Quantum Elements Development, Inc.

États‑Unis d’Amérique

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Juridiction
        États-Unis 17
        International 1
Date
2025 1
2023 5
2022 4
2021 7
Avant 2021 1
Classe IPC
B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures 15
B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p. ex. nanocomposites 13
C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire 13
C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique 12
C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement 12
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Statut
En Instance 2
Enregistré / En vigueur 16
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1.

Quantum Printing Nanostructures Within Carbon Nanopores

      
Numéro d'application 18917166
Statut En instance
Date de dépôt 2024-10-16
Date de la première publication 2025-01-30
Propriétaire Quantum Elements Development Inc. (USA)
Inventeur(s)
  • Nagel, Christopher J.
  • Brodeur, Chris Leo

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating and quantum printing materials, such as elemental metals, in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p. ex. nanocomposites
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures
  • C01B 32/15 - Matières carbonées nanométriques
  • C01B 32/194 - Post-traitement
  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
  • C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
  • C23C 16/452 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs par activation de courants de gaz réactifs avant l'introduction dans la chambre de réaction, p. ex. par ionisation ou par addition d'espèces réactives
  • C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire
  • C23C 16/505 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques utilisant des décharges à radiofréquence
  • C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt

2.

Quantum printing nanostructures within carbon nanopores

      
Numéro d'application 18127210
Numéro de brevet 11939671
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-03-28
Date de la première publication 2023-11-16
Date d'octroi 2024-03-26
Propriétaire Quantum Elements Development Inc. (USA)
Inventeur(s)
  • Nagel, Christopher J.
  • Brodeur, Chris Leo

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating and quantum printing materials, such as elemental metals, in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
  • C01B 32/15 - Matières carbonées nanométriques
  • C01B 32/194 - Post-traitement
  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
  • C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
  • C23C 16/452 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs par activation de courants de gaz réactifs avant l'introduction dans la chambre de réaction, p. ex. par ionisation ou par addition d'espèces réactives
  • C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire
  • C23C 16/505 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques utilisant des décharges à radiofréquence
  • C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p. ex. nanocomposites
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures

3.

RARE EARTH METAL INSTANTIATION

      
Numéro d'application 18113685
Statut En instance
Date de dépôt 2023-02-24
Date de la première publication 2023-09-07
Propriétaire Quantum Elements Development Inc. (USA)
Inventeur(s) Nagel, Christopher J.

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating rare earth metals in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C01F 17/20 - Composés ne contenant que des métaux des terres rares comme l'élément métallique
  • C01F 17/10 - Préparation ou traitement, p. ex. séparation ou purification
  • C01B 32/21 - Post-traitement
  • C01B 32/30 - Charbon actif

4.

Quantum printing methods

      
Numéro d'application 17988978
Numéro de brevet 11981994
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-11-17
Date de la première publication 2023-09-07
Date d'octroi 2024-05-14
Propriétaire Quantum Elements Development Inc. (USA)
Inventeur(s) Nagel, Christopher J.

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating and quantum printing materials, such as elemental metals, in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
  • C01B 32/15 - Matières carbonées nanométriques
  • C01B 32/194 - Post-traitement
  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
  • C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
  • C23C 16/452 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs par activation de courants de gaz réactifs avant l'introduction dans la chambre de réaction, p. ex. par ionisation ou par addition d'espèces réactives
  • C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire
  • C23C 16/505 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques utilisant des décharges à radiofréquence
  • C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p. ex. nanocomposites
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures

5.

Metal macrostructures

      
Numéro d'application 17948647
Numéro de brevet 12064809
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-09-20
Date de la première publication 2023-04-13
Date d'octroi 2024-08-20
Propriétaire Quantum Elements Development Inc. (USA)
Inventeur(s) Nagel, Christopher J

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating precious metals in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • B22F 1/05 - Poudres métalliques caractérisées par la dimension ou la surface spécifique des particules
  • B22F 1/065 - Particules sphériques
  • B22F 1/07 - Poudres métalliques caractérisées par des particules ayant une structure nanométrique
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures

6.

Quantum printing apparatus and method of using same

      
Numéro d'application 17944481
Numéro de brevet 11746412
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-09-14
Date de la première publication 2023-03-09
Date d'octroi 2023-09-05
Propriétaire Quantum Elements Development Inc. (USA)
Inventeur(s)
  • Nagel, Christopher J.
  • Brodeur, Chris Leo

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating and quantum printing materials, such as elemental metals, in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
  • C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire
  • C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
  • C01B 32/15 - Matières carbonées nanométriques
  • C01B 32/194 - Post-traitement
  • C23C 16/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
  • C23C 16/452 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs par activation de courants de gaz réactifs avant l'introduction dans la chambre de réaction, p. ex. par ionisation ou par addition d'espèces réactives
  • C23C 16/505 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques utilisant des décharges à radiofréquence
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p. ex. nanocomposites
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures

7.

Quantum printing nanostructures within carbon nanopores

      
Numéro d'application 17723913
Numéro de brevet 11680317
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-04-19
Date de la première publication 2022-10-13
Date d'octroi 2023-06-20
Propriétaire Quantum Elements Development Inc. (USA)
Inventeur(s) Nagel, Christopher J.

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating and quantum printing materials, such as elemental metals, in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C23C 16/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
  • C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
  • C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire
  • C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
  • C01B 32/15 - Matières carbonées nanométriques
  • C01B 32/194 - Post-traitement
  • C23C 16/452 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs par activation de courants de gaz réactifs avant l'introduction dans la chambre de réaction, p. ex. par ionisation ou par addition d'espèces réactives
  • C23C 16/505 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques utilisant des décharges à radiofréquence
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p. ex. nanocomposites
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures

8.

Quantum printing nanostructures within carbon nanopores

      
Numéro d'application 17723915
Numéro de brevet 11643723
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-04-19
Date de la première publication 2022-10-13
Date d'octroi 2023-05-09
Propriétaire Quantum Elements Development Inc. (USA)
Inventeur(s)
  • Nagel, Christopher J.
  • Brodeur, Chris Leo

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating and quantum printing materials, such as elemental metals, in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C23C 16/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
  • C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
  • C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire
  • C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
  • C01B 32/15 - Matières carbonées nanométriques
  • C01B 32/194 - Post-traitement
  • C23C 16/452 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs par activation de courants de gaz réactifs avant l'introduction dans la chambre de réaction, p. ex. par ionisation ou par addition d'espèces réactives
  • C23C 16/505 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques utilisant des décharges à radiofréquence
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p. ex. nanocomposites
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures

9.

Rare earth metal instantiation

      
Numéro d'application 17344127
Numéro de brevet 11623871
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-06-10
Date de la première publication 2022-06-23
Date d'octroi 2023-04-11
Propriétaire Quantum Elements Development Inc. (USA)
Inventeur(s) Nagel, Christopher J.

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating rare earth metals in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C01F 17/20 - Composés ne contenant que des métaux des terres rares comme l'élément métallique
  • C01F 17/10 - Préparation ou traitement, p. ex. séparation ou purification
  • C01B 32/21 - Post-traitement
  • C01B 32/30 - Charbon actif
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p. ex. nanocomposites

10.

Metal macrostructures

      
Numéro d'application 17344122
Numéro de brevet 11484941
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-06-10
Date de la première publication 2022-06-16
Date d'octroi 2022-11-01
Propriétaire Quantum Elements Development Inc. (USA)
Inventeur(s) Nagel, Christopher J.

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating precious metals in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • B22F 1/05 - Poudres métalliques caractérisées par la dimension ou la surface spécifique des particules
  • B22F 1/07 - Poudres métalliques caractérisées par des particules ayant une structure nanométrique
  • B22F 1/065 - Particules sphériques
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures

11.

Quantum printing nanostructures within carbon nanopores

      
Numéro d'application 17408821
Numéro de brevet 11345995
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-08-23
Date de la première publication 2021-12-09
Date d'octroi 2022-05-31
Propriétaire Quantum Elements Development Inc. (USA)
Inventeur(s)
  • Nagel, Christopher J.
  • Brodeur, Chris Leo

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating and quantum printing materials, such as elemental metals, in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C01B 32/194 - Post-traitement
  • C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
  • C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
  • C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire
  • C01B 32/15 - Matières carbonées nanométriques
  • C23C 16/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
  • C23C 16/452 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs par activation de courants de gaz réactifs avant l'introduction dans la chambre de réaction, p. ex. par ionisation ou par addition d'espèces réactives
  • C23C 16/505 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques utilisant des décharges à radiofréquence
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p. ex. nanocomposites
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures

12.

Quantum printing methods

      
Numéro d'application 16952925
Numéro de brevet 11535933
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-11-19
Date de la première publication 2021-09-30
Date d'octroi 2022-12-27
Propriétaire Quantum Elements Development Inc. (USA)
Inventeur(s) Nagel, Christopher J.

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating and quantum printing materials, such as elemental metals, in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
  • C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire
  • C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
  • C01B 32/15 - Matières carbonées nanométriques
  • C01B 32/194 - Post-traitement
  • C23C 16/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
  • C23C 16/452 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs par activation de courants de gaz réactifs avant l'introduction dans la chambre de réaction, p. ex. par ionisation ou par addition d'espèces réactives
  • C23C 16/505 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques utilisant des décharges à radiofréquence
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p. ex. nanocomposites
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures

13.

Quantum printing nanostructures within carbon nanopores

      
Numéro d'application 17122355
Numéro de brevet 11332825
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-12-15
Date de la première publication 2021-09-30
Date d'octroi 2022-05-17
Propriétaire Quantum Elements Development Inc. (USA)
Inventeur(s) Nagel, Christopher J.

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating and quantum printing materials, such as elemental metals, in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C01B 32/194 - Post-traitement
  • C23C 16/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
  • C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
  • C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire
  • C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
  • C01B 32/15 - Matières carbonées nanométriques
  • C23C 16/452 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs par activation de courants de gaz réactifs avant l'introduction dans la chambre de réaction, p. ex. par ionisation ou par addition d'espèces réactives
  • C23C 16/505 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques utilisant des décharges à radiofréquence
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p. ex. nanocomposites
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures

14.

Quantum printing apparatus and method of using same

      
Numéro d'application 16952923
Numéro de brevet 11447860
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-11-19
Date de la première publication 2021-09-23
Date d'octroi 2022-09-20
Propriétaire Quantum Elements Development Inc. (USA)
Inventeur(s)
  • Nagel, Christopher J.
  • Brodeur, Chris Leo

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating and quantum printing materials, such as elemental metals, in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
  • C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire
  • C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
  • C01B 32/15 - Matières carbonées nanométriques
  • C01B 32/194 - Post-traitement
  • C23C 16/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
  • C23C 16/452 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs par activation de courants de gaz réactifs avant l'introduction dans la chambre de réaction, p. ex. par ionisation ou par addition d'espèces réactives
  • C23C 16/505 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques utilisant des décharges à radiofréquence
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p. ex. nanocomposites
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures

15.

QUANTUM PRINTING NANOSTRUCTURES WITHIN CARBON NANOPORES

      
Numéro d'application US2020065068
Numéro de publication 2021/126824
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-12-15
Date de publication 2021-06-24
Propriétaire QUANTUM ELEMENTS DEVELOPMENT, INC. (USA)
Inventeur(s) Nagel, Christopher, J.

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating and quantum printing materials, such as elemental metals, in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p. ex. nanocomposites
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures
  • C01B 32/00 - CarboneSes composés
  • C23C 16/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
  • C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire

16.

Metal nanowires

      
Numéro d'application 16808030
Numéro de brevet 10988381
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-03-03
Date de la première publication 2021-04-27
Date d'octroi 2021-04-27
Propriétaire Quantum Elements Development, Inc. (USA)
Inventeur(s) Nagel, Christopher J.

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating and quantum printing materials, such as elemental metals, in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C01B 32/15 - Matières carbonées nanométriques
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures
  • B82Y 30/00 - Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p. ex. nanocomposites

17.

Quantum printing apparatus

      
Numéro d'application 16786321
Numéro de brevet 10889892
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-02-10
Date de la première publication 2021-01-12
Date d'octroi 2021-01-12
Propriétaire QUANTUM ELEMENTS DEVELOPMENT INC. (USA)
Inventeur(s) Nagel, Christopher J.

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating and quantum printing materials, such as elemental metals, in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
  • C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
  • C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire

18.

Quantum printing methods

      
Numéro d'application 16786325
Numéro de brevet 10844483
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-02-10
Date de la première publication 2020-11-24
Date d'octroi 2020-11-24
Propriétaire Quantum Elements Development, Inc. (USA)
Inventeur(s) Nagel, Christopher J.

Abrégé

The invention includes apparatus and methods for instantiating and quantum printing materials, such as elemental metals, in a nanoporous carbon powder.

Classes IPC  ?

  • C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
  • C23C 16/48 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement par irradiation, p. ex. par photolyse, radiolyse ou rayonnement corpusculaire
  • C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique