrated circuit apparatus and a manufacturing method for the same are provided in such a manner that a leak current caused by a ballast resistor is reduced, and at the same time, the inconsistency in the leak current is reduced. The peak impurity concentration of the ballast resistors is made smaller than the peak impurity concentration in the extension regions, and the depth of the ballast resistors is made greater than the depth of the extension regions.

Classes IPC  ?

• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 27/07 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive les composants ayant une région active en commun
• H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
• H01L 27/11517 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

A method can include applying a device power supply voltage to an integrated circuit including a static random access memory (SRAM) with transistors having at least a first threshold voltage (Vt); applying an array power supply voltage to cells of the SRAM that is near or below Vt; and in a write operation, reading data from at least a first group of the cells that is interleaved with a second group of the cells, and applying the read data to the bit lines of the first group of cells, while write data is applied to the bit lines of the second group of cells.

Classes IPC  ?

• G11C 11/419 - Circuits de lecture-écriture [R-W]
• G11C 11/412 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments électriques utilisant des dispositifs à semi-conducteurs utilisant des transistors formant des cellules avec réaction positive, c.-à-d. des cellules ne nécessitant pas de rafraîchissement ou de régénération de la charge, p. ex. multivibrateur bistable, déclencheur de Schmitt utilisant uniquement des transistors à effet de champ

Abrégé

A method of fabricating semiconductor devices includes providing a semiconducting substrate. The method also includes defining a heavily doped region at a surface of the semiconducting substrate in at least one area of the semiconducting substrate, where the heavily doped region includes a heavily doped layer having a doping concentration greater than a doping concentration of the semiconducting substrate. The method also includes forming an additional layer of semiconductor material on the semiconducting substrate, the additional layer comprising a substantially undoped layer. The method further includes applying a first removal process to the semiconducting substrate to define an unetched portion and an etched portion, where the unetched portion defines a fin structure, and the etched portion extends through the additional layer, and then isolating the fin structure from other structures.

Classes IPC  ?

• H01L 21/00 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
• H01L 21/84 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant autre chose qu'un corps semi-conducteur, p.ex. étant un corps isolant
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 21/336 - Transistors à effet de champ à grille isolée
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS

Abrégé

An integrated circuit device can include at least a first bi-directional biasing circuit having a first substrate portion containing a plurality of first transistors; a first control digital-to-analog converter (DAC) to generate any of a plurality of first target values in response to a first target code; a first detect circuit configured to generate a difference value between the first target values and a first limit value; and at least a first charge pump circuit configured to drive the first substrate portion between a forward body bias voltage and a reverse body bias voltage for the first transistors in response to first target values. Embodiments can also include a performance monitor section configured to determine a difference between the voltage of the first substrate portion and a target voltage. Control logic can generate first code values in response to the difference between the voltage of the first substrate portion and the target voltage. Methods are also disclosed.

Classes IPC  ?

• G05F 1/575 - Régulation de la tension ou de l'intensité là où la variable effectivement régulée par le dispositif de réglage final est du type continu utilisant des dispositifs à semi-conducteurs en série avec la charge comme dispositifs de réglage final caractérisé par le circuit de rétroaction
• G05F 1/46 - Régulation de la tension ou de l'intensité là où la variable effectivement régulée par le dispositif de réglage final est du type continu
• G05F 3/02 - Régulation de la tension ou du courant

Abrégé

A field effect transistor having a source, drain, and a gate can include a semiconductor substrate, a buried insulator layer positioned on the semiconductor substrate, and a semiconductor overlayer positioned on the buried insulator layer; a low dopant channel region positioned below the gate and between the source and the drain and in an upper portion of the semiconductor overlayer; and a plurality of doped regions having a predetermined dopant concentration profile, including a screening region positioned in the semiconductor overlayer below the low dopant channel region, the screening region extending toward the buried insulator layer, and a threshold voltage set region positioned between the screening region and the low dopant channel, the screening region and the threshold voltage set region having each a peak dopant concentration, the threshold voltage region peak dopant concentration being between 1/50 and ½ of the peak dopant concentration of the screening region.

Classes IPC  ?

• H01L 27/01 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant uniquement des éléments à film mince ou à film épais formés sur un substrat isolant commun
• H01L 27/12 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
• H01L 29/76 - Dispositifs unipolaires
• H01L 29/94 - Dispositifs à métal-isolant-semi-conducteur, p.ex. MOS
• H01L 31/0392 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails caractérisés par leurs corps semi-conducteurs caractérisés par leur structure cristalline ou par l'orientation particulière des plans cristallins comprenant des films minces déposés sur des substrats métalliques ou isolants
• H01L 31/062 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails adaptés comme dispositifs de conversion photovoltaïque [PV] caractérisés par au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface les barrières de potentiel étant uniquement du type métal-isolant-semi-conducteur
• H01L 31/113 - Dispositifs sensibles au rayonnement infrarouge, visible ou ultraviolet caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. phototransistor à effet de champ à jonction du type conducteur-isolant-semi-conducteur, p.ex. transistor à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur
• H01L 31/119 - Dispositifs sensibles au rayonnement d'ondes très courtes, p.ex. rayons X, rayons gamma ou rayonnement corpusculaire caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. détecteurs du type MIS
• H01L 29/786 - Transistors à couche mince

Abrégé

Circuits are disclosed that may include a plurality of transistors having controllable current paths coupled between at least a first and second node, the transistors configured to generate an analog electrical output signal in response to an analog input value; wherein at least one of the transistors has a deeply depleted channel formed below its gate that includes a substantially undoped channel region formed over a relatively highly doped screen layer formed over a doped body region.

Classes IPC  ?

• H03F 3/45 - Amplificateurs différentiels

Abrégé

Multiple transistor types are formed in a common epitaxial layer by differential out-diffusion from a doped underlayer. Differential out-diffusion affects the thickness of a FET channel, the doping concentration in the FET channel, and distance between the gate dielectric layer and the doped underlayer. Differential out-diffusion may be achieved by differentially applying a dopant migration suppressor such as carbon; differentially doping the underlayer with two or more dopants having the same conductivity type but different diffusivities; and/or differentially applying thermal energy.

Classes IPC  ?

• H01L 21/336 - Transistors à effet de champ à grille isolée
• H01L 21/22 - Diffusion des impuretés, p. ex. des matériaux de dopage, des matériaux pour électrodes, à l'intérieur ou hors du corps semi-conducteur, ou entre les régions semi-conductricesRedistribution des impuretés, p. ex. sans introduction ou sans élimination de matériau dopant supplémentaire
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

An integrated circuit can include a plurality of first transistors formed in a substrate and having gate lengths of less than one micron; and at least one tipless transistor formed in the substrate and having a source-drain path coupled between a circuit node and a first power supply voltage; wherein at least one tipless transistor has source and drain vertical doping profiles without extension regions that extend in a lateral direction under a gate electrode. In addition or alternatively, an integrated circuit can include minimum feature size transistors having gate lengths of less than one micron; a signal driving circuit comprising a first transistor of a first conductivity type having a source-drain path coupled between a first power supply node and an output node, and a second transistor of a second conductivity type having a source-drain path coupled between a second power supply node and the output node, and a gate coupled to a gate of the first transistor, wherein at least one of the first or second transistor is a tipless transistor having source and drain vertical doping profiles without extension regions that extend in a lateral direction under a gate electrode.

Classes IPC  ?

• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H03L 7/06 - Commande automatique de fréquence ou de phaseSynchronisation utilisant un signal de référence qui est appliqué à une boucle verrouillée en fréquence ou en phase
• H03K 3/356 - Circuits bistables
• H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
• H03K 5/06 - Mise en forme d'impulsions par augmentation de duréeMise en forme d'impulsions par diminution de durée par l'utilisation de lignes à retard ou d'autres éléments à retard analogues

Abrégé

A transistor and method of fabrication thereof includes a screening layer formed at least in part in the semiconductor substrate beneath a channel layer and a gate stack, the gate stack including spacer structures on either side of the gate stack. The transistor includes a shallow lightly doped drain region in the channel layer and a deeply lightly doped drain region at the depth relative to the bottom of the screening layer for reducing junction leakage current. A compensation layer may also be included to prevent loss of back gate control.

Classes IPC  ?

• H01L 21/331 - Transistors
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

Structures and processes are provided that can be used for effectively integrating different transistor designs across a process platform. In particular, a bifurcated process is provided in which dopants and other processes for forming some transistor types may be performed prior to STI or other device isolation processes, and other devices may be formed thereafter. Thus, doping and other steps and their sequence with respect to the STI process can be selected to be STI-first or STI-last, depending on the device type to be manufactured, the range of device types that are manufactured on the same wafer or die, or the range of device types that are planned to be manufactured using the same or similar mask sets.

Classes IPC  ?

• H01L 21/425 - Bombardement par des radiations par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/336 - Transistors à effet de champ à grille isolée
• H01L 21/8234 - Technologie MIS

Abrégé

T for a given device.

Classes IPC  ?

• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

A memory circuit device having at least one test element interconnecting memory sections can include at least one first switch coupled to a first memory section between a first node within a tested section and an intermediate node, a test switch coupled between the intermediate node and a forced voltage node, and a second switch coupled between the intermediate node and a second node; wherein the forced voltage node is selectively coupled to receive a forced voltage substantially the same as a voltage applied to the second node, and the second node is coupled to at least a second memory section.

Classes IPC  ?

• G11C 7/00 - Dispositions pour écrire une information ou pour lire une information dans une mémoire numérique
• G01R 31/27 - Test de dispositifs sans les extraire physiquement du circuit dont ils font partie, p. ex. compensation des effets dus aux éléments environnants
• G11C 7/10 - Dispositions d'interface d'entrée/sortie [E/S, I/O] de données, p. ex. circuits de commande E/S de données, mémoires tampon de données E/S

Abrégé

An analog transistor useful for low noise applications or for electrical circuits benefiting from tight control of threshold voltages and electrical characteristics is described. The analog transistor includes a substantially undoped channel positioned under a gate dielectric between a source and a drain with the undoped channel not being subjected to contaminating threshold voltage implants or halo implants. The channel is supported on a screen layer doped to have an average dopant density at least five times as great as the average dopant density of the substantially undoped channel which, in turn, is supported by a doped well having an average dopant density at least twice the average dopant density of the substantially undoped channel.

Classes IPC  ?

• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus

Abrégé

An integrated circuit can include an operational section comprising a first body bias circuit coupled to drive first body regions to a first bias voltage in response to at least first bias values; a second body bias circuit coupled to drive second body regions to a second bias voltage in response to at least second bias values; a plurality of monitoring sections formed in a same substrate as the operational section, each configured to output a monitor value reflecting a different process variation effect on circuit performance.

Classes IPC  ?

• H03K 3/01 - Circuits pour produire des impulsions électriquesCircuits monostables, bistables ou multistables Détails

Abrégé

A circuit can include a plurality of storage circuits, each having a pair of first conductivity type transistor having sources commonly connected to a first node, and gates and drains cross-coupled between first and second storage node; and a pair of second conductivity type transistor having sources commonly connected to a second node, and gates and drains cross-coupled between the first and second storage node; wherein each of the second conductivity type transistors comprises a screening region of the first conductivity type formed below the channel region and has a predetermined minimum dopant concentration. Alternatively, a circuit can include a pair of first conductivity type transistor having sources commonly connected to a first supply node configured to receive a first supply voltage, and gates and drains cross-coupled between first and second storage node; and a bias circuit configured to apply at least a first body bias voltage to bodies of the first conductivity type transistors that is different than the first supply voltage. Methods for designing such storage circuits are also disclosed.

Classes IPC  ?

• G06F 17/50 - Conception assistée par ordinateur

Abrégé

An integrated circuit can include SRAM cells, with pull-up transistors, pull-down transistors, and pass-gate transistors having a screening region positioned a distance below the gate and separated from the gate by a semiconductor layer. The screening region has a concentration of screening region dopants, the concentration of screening region dopants being higher than a concentration of dopants in the semiconductor layer. The screening region can provide an enhanced body coefficient for the pull-up transistors to increase a read static noise margin of the SRAM cell when a bias voltage is applied to the screening region. Related methods are also disclosed.

Classes IPC  ?

• G11C 11/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants

Abrégé

Porting a first integrated circuit design targeted for implementation in a first semiconductor manufacturing process, and implementing a second circuit design in a second semiconductor manufacturing process wherein the electrical performance of the second integrated circuit meets or exceeds the requirements of the first integrated circuit design even if the threshold voltage targets of the second integrated circuit design are different from those of the first integrated circuit design; and wherein physical layouts, and in particular the gate-widths and gate-lengths of the transistors, of the first and second integrated circuit designs are the same or substantially the same. The second integrated circuit design, when fabricated in the second semiconductor manufacturing process and then operated, experiences less off-state transistor leakage current than does the first integrated circuit design, when fabricated in the first semiconductor manufacturing process, and then operated. Porting includes determining processing targets for the second semiconductor manufacturing process.

Classes IPC  ?

• G06F 17/50 - Conception assistée par ordinateur

Abrégé

Silicon loss prevention in a substrate during transistor device element manufacture is achieved by limiting a number of photoresist mask and chemical oxide layer stripping opportunities during the fabrication process. This can be achieved through the use of a protective layer that remains on the substrate during formation and stripping of photoresist masks used in identifying the implant areas into the substrate. In addition, undesirable reworking steps due to photoresist mask misalignment are eliminated or otherwise have no effect on consuming silicon from the substrate during fabrication of device elements. In this manner, device elements with the same operating characteristics and performance can be consistently made from lot to lot.

Classes IPC  ?

• H01L 21/425 - Bombardement par des radiations par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/336 - Transistors à effet de champ à grille isolée
• H01L 21/266 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions en utilisant des masques
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes

Abrégé

3. At least one punch through suppression region is disposed under the gate between the screening region and the well. The punch through suppression region has a third concentration of a dopant intermediate between the first concentration and the second concentration of dopant. A bias voltage may be applied to the well region to adjust a threshold voltage of the transistor.

Classes IPC  ?

• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

Structures and methods of fabrication thereof related to an improved semiconductor on insulator (SOI) transistor formed on an SOI substrate. The improved SOI transistor includes a substantially undoped channel extending between the source and the drain, an optional threshold voltage set region positioned below the substantially undoped channel, and a screening region positioned below the threshold voltage set region. The threshold voltage of the improved SOI transistor can be adjusted without halo implants or threshold voltage implants into the channel, using the position and/or dopant concentration of the screening region and/or the threshold voltage set region.

Classes IPC  ?

• H01L 27/01 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant uniquement des éléments à film mince ou à film épais formés sur un substrat isolant commun
• H01L 27/12 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
• H01L 31/0392 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails caractérisés par leurs corps semi-conducteurs caractérisés par leur structure cristalline ou par l'orientation particulière des plans cristallins comprenant des films minces déposés sur des substrats métalliques ou isolants
• H01L 29/76 - Dispositifs unipolaires
• H01L 29/94 - Dispositifs à métal-isolant-semi-conducteur, p.ex. MOS
• H01L 31/062 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails adaptés comme dispositifs de conversion photovoltaïque [PV] caractérisés par au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface les barrières de potentiel étant uniquement du type métal-isolant-semi-conducteur
• H01L 31/113 - Dispositifs sensibles au rayonnement infrarouge, visible ou ultraviolet caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. phototransistor à effet de champ à jonction du type conducteur-isolant-semi-conducteur, p.ex. transistor à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur
• H01L 31/119 - Dispositifs sensibles au rayonnement d'ondes très courtes, p.ex. rayons X, rayons gamma ou rayonnement corpusculaire caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. détecteurs du type MIS

Abrégé

An analog transistor useful for low noise applications or for electrical circuits benefiting from tight control of threshold voltages and electrical characteristics is described. The analog transistor includes a substantially undoped channel positioned under a gate dielectric between a source and a drain with the undoped channel not being subjected to contaminating threshold voltage implants or halo implants. The channel is supported on a screen layer doped to have an average dopant density at least five times as great as the average dopant density of the substantially undoped channel which, in turn, is supported by a doped well having an average dopant density at least twice the average dopant density of the substantially undoped channel.

Classes IPC  ?

• H01L 21/336 - Transistors à effet de champ à grille isolée
• H01L 21/8234 - Technologie MIS

Abrégé

A semiconductor device includes a substrate having a semiconducting surface having formed therein a first active region and a second active region, where the first active region consists of a substantially undoped layer at the surface and a highly doped screening layer of a first conductivity type beneath the first substantially undoped layer, and the second active region consists of a second substantially undoped layer at the surface and a second highly doped screening layer of a second conductivity type beneath the second substantially undoped layer. The semiconductor device also includes a gate stack formed in each of the first active region and the second active region consists of at least one gate dielectric layer and a layer of a metal, where the metal has a workfunction that is substantially midgap with respect to the semiconducting surface.

Classes IPC  ?

• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires

Abrégé

An integrated circuit having at least one array of circuit cells, each circuit cell having a plurality of transistors each performing a specified function, the transistors having predefined performance parameter margins for the specified function, the circuit cells designed by providing at least one operating condition for the circuit cell; providing a value of sigma over a predefined range; determining for each transistor, at least one variable transistor characteristic, which is defined by a semiconductor process that results in transistors having such transistor characteristics; providing an array of instances based upon the value of the sigma and using a design of experiments factorial calculation; providing a metric of interest by which to deter-nine pass/fail instances; extracting individual pass/fail instances for the metric of interest; and determining a yield for the array of circuit cells for the targeted operating condition.

Classes IPC  ?

• G06F 17/50 - Conception assistée par ordinateur

Abrégé

A semiconductor structure is formed with a NFET device and a PFET device. The NFET device is formed by masking the PFET device regions of a substrate, forming a screen layer through epitaxial growth and in-situ doping, and forming an undoped channel layer on the screen layer through epitaxial growth. The PFET device is similarly formed by masking the NFET regions of a substrate, forming a screen layer through epitaxial growth and in-situ doping, and forming an undoped channel layer on the screen layer through epitaxial growth. An isolation region is formed between the NFET and the PFET device areas to remove any facets occurring during the separate epitaxial growth phases. By forming the screen layer through in-situ doped epitaxial growth, a reduction in junction leakage is achieved versus forming the screen layer using ion implantation.

Classes IPC  ?

• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
• H01L 21/365 - Dépôt de matériaux semi-conducteurs sur un substrat, p. ex. croissance épitaxiale en utilisant la réduction ou la décomposition d'un composé gazeux donnant un condensat solide, c.-à-d. un dépôt chimique
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 21/74 - Réalisation de régions profondes à haute concentration en impuretés, p. ex. couches collectrices profondes, connexions internes
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 21/762 - Régions diélectriques

Abrégé

A semiconductor transistor structure fabricated on a silicon substrate effective to set a threshold voltage, control short channel effects, and control against excessive junction leakage may include a transistor gate having a source and drain structure. A highly doped screening region lies is embedded a vertical distance down from the surface of the substrate. The highly doped screening region is separated from the surface of the substrate by way of a substantially undoped channel layer which may be epitaxially formed. The source/drain structure may include a source/drain extension region which may be raised above the surface of the substrate. The screening region is preferably positioned to be located at or just below the interface between the source/drain region and source/drain extension portion. The transistor gate may be formed below a surface level of the silicon substrate and either above or below the heavily doped portion of the source/drain structure.

Classes IPC  ?

• H01L 29/94 - Dispositifs à métal-isolant-semi-conducteur, p.ex. MOS
• H01L 29/76 - Dispositifs unipolaires
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus

Abrégé

Multiple transistor types are formed in a common epitaxial layer by differential out-diffusion from a doped underlayer. Differential out-diffusion affects the thickness of a FET channel, the doping concentration in the FET channel, and distance between the gate dielectric layer and the doped underlayer. Differential out-diffusion may be achieved by differentially applying a dopant migration suppressor such as carbon; differentially doping the underlayer with two or more dopants having the same conductivity type but different diffusivities; and/or differentially applying thermal energy.

Classes IPC  ?

• H01L 21/70 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun, ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ciFabrication de dispositifs à circuit intégré ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci

Abrégé

A method for fabricating field effect transistors using carbon doped silicon layers to substantially reduce the diffusion of a doped screen layer formed below a substantially undoped channel layer includes forming an in-situ epitaxial carbon doped silicon substrate that is doped to form the screen layer in the carbon doped silicon substrate and forming the substantially undoped silicon layer above the carbon doped silicon substrate. The method may include implanting carbon below the screen layer and forming a thin layer of in-situ epitaxial carbon doped silicon above the screen layer. The screen layer may be formed either in a silicon substrate layer or the carbon doped silicon substrate.

Classes IPC  ?

• H01L 21/425 - Bombardement par des radiations par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/336 - Transistors à effet de champ à grille isolée
• H01L 21/36 - Dépôt de matériaux semi-conducteurs sur un substrat, p. ex. croissance épitaxiale
• H01L 21/20 - Dépôt de matériaux semi-conducteurs sur un substrat, p. ex. croissance épitaxiale
• H01L 21/04 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives les dispositifs ayant des barrières de potentiel, p. ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement ou une région de concentration de porteurs de charges
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 21/82 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

A semiconductor structure includes a first PMOS transistor element having a gate region with a first gate metal associated with a PMOS work function and a first NMOS transistor element having a gate region with a second metal associated with a NMOS work function. The first PMOS transistor element and the first NMOS transistor element form a first CMOS device. The semiconductor structure also includes a second PMOS transistor that is formed in part by concurrent deposition with the first NMOS transistor element of the second metal associated with a NMOS work function to form a second CMOS device with different operating characteristics than the first CMOS device.

Classes IPC  ?

• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS

Abrégé

Porting a first integrated circuit design targeted for implementation in a first semiconductor manufacturing process, and implementing a second circuit design in a second semiconductor manufacturing process wherein the electrical performance of the second integrated circuit meets or exceeds the requirements of the first integrated circuit design even if the threshold voltage targets of the second integrated circuit design are different from those of the first integrated circuit design; and wherein physical layouts, and in particular the gate-widths and gate-lengths of the transistors, of the first and second integrated circuit designs are the same or substantially the same. The second integrated circuit design, when fabricated in the second semiconductor manufacturing process and then operated, experiences less off-state transistor leakage current than does the first integrated circuit design, when fabricated in the first semiconductor manufacturing process, and then operated. Porting includes determining processing targets for the second semiconductor manufacturing process.

Classes IPC  ?

• G06F 17/50 - Conception assistée par ordinateur

Abrégé

A semiconductor structure is formed with a NFET device and a PFET device. The NFET device is formed by masking the PFET device regions of a substrate, forming a screen layer through epitaxial growth and in-situ doping, and forming an undoped channel layer on the screen layer through epitaxial growth. The PFET device is similarly formed by masking the NFET regions of a substrate, forming a screen layer through epitaxial growth and in-situ doping, and forming an undoped channel layer on the screen layer through epitaxial growth. An isolation region is formed between the NFET and the PFET device areas to remove any facets occurring during the separate epitaxial growth phases. By forming the screen layer through in-situ doped epitaxial growth, a reduction in junction leakage is achieved versus forming the screen layer using ion, implantation.

Classes IPC  ?

• H01L 29/15 - Structures avec une variation de potentiel périodique ou quasi périodique, p.ex. puits quantiques multiples, superréseaux
• H01L 29/167 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée caractérisés en outre par le matériau de dopage
• H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés

Abrégé

3′, or alternatively, less than one-quarter the dopant concentration of the source and the drain.

Classes IPC  ?

• H01L 29/02 - Corps semi-conducteurs
• H01L 21/336 - Transistors à effet de champ à grille isolée
• H01L 21/70 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun, ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ciFabrication de dispositifs à circuit intégré ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci

Abrégé

Multiple transistor types are formed in a common epitaxial layer by differential out-diffusion from a doped underlayer. Differential out-diffusion affects the thickness of a FET channel, the doping concentration in the FET channel, and distance between the gate dielectric layer and the doped underlayer. Differential out-diffusion may be achieved by differentially applying a dopant migration suppressor such as carbon; differentially doping the underlayer with two or more dopants having the same conductivity type but different diffusivities; and/or differentially applying thermal energy.

Classes IPC  ?

• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS

Abrégé

A semiconductor structure includes first, second, and third transistor elements each having a first screening region concurrently formed therein. A second screening region is formed in the second and third transistor elements such that there is at least one characteristic of the screening region in the second transistor element that is different than the second screening region in the third transistor element. Different characteristics include doping concentration and depth of implant. In addition, a different characteristic may be achieved by concurrently implanting the second screening region in the second and third transistor element followed by implanting an additional dopant into the second screening region of the third transistor element.

Classes IPC  ?

• H01L 29/76 - Dispositifs unipolaires
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 21/8234 - Technologie MIS

Abrégé

Methods for fabricating semiconductor devices and devices therefrom are provided. A method includes providing a substrate having a semiconducting surface with first and second layers, where the semiconducting surface has a plurality of active regions comprising first and second active regions. In the first active region, the first layer is an undoped layer and the second layer is a highly doped screening layer. The method also includes removing a part of the first layer to reduce a thickness of the substantially undoped layer for at least a portion of the first active region without a corresponding thickness reduction of the first layer in the second active region. The method additionally includes forming semiconductor devices in the plurality of active regions. In the method, the part of the first layer removed is selected based on a threshold voltage adjustment required for the substrate in the portion of the first active region.

Classes IPC  ?

• H01L 21/8234 - Technologie MIS

Abrégé

T of FETs having dopants in the channel region to be set much more precisely. The DDC design also can have a strong body effect compared to conventional bulk CMOS transistors, which can allow for significant dynamic control of power consumption in DDC transistors. The semiconductor structure includes an analog device and a digital device each having an epitaxial channel layer where a single gate oxidation layer is on the epitaxial channel layer of NMOS and PMOS transistor elements of the digital device and one of a double and triple gate oxidation layer is on the epitaxial channel layer of NMOS and PMOS transistor elements of the analog device.

Classes IPC  ?

• H01L 21/70 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun, ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ciFabrication de dispositifs à circuit intégré ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS

Abrégé

An integrated circuit device can include a plurality of test elements, each comprising at least one first switch coupled between a node within a tested section and an intermediate node, a test switch coupled between the intermediate node and a forced voltage node, and a second switch coupled between the intermediate node and an output node; wherein the forced voltage node is coupled to receive a forced voltage substantially the same as a test voltage applied to the output node in a test mode.

Classes IPC  ?

• G11C 7/00 - Dispositions pour écrire une information ou pour lire une information dans une mémoire numérique

Abrégé

3′, or alternatively, less than one-quarter the dopant concentration of the source and the drain.

Classes IPC  ?

• H01L 21/336 - Transistors à effet de champ à grille isolée
• H01L 21/70 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun, ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ciFabrication de dispositifs à circuit intégré ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci
• H01L 29/02 - Corps semi-conducteurs

Abrégé

Circuits are disclosed that may include a plurality of transistors having controllable current paths coupled between at least a first and second node, the transistors configured to generate an analog electrical output signal in response to an analog input value; wherein at least one of the transistors has a deeply depleted channel formed below its gate that includes a substantially undoped channel region formed over a relatively highly doped screen layer formed over a doped body region.

Classes IPC  ?

• H03F 3/45 - Amplificateurs différentiels

Abrégé

Digital circuits are disclosed that may include multiple transistors having controllable current paths coupled between first and second logic nodes. One or more of the transistors may have a deeply depleted channel formed below its gate that includes a substantially undoped channel region formed over a relatively highly doped screen layer formed over a doped body region. Resulting reductions in threshold voltage variation may improve digital circuit performance. Logic circuit, static random access memory (SRAM) cell, and passgate embodiments are disclosed.

Classes IPC  ?

• H01L 25/00 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H03K 19/00 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion

Abrégé

A fuse includes a first conductor, an insulating film on the first conductor, a second conductor on the insulating film, a first plug coupled to the first conductor, a second plug and a third plug each coupled to the second conductor, and a cover film formed on the second conductor and having tensile strength.

Classes IPC  ?

• H01L 29/00 - DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS NON COUVERTS PAR LA CLASSE - Détails des corps semi-conducteurs ou de leurs électrodes
• H01L 23/52 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre
• H01L 49/02 - Dispositifs à film mince ou à film épais
• H01L 23/525 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées avec des interconnexions modifiables
• H01L 21/66 - Test ou mesure durant la fabrication ou le traitement

Abrégé

T of FETs having dopants in the channel region to be set much more precisely. The DDC design also can have a strong body effect compared to conventional bulk CMOS transistors, which can allow for significant dynamic control of power consumption in DDC transistors. Additional structures, configurations, and methods presented herein can be used alone or in conjunction with the DDC to yield additional and different benefits.

Classes IPC  ?

• H01L 29/76 - Dispositifs unipolaires
• H01L 29/94 - Dispositifs à métal-isolant-semi-conducteur, p.ex. MOS
• H01L 31/062 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails adaptés comme dispositifs de conversion photovoltaïque [PV] caractérisés par au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface les barrières de potentiel étant uniquement du type métal-isolant-semi-conducteur
• H01L 31/113 - Dispositifs sensibles au rayonnement infrarouge, visible ou ultraviolet caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. phototransistor à effet de champ à jonction du type conducteur-isolant-semi-conducteur, p.ex. transistor à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur
• H01L 31/119 - Dispositifs sensibles au rayonnement d'ondes très courtes, p.ex. rayons X, rayons gamma ou rayonnement corpusculaire caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. détecteurs du type MIS

Abrégé

T of FETs having dopants in the channel region to be set much more precisely. The DDC design also can have a strong body effect compared to conventional bulk CMOS transistors, which can allow for significant dynamic control of power consumption in DDC transistors. Additional structures, configurations, and methods presented herein can be used alone or in conjunction with the DDC to yield additional and different benefits.

Classes IPC  ?

• H01L 27/108 - Structures de mémoires dynamiques à accès aléatoire
• H01L 29/76 - Dispositifs unipolaires
• H01L 29/94 - Dispositifs à métal-isolant-semi-conducteur, p.ex. MOS
• H01L 31/119 - Dispositifs sensibles au rayonnement d'ondes très courtes, p.ex. rayons X, rayons gamma ou rayonnement corpusculaire caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. détecteurs du type MIS

Abrégé

T of FETs having dopants in the channel region to be set much more precisely. The DDC design also can have a strong body effect compared to conventional bulk CMOS transistors, which can allow for significant dynamic control of power consumption in DDC transistors. Additional structures, configurations, and methods presented herein can be used alone or in conjunction with the DDC to yield additional and different benefits.

Classes IPC  ?

• H01L 29/76 - Dispositifs unipolaires
• H01L 29/94 - Dispositifs à métal-isolant-semi-conducteur, p.ex. MOS
• H01L 31/062 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails adaptés comme dispositifs de conversion photovoltaïque [PV] caractérisés par au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface les barrières de potentiel étant uniquement du type métal-isolant-semi-conducteur
• H01L 31/113 - Dispositifs sensibles au rayonnement infrarouge, visible ou ultraviolet caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. phototransistor à effet de champ à jonction du type conducteur-isolant-semi-conducteur, p.ex. transistor à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur
• H01L 31/119 - Dispositifs sensibles au rayonnement d'ondes très courtes, p.ex. rayons X, rayons gamma ou rayonnement corpusculaire caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. détecteurs du type MIS