Chi MEI Corporation

Taïwan, Province de Chine

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Type PI
        Brevet 59
        Marque 24
Juridiction
        États-Unis 75
        Canada 5
        Europe 2
        International 1
Propriétaire / Filiale
[Owner] Chi MEI Corporation 82
Chi LIN Technology Co., Ltd 1
Date
2025 février 1
2025 (AACJ) 1
2024 1
2022 2
2021 1
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Classe IPC
G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables 14
G03F 7/075 - Composés contenant du silicium 13
G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs 11
G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet 11
G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants 9
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Classe NICE
01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture 17
17 - Produits en caoutchouc ou en matières plastiques; matières à calfeutrer et à isoler 7
09 - Appareils et instruments scientifiques et électriques 1
16 - Papier, carton et produits en ces matières 1
29 - Viande, produits laitiers et aliments préparés ou conservés 1
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Statut
En Instance 3
Enregistré / En vigueur 80

1.

THERMOPLASTIC RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PREPARING THERMOPLASTIC RESIN COMPOSITION AND USE OF PLASTIC FILM

      
Numéro d'application 18789901
Statut En instance
Date de dépôt 2024-07-31
Date de la première publication 2025-02-06
Propriétaire CHIMEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Hsieh, Shang-Ju

Abrégé

A thermoplastic resin composition, a method for preparing a thermoplastic resin composition, and a use of a plastic film are provided. The thermoplastic resin composition comprises polybutylene adipate terephthalate, polylactic acid, and an additive. The additive is one selected from the group consisting of phenolic antioxidant and a combination of phenolic antioxidant and styrene maleic anhydride copolymer. The styrene maleic anhydride copolymer has a weight-average molecular weight less than 10000. An amount of the phenolic antioxidant is greater than or equal to 1 ppm and less than 3000 ppm.

Classes IPC  ?

  • C08L 67/02 - Polyesters dérivés des acides dicarboxyliques et des composés dihydroxylés
  • C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles
  • C08K 5/134 - Phénols contenant des groupes ester
  • C08L 67/04 - Polyesters dérivés des acides hydroxycarboxyliques, p. ex. lactones

2.

THERMOPLASTIC COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND MOLDING PRODUCT

      
Numéro d'application 18413413
Statut En instance
Date de dépôt 2024-01-16
Date de la première publication 2024-07-18
Propriétaire Chimei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Lin, Keng-Chu

Abrégé

The present invention provides a thermoplastic composition and a method for producing the same, and a molding product. The thermoplastic composition comprises 100 parts by weight of acrylate-based rubber modified resin composition (A), 0.05 parts by weight to 10 parts by weight of paraffin wax (B), and 0.1 parts by weight to 2 parts by weight of hindered amine light stabilizing composition with a dipiperidine structure (C1). The acrylate-based rubber modified resin composition (A) includes styrene-acrylonitrile copolymers and acrylate-based rubber grafted copolymers.

Classes IPC  ?

  • C08L 51/00 - Compositions contenant des polymères greffés dans lesquels le composant greffé est obtenu par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carboneCompositions contenant des dérivés de tels polymères

3.

ECOLOGUE

      
Numéro d'application 222036300
Statut En instance
Date de dépôt 2022-11-04
Propriétaire CHIMEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ?
  • 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture
  • 16 - Papier, carton et produits en ces matières
  • 17 - Produits en caoutchouc ou en matières plastiques; matières à calfeutrer et à isoler

Produits et services

(1) Acrylonitrile-styrene copilyrene resins; acrylonitrile-butadiene-styrene terpolymer resins; acrylic resins; general purpose polystyrenes; high impact polystyrenes; unprocessed plastics; unprocessed synthetic resins; unprocessed artificial resins; unprocessed plastics filtering materials; polymer alloys for use in manufacturing gears, frames, and housings in appliances, consumer and communication applications; color compounded plastic resins for use in the manufacture of housing and industrial design in appliances, consumer, computer and communication applications; anhydrides; glycols. (2) Acrylic resins [semi-finished products]; artificial resins [semi-finished products]; synthetic resins [semi-finished products]; thermoplastic elastomers; polybutadiene rubbers and other rubbers; acrylic sheets; plastics sheet materials; rubber materials for recapping tires; synthetic rubbers, polystyrene sheets for use in shielding for bath rooms, and for use as opaque or decorative windows and/or window coverings in home internal design; polystyrene films for use in packaging applications; plastic composite materials in the form of pellets for use in manufacturing/packaging industrial design in appliances, consumer, computer, display and communication applications; optically reflective materials, namely, films and sheets for use in display and light box or lighting applications; raw or semi-worked rubbers; artificial resins being semi-finished products in extruded form for general industrial use; plastic composites in the form of plastic boards for use in manufacturing conductive and antistatic packaging; stuffing of plastics.

4.

ECOLOGUE

      
Numéro de série 97662069
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2022-11-03
Date d'enregistrement 2025-04-22
Propriétaire CHIMEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

Unprocessed acrylonitrile-styrene copolyrene resins; unprocessed acrylonitrile-butadiene-styrene terpolymer resins; unprocessed acrylic resins; unprocessed general purpose polystyrene resins; high impact unprocessed polystyrene resins; unprocessed plastics; unprocessed synthetic resins; unprocessed artificial resins; unprocessed plastics in the nature of filtering materials in the plastics industry; polymer alloys for use in manufacturing gears, frames, and housings in appliances, consumer and communication applications; unprocessed color compounded plastic resins for use in the manufacture of housing and industrial design in appliances, consumer, computer and communication applications; anhydrides; glycols

5.

Modified polymethylhydrosiloxane, terminal modified conjugated diene-vinyl aromatic hydrocarbon copolymer and synthesis method for which, rubber composition and tire

      
Numéro d'application 17124588
Numéro de brevet 11655342
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-12-17
Date de la première publication 2021-07-01
Date d'octroi 2023-05-23
Propriétaire CHIMEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Hsieh, Kuan-Lin

Abrégé

A modified polymethylhydrosiloxane, a terminal modified conjugated diene-vinyl aromatic hydrocarbon copolymer and a synthesis method for which, a rubber composition and a tire are provided. The modified polymethylhydrosiloxane includes a compound represented by a formula (1). E is a moiety containing an epoxide group. T is a moiety containing an alkoxysilylalkyl group. A is selected from the group consisting of hydrogen, a moiety containing an alkyl group and a moiety containing an amino group. B is a moiety containing an aryl group. G is a moiety containing an ethyleneoxy group and an alkoxy group. J is a moiety containing an ethyleneoxy group and a hydroxyl group. e=5-45. t=1-4. a+b+g+j is equal to 1 to 595.

Classes IPC  ?

  • C08G 77/38 - Polysiloxanes modifiés par post-traitement chimique
  • C08G 77/12 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à l'hydrogène
  • C08G 77/18 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène à des groupes alcoxyle ou aryloxyle
  • C08K 3/04 - Carbone
  • B60C 1/00 - Pneumatiques caractérisés par la composition chimique, la disposition ou le mélange physique de la composition
  • C08F 8/02 - Alkylation
  • C08L 15/00 - Compositions contenant des dérivés du caoutchouc
  • C08F 236/10 - Copolymères de composés contenant plusieurs radicaux aliphatiques non saturés et l'un au moins contenant plusieurs liaisons doubles carbone-carbone le radical ne contenant que deux doubles liaisons carbone-carbone conjuguées avec des monomères vinylaromatiques
  • C08C 19/44 - Addition d'un réactif qui réagit avec un hétéro-atome ou un groupe contenant des hétéro-atomes de la macromolécule réagissant avec des métaux ou des groupes contenant des atomes métalliques de polymères contenant des atomes métalliques exclusivement à l'une ou aux deux extrémités du squelette

6.

Polymethacrylate composition and optical device made therefrom, and display apparatus

      
Numéro d'application 16699094
Numéro de brevet 11111373
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2019-11-28
Date de la première publication 2020-06-11
Date d'octroi 2021-09-07
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Hsieh, Shang-Ju

Abrégé

A polymethacrylate composition, an optical device made therefrom, and a display apparatus are provided. The polymethacrylate composition includes 50 to 85 parts by weight of methacrylate series polymer, 15 to 50 parts by weight of styrene series-maleic anhydride series copolymer, and an aromatic compound having a phosphite group. The methacrylate series polymer includes methacrylate series monomer unit and acrylate series monomer unit and has a weight average molecular weight (Mw) in a range between 20,000 and 200,000. The styrene series-maleic anhydride series copolymer includes 65 wt %-85 wt % of styrene series monomer unit, 15 wt %-35 wt % of maleic anhydride series monomer unit, and 0-20 wt % of second copolymerizable monomer unit. The content of the aromatic compound having a phosphite group in the polymethacrylate composition is 200 ppm-900 ppm.

Classes IPC  ?

  • C08L 33/12 - Homopolymères ou copolymères du méthacrylate de méthyle
  • G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques
  • G02B 5/02 - DiffuseursÉléments afocaux

7.

Resin composition for resin composite, resin composite, and refrigeration device comprising the said resin composite

      
Numéro d'application 16583396
Numéro de brevet 11214668
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2019-09-26
Date de la première publication 2020-04-23
Date d'octroi 2022-01-04
Propriétaire CHIMEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Kuo, Hung-Jui
  • Hsu, Jui-Hsi
  • Huang, Chen-Pao

Abrégé

A resin composite is provided, which comprises: a first resin layer including a first rubber modified styrene-based resin composition; and a second resin layer including a second rubber modified styrene-based resin composition. The first and second rubber modified styrene-based resin compositions respectively comprise: a styrene-based copolymer; and rubber particles. In the first rubber modified styrene-based resin composition, on the basis of a total weight of all monomer units of the styrene-based copolymer being 100 wt %, the styrene-based copolymer comprises more than or equal to 21.0 wt % to less than or equal to 31.0 wt % of an acrylonitrile-based monomer unit. In the second rubber modified styrene-based resin composition, on the basis of a total weight of all monomer units of the styrene-based copolymer being 100 wt %, the styrene-based copolymer comprises more than or equal to 12.0 wt % to less than 21.0 wt % of an acrylonitrile-based monomer unit.

Classes IPC  ?

  • C08L 9/06 - Copolymères avec le styrène
  • C08L 51/04 - Compositions contenant des polymères greffés dans lesquels le composant greffé est obtenu par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carboneCompositions contenant des dérivés de tels polymères greffés sur des caoutchoucs
  • C08L 25/12 - Copolymères du styrène avec des nitriles non saturés
  • F25D 23/08 - Parties fabriquées entièrement ou principalement en matériaux plastiques
  • B32B 27/30 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant une résine vinyliqueProduits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant une résine acrylique
  • C08L 55/02 - Polymères ABS [Acrylonitrile-Butadiène-Styrène]
  • C08K 7/02 - Fibres ou "whiskers"
  • C08K 5/01 - Hydrocarbures

8.

KIBISAN

      
Numéro de série 88729153
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2019-12-16
Date d'enregistrement 2020-09-15
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

Artificial resins, unprocessed; unprocessed synthetic thermoplastic resin; unprocessed plastics; synthetic resins, unprocessed; plastics, unprocessed; industrial chemicals; chemicals for use in science; chemical reagents for non-medical purposes; petrol chemical additives; chemical additives for lubricating oil; fertilizers; photographic chemicals; paper pulp; adhesives for industrial purposes; fire extinguishing compositions

9.

Optical plate with protrusions, optical structure, backlight module and display device

      
Numéro d'application 16387658
Numéro de brevet 11106086
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2019-04-18
Date de la première publication 2019-10-24
Date d'octroi 2021-08-31
Propriétaire CHIMEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chen, Hsin-Hung
  • Tseng, Wei-Chan
  • Wang, Chung-Hao

Abrégé

An optical plate with protrusions, an optical structure, a backlight module and a display device are provided. The optical plate includes a main body and several protrusions. The main body has a first surface. The protrusions are formed on and projected from the first surface. An area ratio of the protrusions to the first surface is in a range of 0.03˜35%. The protrusions have a pitch in a range of 0.5˜10 mm, and a portion of the first surface other than the protrusions has a first center line mean roughness Ra in a range of 0.01˜0.1 μm.

Classes IPC  ?

  • G02B 5/02 - DiffuseursÉléments afocaux
  • G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
  • G02F 1/13357 - Dispositifs d'éclairage

10.

Modified polymethylhydrosiloxane, modified high-cis conjugated diene polymer, and manufacturing method for the same, and rubber composition and tire using the same

      
Numéro d'application 16258871
Numéro de brevet 10889659
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2019-01-28
Date de la première publication 2019-08-08
Date d'octroi 2021-01-12
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Shen, Hsiu-Ping
  • Hsieh, Kuan-Lin

Abrégé

The present disclosure provides a modified polymethylhydrosiloxane, a modified high-cis conjugated diene polymer, and a manufacturing method for the same, and a rubber composition and a tire using the same. The manufacturing method for the modified high-cis conjugated diene polymer comprises: performing a polymerization reaction to form a high-cis conjugated diene polymer; and making the high-cis conjugated diene polymer react with a first modifier, and then react with a condensation accelerator and a second modifier to generate a modified high-cis conjugated diene polymer; wherein the modified high-cis conjugated diene polymer has over 97% of cis-1,4 structure. The second modifier comprises a compound represented by the following formula (1).

Classes IPC  ?

  • C08C 19/25 - Incorporation d'atomes de silicium dans la molécule
  • C08L 83/10 - Copolymères séquencés ou greffés contenant des segments de polysiloxanes
  • C08L 83/06 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
  • C08L 47/00 - Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, l'un au moins contenant plusieurs liaisons doubles carbone-carboneCompositions contenant des dérivés de tels polymères
  • B60C 1/00 - Pneumatiques caractérisés par la composition chimique, la disposition ou le mélange physique de la composition
  • C08K 3/011 - Agents de réticulation ou de vulcanisation, p. ex. accélérateurs
  • C08K 3/08 - Métaux
  • C08G 77/442 - Polymères séquencés ou greffés contenant des segments de polysiloxanes contenant des segments de polymères vinyliques
  • C08G 81/02 - Composés macromoléculaires obtenus par l'interréaction de polymères en l'absence de monomères, p. ex. polymères séquencés au moins un des polymères étant obtenu par des réactions ne faisant intervenir que des liaisons non saturées carbone-carbone

11.

Resin composition, molded article, food contact appliance and food contact container

      
Numéro d'application 16235806
Numéro de brevet 11235563
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-12-28
Date de la première publication 2019-07-04
Date d'octroi 2022-02-01
Propriétaire CHIMEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Hsueh, Chan-Li
  • Huang, Shih-Wei
  • Su, Wen-Yi

Abrégé

A resin composition is provided. The resin composition includes a styrene-acrylonitrile based copolymer of 75 parts by weight to 90 parts by weight and rubber particles of 10 parts by weight to 25 parts by weight. The resin composition includes an oligomer trimer. The oligomer trimer includes at least one monomer unit selected from the group consisting of a styrene based monomer unit and an acrylonitrile based monomer unit. Wherein, a residual acrylonitrile based monomer is less than 5 ppm of the total weight of the resin composition. The ratio of the peak area of acetophenone to the peak area of air for the resin composition as analyzed by a thermal desorption gas chromatography mass spectrometer (TD-GC-MS) is 100 to 300.

Classes IPC  ?

  • B32B 27/30 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant une résine vinyliqueProduits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comprenant une résine acrylique
  • C08L 33/20 - Homopolymères ou copolymères de l'acrylonitrile
  • C08L 25/06 - Polystyrène
  • C08L 25/12 - Copolymères du styrène avec des nitriles non saturés
  • C08J 3/00 - Procédés pour le traitement de substances macromoléculaires ou la formation de mélanges
  • B65D 81/34 - Réceptacles, éléments d'emballage ou paquets pour contenus présentant des problèmes particuliers de stockage ou de transport ou adaptés pour servir à d'autres fins que l'emballage après avoir été vidés de leur contenu pour emballer des aliments devant être cuits ou chauffés dans l'emballage

12.

Photosensitive resin composition and manufacturing method of the same, black matrix, pixel layer, protection film, color filter, and liquid crystal display apparatus

      
Numéro d'application 16101525
Numéro de brevet 10495919
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-08-13
Date de la première publication 2019-02-14
Date d'octroi 2019-12-03
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Liu, Fu-Chien
  • Liao, Hao-Wei

Abrégé

A photosensitive resin composition and a manufacturing method thereof, a black matrix, a pixel layer, a protective film, a color filter, and a liquid crystal display apparatus are provided. The photosensitive resin composition includes an alkali-soluble resin (A), a compound (B) containing an ethylenically-unsaturated group, a photoinitiator (C), and a solvent (D), wherein the alkali-soluble resin (A) contains a first alkali-soluble resin (A-1) having all of a fluorene group, a polymerizable unsaturated group, and a carbamate group. The photosensitive resin composition contains a specific alkali-soluble resin (A-1), so that a pattern formed by the photosensitive resin composition has no development residue and good sputtering resistance.

Classes IPC  ?

  • G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
  • C08L 33/14 - Homopolymères ou copolymères des esters d'esters contenant des atomes d'halogène, d'azote, de soufre ou d'oxygène en plus de l'oxygène du radical carboxyle
  • C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
  • C08L 67/02 - Polyesters dérivés des acides dicarboxyliques et des composés dihydroxylés

13.

Resin composition and application thereof

      
Numéro d'application 15987931
Numéro de brevet 10640635
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2018-05-24
Date de la première publication 2019-01-10
Date d'octroi 2020-05-05
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Hsieh, Kuan-Lin
  • Tsai, Chih-Wei

Abrégé

A resin composition and an application thereof are provided, wherein the resin composition includes a thermoplastic elastomer, a styrene-based resin, a processing oil, and a filler. Based on 100 wt % of the resin composition, the content of the thermoplastic elastomer is 20 wt % to 55 wt %, the content of the styrene-based resin is 25 wt % to 55 wt %, the content of the processing oil is 6 wt % to 18 wt %, and the content of the filler is 5 wt % to 20 wt %. A printing material made by the resin composition has good adhesion with a substrate.

Classes IPC  ?

  • C08K 3/26 - CarbonatesBicarbonates
  • C08L 25/08 - Copolymères du styrène
  • C08K 3/014 - Stabilisateurs prévenant les changements dus à l’oxydation, la chaleur, la lumière ou l’ozone
  • C08L 53/02 - Compositions contenant des copolymères séquencés possédant au moins une séquence d'un polymère obtenu par des réactions ne faisant intervenir que des liaisons non saturées carbone-carboneCompositions contenant des dérivés de tels polymères contenant des monomères vinylaromatiques et des diènes conjugués
  • C08F 236/10 - Copolymères de composés contenant plusieurs radicaux aliphatiques non saturés et l'un au moins contenant plusieurs liaisons doubles carbone-carbone le radical ne contenant que deux doubles liaisons carbone-carbone conjuguées avec des monomères vinylaromatiques
  • C08F 212/10 - Styrène avec des nitriles

14.

Photosensitive resin composition, color filter, and liquid crystal display element thereof

      
Numéro d'application 15518767
Numéro de brevet 10591816
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2015-10-15
Date de la première publication 2017-08-17
Date d'octroi 2020-03-17
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Liao, Hao-Wei
  • Tsai, Yu-Jie
  • Chou, Hung-Chia

Abrégé

The invention provides a photosensitive resin composition, a color filter, and a liquid crystal display element thereof. The photosensitive resin composition includes an alkali-soluble resin (A), a compound (B) having an ethylenically unsaturated group, a photoinitiator (C), a solvent (D), and a black pigment (E). The compound (B) having an ethylenically unsaturated group contains a compound (B-1) having an acidic group and at least three ethylenically unsaturated groups. The photoinitiator (C) includes a photoinitiator (C-1) represented by formula (1).

Classes IPC  ?

  • G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
  • G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
  • G03F 7/032 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants
  • G03F 7/029 - Composés inorganiquesComposés d'oniumComposés organiques contenant des hétéro-atomes autres que l'oxygène, l'azote ou le soufre
  • G02B 5/22 - Filtres absorbants
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G03F 7/16 - Procédés de couchageAppareillages à cet effet
  • G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet
  • G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p. ex. développateurs
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p. ex. émaillage

15.

Resin composition for laser marking

      
Numéro d'application 15422518
Numéro de brevet 10221308
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-02-02
Date de la première publication 2017-08-10
Date d'octroi 2019-03-05
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Hsieh, Shang-Ju

Abrégé

A resin composition for laser marking includes a resin and laser absorbers. The resin includes 40%˜83% (methyl)acrylate-styrene based copolymers (A), greater than 0 to 45% (methyl)acrylate based copolymers (B) and 5˜35% core-shell copolymers (C) by weight. The laser absorbers include 0.01˜0.25 parts of carbon black (D) for each 100 parts by weight of the resin. The (methyl)acrylate-styrene based copolymer (A) includes 40˜80% (methyl)acrylate-containing monomer units, 20% to 60% styrene series monomer units and 0% to 30% other-polymerizable monomer units by weight. The (methyl)acrylate based copolymers (B) includes 92˜99% methacrylate-type monomer units, 1˜8% acrylate series monomer units and 0˜7% vinyl-group-containing polymerizable monomer units by weight and has a weight-average molecular weight ranging from 70,000 to 150,000. Each core-shell copolymers (C) has a core portion that includes butadiene monomer units and (methyl)acrylate-containing monomer units and a shell portion that comprises (methyl)acrylate-containing monomer units at least partially covering the core portion.

Classes IPC  ?

16.

Thermoplastic resin composition and product formed therefrom

      
Numéro d'application 15390835
Numéro de brevet 10017635
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-12-27
Date de la première publication 2017-07-06
Date d'octroi 2018-07-10
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Lee, Chih-Cheng

Abrégé

A thermoplastic resin composition includes a rubber-modified polystyrene-based resin, a pentaerythritol ester compound and a fatty acid amide compound, wherein a total content of the pentaerythritol ester compound and the fatty acid amide compound is ranging from 4 parts to 8 parts by weight based on 100 parts by weight of the rubber-modified polystyrene-based resin, and a ratio of a content of the pentaerythritol ester compound to the total content of the pentaerythritol ester compound and the fatty acid amide compound is in a range of larger than 0.2 to less than 0.83.

Classes IPC  ?

  • C08L 25/12 - Copolymères du styrène avec des nitriles non saturés
  • C08K 13/00 - Emploi de mélanges d'ingrédients non prévus dans un seul des groupes principaux , chacun de ces composés étant essentiel
  • C08L 55/02 - Polymères ABS [Acrylonitrile-Butadiène-Styrène]
  • C08L 83/04 - Polysiloxanes
  • C08K 5/103 - EstersÉthers-esters d'acides monocarboxyliques avec des polyalcools
  • C08K 5/20 - Amides d'acides carboxyliques
  • C08L 51/04 - Compositions contenant des polymères greffés dans lesquels le composant greffé est obtenu par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carboneCompositions contenant des dérivés de tels polymères greffés sur des caoutchoucs

17.

Photosensitive resin composition, protective film, and liquid crystal display element

      
Numéro d'application 15371226
Numéro de brevet 10162260
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-12-07
Date de la première publication 2017-06-15
Date d'octroi 2018-12-25
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Hsu, Chih-Hang
  • Wu, Ming-Ju
  • Shih, Chun-An

Abrégé

Condition (II): the siloxane based monomer (a2) includes a monomer (a2-1) represented by formula (A-4).

Classes IPC  ?

  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
  • G03F 7/022 - Quinonediazides
  • C08F 220/06 - Acide acryliqueAcide méthacryliqueLeurs sels métalliques ou leurs sels d'ammonium
  • C08F 220/28 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle ne contenant pas de cycles aromatiques dans la partie alcool
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G03F 7/16 - Procédés de couchageAppareillages à cet effet
  • G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet
  • G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p. ex. développateurs
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p. ex. émaillage
  • C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
  • C08F 230/08 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et contenant du phosphore, du sélénium, du tellure ou un métal contenant un métal contenant du silicium
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • G02F 1/1333 - Dispositions relatives à la structure
  • G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs

18.

Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element

      
Numéro d'application 15361013
Numéro de brevet 10131842
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-11-24
Date de la première publication 2017-06-01
Date d'octroi 2018-11-20
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Chiou, Shin-Rong

Abrégé

A liquid crystal alignment agent allowing formation of an LCD element having good reliability and less residual image, a liquid crystal alignment film, and an LCD element having the liquid crystal alignment film are shown. The liquid crystal alignment agent includes a polymer (A), a photosensitive polysiloxane (B), and a solvent (C). The polymer (A) is obtained by reacting a mixture that includes a tetracarboxylic dianhydride component (a-1) and a diamine component (a-2). The photosensitive polysiloxane (B) is obtained by reacting a polysiloxane (b-1) having an epoxy group with a cinnamic acid derivative (b-2) and an aromatic heterocyclic derivative (b-3) containing nitride, oxide or sulfide.

Classes IPC  ?

  • C09K 19/56 - Agents d'alignement
  • C08L 79/08 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p. ex. par des couches d'alignement

19.

Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element having the same

      
Numéro d'application 15207498
Numéro de brevet 09976088
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-07-11
Date de la première publication 2017-02-02
Date d'octroi 2018-05-22
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Chiou, Shin-Rong

Abrégé

A liquid crystal alignment agent of the present invention includes a polymer composition (A) synthesized by tetracarboxylic dianhydride compound (a) and diamine compound (b), and a solvent (B). The diamine compound (b) includes diamine (b-1) shown as following formula (I) and diamine (b-2): 2 represents a methylene group, a divalent alkyl of 2 to 10 carbons, a divalent alkenyl of 2 to 7 carbons or a divalent alkynyl of 2 to 6 carbons; and a represents an integer of 0 to 3.

Classes IPC  ?

  • C08G 73/10 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08L 67/00 - Compositions contenant des polyesters obtenus par des réactions créant une liaison ester carboxylique dans la chaîne principaleCompositions contenant des dérivés de tels polymères
  • C08L 73/00 - Compositions contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale une liaison contenant soit de l'oxygène, soit de l'oxygène et du carbone, non prévus dans les groupes Compositions contenant des dérivés de tels polymères
  • C08L 77/00 - Compositions contenant des polyamides obtenus par des réactions créant une liaison amide carboxylique dans la chaîne principaleCompositions contenant des dérivés de tels polymères
  • C08L 79/00 - Compositions contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant uniquement de l'azote, avec ou sans oxygène ou carbone, non prévues dans les groupes
  • C09K 19/56 - Agents d'alignement
  • C09D 179/08 - PolyimidesPolyesterimidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p. ex. par des couches d'alignement

20.

Photosensitive polysiloxane composition and uses thereof

      
Numéro d'application 15287127
Numéro de brevet 09851638
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-10-06
Date de la première publication 2017-01-26
Date d'octroi 2017-12-26
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Huang, Wei-Jie
  • Shih, Chun-An

Abrégé

The invention relates to a photosensitive polysiloxane composition and a thin film formed by the aforementioned photosensitive polysiloxane composition. The thin film is a planarization film of a TFT substrate, an interlayer insulating film or an overcoat of a core material or a protective material in a waveguide. The invention is to provide a photosensitive polysiloxane composition having excellent surface flatness and high tapered angle of a pattern. The photosensitive polysiloxane composition comprises a polysiloxane (A), an o-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester (B), an alkali-soluble resin containing a silyl group (C) and a solvent (D).

Classes IPC  ?

  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/16 - Procédés de couchageAppareillages à cet effet
  • G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet
  • G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p. ex. développateurs
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p. ex. émaillage

21.

Photosensitive resin composition for color filter and application of the same

      
Numéro d'application 15147913
Numéro de brevet 09939568
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-05-06
Date de la première publication 2016-11-10
Date d'octroi 2018-04-10
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Hsu, Jung-Pin
  • Lin, Bo-Hsuan

Abrégé

The present invention relates to a photosensitive resin composition for a color filter and an application of the same. The photosensitive resin composition includes an alkali-soluble resin (A), a compound (B) having an ethylenically unsaturated group, a photoinitiator (C), an organic solvent (D) and a pigment (E). The alkali-soluble resin (A) includes a first alkali-soluble resin (A-1) having the structure represented by formula (1). The aforementioned photosensitive resin composition is advantageously applied for the color filer with better contrast.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G02B 5/22 - Filtres absorbants
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
  • G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
  • G03F 7/032 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants
  • G03F 7/033 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p. ex. polymères vinyliques
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables

22.

CHIMEI

      
Numéro de série 86966368
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2016-04-06
Date d'enregistrement 2017-10-31
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ?
  • 29 - Viande, produits laitiers et aliments préparés ou conservés
  • 30 - Aliments de base, thé, café, pâtisseries et confiseries

Produits et services

[ Animal milk, namely, goat's milk; flavored milk; yogurt-based beverages; milk powder; cream; rice milk for use as a milk substitute; sweet bean curd; edible oil; meat and products thereof, namely, bacon, charcuterie, black pudding, ham, canned cooked meat, sausages and chicken croquettes, meat croquettes and fish croquettes; marine products and products thereof, namely, fish fillets, salted fish and canned fish; instant meat packs comprising pork and beef; frozen instant seafood packs comprising tuna fish, salmon and lobsters; broth; fish soup; dried fruits and vegetables; frozen fruits and vegetables; dehydrated fruits and vegetables; preserved fruits ] preserved vegetables [ ; instant vegetable meal packs comprising processed onions, peas and tomato; vegetable soup; red bean soup; green bean soup; peanut soup; eggs; meat extract; fruit and vegetable spread; milk-based spread; bean curds; dried bean curds; meat substitutes; vegetable condensed soup; soy protein powder used for culinary purposes; fruit jellies ] [ Tea; tea-based beverages with fruit flavoring; coffee; cocoa; chocolate powder; coffee-based beverages containing milk; prepared cocoa-based beverages; chocolate food beverages not being dairy based or vegetable based; ice; ] ice-cream; [ salt; sauces; vinegar; condiments, namely, relish, chutneys, mustard, pepper and saffron for use as a food seasoning; spices; sugar, honey; candies; rice cookies; ] biscuits; [ cereal snack chips; French toast; cakes; ] breads; hamburger sandwiches; [ puddings; tarts; ] steamed buns stuffed with minced meat; [ red bean paste; ] spring onion pan cakes; [ soy bean muffin; fish dumplings; egg dumplings; crystal dumplings; rice, processed wheat, flour, sago, won ton wrappers made of rice, porridge, steamed rice, instant noodles, cut noodles, noodles, ] dumplings [ ; wontons, dough, spring roll wrappers, namely, edible rice paper; fermented yeast; yeast; sweet fermented yeast; edible food starch for cooking; ginger sauce; gravy ]

23.

Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element

      
Numéro d'application 14807902
Numéro de brevet 09644147
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2015-07-24
Date de la première publication 2016-01-28
Date d'octroi 2017-05-09
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Chiou, Shin-Rong

Abrégé

A liquid crystal alignment agent capable of forming a liquid crystal alignment film having good ultraviolet reliability, the liquid crystal alignment film, and a liquid crystal display element having the same are provided. The liquid crystal alignment agent includes a polymer (A) and a solvent (B). The polymer (A) is obtained by reacting a mixture. The mixture includes a tetracarboxylic dianhydride component (a) and a component (b). The component (b) includes a diamine compound (b-1) represented by formula (1), a diamine compound (b-2) represented by formula (2), and a compound (b-3), wherein the compound (b-3) is at least one selected from the group consisting of a structure represented by formula (3-1) and a structure represented by formula (3-2).

Classes IPC  ?

  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p. ex. par des couches d'alignement
  • C08L 77/06 - Polyamides dérivés des polyamines et des acides polycarboxyliques
  • C09K 19/56 - Agents d'alignement
  • C09D 179/08 - PolyimidesPolyesterimidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08G 73/10 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08G 73/16 - Polyester-imides

24.

Photosensitive resin composition, protective film and element having the same

      
Numéro d'application 14733969
Numéro de brevet 09541832
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2015-06-09
Date de la première publication 2015-12-31
Date d'octroi 2017-01-10
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Wu, Ming-Ju
  • Shih, Chun-An

Abrégé

The present invention relates to a photosensitive resin composition, a protective film and an element having the same. The aforementioned photosensitive resin composition includes a polysiloxane resin (A), an alkali-soluble resin (B), an ortho-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester (C) and a solvent (D). The alkali-soluble resin (B) is copolymerized by an unsaturated carboxylic acid or unsaturated carboxylic anhydride compound (b1), a fluorene derivative having a double-bond group (b2) and an unsaturated compound having an acid-decomposable group (b3).

Classes IPC  ?

  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p. ex. émaillage
  • C09D 183/04 - Polysiloxanes
  • C09D 5/16 - Peintures antisalissuresPeintures subaquatiques
  • G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p. ex. préchauffage
  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants

25.

Photosensitive resin composition, protective film and element having the same

      
Numéro d'application 14733971
Numéro de brevet 09422446
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2015-06-09
Date de la première publication 2015-12-31
Date d'octroi 2016-08-23
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Wu, Ming-Ju
  • Shih, Chun-An

Abrégé

The present invention relates to a photosensitive resin composition, a protective film and an element having the same. The aforementioned photosensitive resin composition includes an alkali-soluble resin (A), an ortho-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester (B) and a solvent (C). The alkali-soluble resin (A) is copolymerized by an unsaturated carboxylic acid or unsaturated carboxylic anhydride compound (a1), a fluorene derivative having a double-bond group (a2) and an unsaturated compound having an acid-decomposable group (a3).

Classes IPC  ?

  • C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
  • C08F 2/46 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire
  • C08G 61/04 - Composés macromoléculaires contenant uniquement des atomes de carbone dans la chaîne principale de la molécule, p. ex. polyxylylènes uniquement des atomes de carbone aliphatiques
  • C09D 135/06 - Copolymères avec des monomères vinyliques aromatiques
  • C09D 4/06 - Compositions de revêtement, p. ex. peintures, vernis ou vernis-laques, à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
  • C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique

26.

Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element

      
Numéro d'application 14731414
Numéro de brevet 09404041
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2015-06-05
Date de la première publication 2015-12-10
Date d'octroi 2016-08-02
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Chiou, Shin-Rong

Abrégé

A liquid crystal alignment agent capable of forming a liquid crystal alignment film having good ultraviolet reliability, the liquid crystal alignment film, and a liquid crystal display element having the same are provided. The liquid crystal alignment agent includes a polymer (A) and a solvent (B). The polymer (A) is obtained by reacting a mixture. The mixture includes a tetracarboxylic dianhydride component (a) and a diamine component (b). The diamine component (b) includes a diamine compound (b-1) represented by formula (1) and a diamine compound (b-2) represented by formula (2).

Classes IPC  ?

  • C08G 73/16 - Polyester-imides
  • C09K 19/36 - Composés stéroïdes formant des cristaux liquides
  • C09K 19/56 - Agents d'alignement
  • C08L 79/08 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles
  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p. ex. par des couches d'alignement
  • C08G 73/10 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

27.

Liquid crystal alignment agent and uses thereof

      
Numéro d'application 14711107
Numéro de brevet 09453164
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2015-05-13
Date de la première publication 2015-11-19
Date d'octroi 2016-09-27
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Hsu, Li-Tao

Abrégé

The invention relates to a horizontal liquid crystal alignment agent which provides a polymer (A) and a solvent (B). The polymer (A) is obtained by reacting a mixture comprising a tetracarboxylic acid dianhydride component (a) and a diamine component (b). The invention also provides a liquid crystal alignment film made by the liquid crystal alignment agent as mentioned above and a liquid crystal display element having the liquid crystal alignment film. The liquid crystal alignment film has high rubbing resistance.

Classes IPC  ?

  • C08K 5/15 - Composés hétérocycliques comportant de l'oxygène dans le cycle
  • C08K 3/34 - Composés contenant du silicium
  • C09K 19/56 - Agents d'alignement
  • C09K 19/52 - Substances formant des cristaux liquides caractérisées par des constituants qui ne sont pas des cristaux liquides, p. ex. additifs
  • C08L 79/08 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08K 5/1515 - Cycles à trois chaînons
  • C09D 179/08 - PolyimidesPolyesterimidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08G 73/06 - Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale de la macromoléculePolyhydrazidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08G 73/10 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

28.

Photosensitive resin composition for color filter and application thereof

      
Numéro d'application 14801818
Numéro de brevet 09268218
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2015-07-16
Date de la première publication 2015-11-12
Date d'octroi 2016-02-23
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Hsu, Jung-Pin

Abrégé

The present invention relates to a photosensitive resin composition for a color filter and an application thereof. The photosensitive resin composition includes a pigment (A), an alkali-soluble resin (B), a compound having an ethylenically unsaturated group (C), a photo initiator (D) and an organic solvent (E). The alkali-soluble resin (B) includes a first alkali-soluble resin (B-1), and the first alkali-soluble resin (B-1) is copolymerized by a first mixture. The first mixture at least includes an ethylenically unsaturated monomer having a structure of hindered amine (b1-1), an ethylenically unsaturated monomer having an oxetanyl (b1-2) and an ethylenically unsaturated monomer having a carboxylic acid group (b1-3).

Classes IPC  ?

  • G02B 5/20 - Filtres
  • G03F 7/033 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p. ex. polymères vinyliques
  • G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G02B 5/22 - Filtres absorbants
  • G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques
  • G03F 7/30 - Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides

29.

Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display device

      
Numéro d'application 14660898
Numéro de brevet 09505981
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2015-03-17
Date de la première publication 2015-10-01
Date d'octroi 2016-11-29
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Chiou, Shin-Rong

Abrégé

A liquid crystal alignment agent, a liquid crystal alignment film, and a liquid crystal display device are provided. The liquid crystal alignment agent includes a polymer composition (A-1) and a solvent (B). The polymer composition (A-1) is obtained by reacting a tetracarboxylic acid dianhydride compound (a) with a diamine compound (b). The diamine compound (b) includes at least one type of diamine (b-1) represented by formula (I) and at least one type of diamine (b-2) having the structure represented by formula (II). The liquid crystal alignment agent can be made into a liquid crystal display device having good uniformity of pretilt angle after ultraviolet irradiation.

Classes IPC  ?

  • C08G 73/10 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p. ex. par des couches d'alignement
  • C09K 19/56 - Agents d'alignement
  • C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles
  • C08L 79/08 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C09D 179/08 - PolyimidesPolyesterimidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

30.

Blue photosensitive resin composition for color filter and application thereof

      
Numéro d'application 14645402
Numéro de brevet 09274419
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2015-03-11
Date de la première publication 2015-09-24
Date d'octroi 2016-03-01
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Hsu, Jung-Pin

Abrégé

The present invention relates to a blue photosensitive resin composition for a color filter and an application thereof. The blue photosensitive resin composition includes an organic pigment (A), a dye (B), an alkali-soluble resin (C), a compound having an ethylenically unsaturated group (D), a photo-initiator (E) and a solvent (F). The alkali-soluble resin (C) includes a first alkali-soluble resin (C-1) having a hindered amine structure. The blue photosensitive resin composition of the present invention can improve a voltage holding ratio and a contrast ratio of the color filter.

Classes IPC  ?

  • G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
  • G03F 7/033 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p. ex. polymères vinyliques
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G03F 7/30 - Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
  • G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques
  • G02B 5/22 - Filtres absorbants
  • G02B 5/20 - Filtres

31.

Positive photosensitive resin composition and pattern forming method

      
Numéro d'application 14555576
Numéro de brevet 09448474
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2014-11-27
Date de la première publication 2015-06-11
Date d'octroi 2016-09-20
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Liu, Chi-Ming
  • Shih, Chun-An

Abrégé

A positive photosensitive resin composition, a pattern forming method, a thin film transistor array substrate, and a liquid crystal display device are provided. The positive photosensitive resin includes a novolac resin (A), an alkali-soluble resin (B), an ester (C) of an o-naphthoquinone diazide sulfonic acid, and a solvent (D). The alkali-soluble resin (B) includes a first alkali-soluble resin (B-1) produced by polymerizing a mixture. The mixture includes an epoxy compound (i) and a compound (ii), wherein the epoxy compound (i) has at least two epoxy groups, and the compound (ii) has at least one carboxylic acid group and at least one ethylenically unsaturated group.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p. ex. émaillage
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables

32.

Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film and liquid crystal display element having thereof

      
Numéro d'application 14476750
Numéro de brevet 09513511
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2014-09-04
Date de la première publication 2015-03-19
Date d'octroi 2016-12-06
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Tsai, Tsung-Pei

Abrégé

The present invention relates to a liquid crystal alignment agent, a liquid crystal alignment film made by the liquid crystal alignment agent and a liquid crystal display element having the liquid crystal alignment film. The liquid crystal alignment agent includes a polymer composition (A) and a solvent (B). The polymer composition (A) is synthesized by reacting a mixture that includes a tetracarboxylic dianhydride component (a) and a diamine component (b). The aforementioned liquid crystal alignment agent has a better process stability, and the liquid crystal alignment film made by the liquid crystal alignment agent could improve the reliability of the liquid crystal display element.

Classes IPC  ?

  • C09K 19/00 - Substances formant des cristaux liquides
  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p. ex. par des couches d'alignement
  • C08G 73/10 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

33.

Positive photosensitive resin composition and method for forming pattern by using the same

      
Numéro d'application 14475589
Numéro de brevet 09395627
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2014-09-03
Date de la première publication 2015-03-12
Date d'octroi 2016-07-19
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (USA)
Inventeur(s)
  • Liu, Chi-Ming
  • Shih, Chun-An

Abrégé

The present invention relates to a positive photosensitive resin composition and a method for forming a pattern by using the same. The positive photosensitive resin composition includes a novolac resin (A), a polysiloxane (B), an ortho-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester (C) and a solvent (D). The novolac resin (A) includes a xylenol-type novolac resin (A-1). The xylenol-type novolac resin (A-1) is synthesized by polycondensing an aldehyde compound with a xylenol compound.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet
  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants

34.

Negative photosensitive resin composition and application thereof

      
Numéro d'application 14450295
Numéro de brevet 09366959
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2014-08-04
Date de la première publication 2015-02-12
Date d'octroi 2016-06-14
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Tsai, Yu-Jie

Abrégé

A negative photosensitive resin composition including an alkali-soluble resin (A), a photoacid generator (B), a basic compound (C), a cross-linking agent (D), and a solvent (E) is provided. The alkali-soluble resin (A) includes an acrylate resin (A-1) and a novolac resin (A-2). The acrylate resin (A-1) is synthesized by polymerizing a monomer for polymerization, wherein the monomer for polymerization includes an unsaturated carboxylic acid or unsaturated carboxylic acid anhydride monomer (a-1-1) and a monomer (a-1-2). The monomer (a-1-2) includes a compound (a-1-2-1) with a tricyclodecane or dicyclopentadiene structure, a compound (a-1-2-2) represented by formula (1), or a combination of both. The novolac resin (A-2) is synthesized by polymerizing an aldehyde compound with an aromatic hydroxy compound, wherein the aromatic hydroxy compound includes a xylenol compound.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet
  • G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p. ex. émaillage
  • H01L 27/32 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des composants qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux avec des composants spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. panneaux d'affichage plats utilisant des diodes émettrices de lumière organiques

35.

Photosensitive resin composition, black matrix, color filter, and liquid crystal display device

      
Numéro d'application 14303582
Numéro de brevet 09557443
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2014-06-12
Date de la première publication 2014-12-25
Date d'octroi 2017-01-31
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Tseng, Ching-Yuan

Abrégé

A photosensitive resin composition, a black matrix, a color filter, and a liquid crystal display device including the resin composition are provided. The photosensitive resin composition includes an alkali-soluble resin (A), a compound (B) containing an ethylenically unsaturated group, a photo initiator (C), a solvent (D), and a black pigment (E). The compound (B) containing an ethylenically unsaturated group includes a compound (B-1) represented by the following formula (1). b are the same or different.

Classes IPC  ?

  • G02B 5/23 - Filtres photochromiques
  • G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques
  • C09B 1/00 - Colorants à noyau anthracène non condensé avec d'autres cycles
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/105 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des substances, p. ex. des indicateurs, pour obtenir des images visibles
  • C09B 67/20 - Préparations à base de pigments organiques
  • C09B 67/46 - Dispersions
  • G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
  • G03F 1/00 - Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. masques, photomasques ou réticulesMasques vierges ou pellicules à cet effetRéceptacles spécialement adaptés à ces originauxLeur préparation
  • C09B 67/50 - Modifications cristallines de colorants ou de pigments de phtalocyanines
  • G02B 5/00 - Éléments optiques autres que les lentilles

36.

Photosensitive resin composition and uses thereof

      
Numéro d'application 14281715
Numéro de brevet 09285681
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2014-05-19
Date de la première publication 2014-12-04
Date d'octroi 2016-03-15
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Hsieh, Li-Ting

Abrégé

The invention relates to a photosensitive resin composition, and an overcoat and/or spacer for a liquid crystal display component. The photosensitive resin composition comprises an alkali-soluble resin (A), a compound having an ethylenically unsaturated group (B); a photoinitiator (C); a solvent (D); and an organic acid (E). The alkali-soluble resin (A) comprises a resin having an unsaturated group (A-1) synthesized by polymerizing a mixture, and the mixture comprises an epoxy compound having at least two epoxy groups (i) and a compound having at least one carboxyl group and at least one vinyl unsaturated group (ii). A molecular weight of said organic acid (E) is below 1000.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs

37.

Photosensitive resin composition and uses thereof

      
Numéro d'application 14216229
Numéro de brevet 09298091
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2014-03-17
Date de la première publication 2014-10-02
Date d'octroi 2016-03-29
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Tseng, Ching-Yuan

Abrégé

The invention relates to a photosensitive resin composition; especially relates to a photosensitive resin composition that has good heat-yellowing resistance, surface roughness resistance, developability and brightness. The invention also provides a white matrix, a color filter and a reflective display element.

Classes IPC  ?

  • G02B 26/00 - Dispositifs ou dispositions optiques pour la commande de la lumière utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables
  • G02B 5/23 - Filtres photochromiques
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • G02F 1/167 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur le mouvement de translation des particules dans un fluide sous l’influence de l’application d’un champ caractérisés par l’effet électro-optique ou magnéto-optique par électrophorèse
  • C09B 23/01 - Colorants méthiniques ou polyméthiniques, p. ex. du type cyanine caractérisés par la chaîne méthinique
  • G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
  • C09B 67/22 - Mélanges de pigments ou de colorants différents, ou de solutions solides de pigments ou de colorants

38.

Modified copolymer of conjugated diene and vinyl aromatic hydrocarbon and polymerization method thereof

      
Numéro d'application 13961855
Numéro de brevet 09056526
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2013-08-07
Date de la première publication 2014-07-03
Date d'octroi 2015-06-16
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Hsieh, Kuan-Lin
  • Cheng, Kuei-Lun
  • Lee, Chih-Cheng

Abrégé

Provided is a polymerization method of a modified copolymer of conjugated diene and vinyl aromatic hydrocarbon. A multi-functional vinyl benzene-based compound is reacted with an organic alkali metal compound to form a star shaped compound with multiple active sites. A conjugated diene monomer, a vinyl aromatic hydrocarbon monomer, and the star shaped compound with multiple active sites are reacted with each other to form a copolymer of conjugated diene and vinyl aromatic hydrocarbon. The copolymer of conjugated diene and vinyl aromatic hydrocarbon is then reacted with a modifier to form the modified copolymer of conjugated diene and vinyl aromatic hydrocarbon. The modifier is represented by formula 1, 3 alkoxy group; m is an integer of 5 to 30; and n is an integer of 5 to 35.

Classes IPC  ?

  • B60C 1/00 - Pneumatiques caractérisés par la composition chimique, la disposition ou le mélange physique de la composition
  • C08F 2/00 - Procédés de polymérisation
  • C08F 293/00 - Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation sur une macromolécule contenant des groupes capables d'amorcer la formation de nouvelles chaînes polymères rattachées exclusivement à une ou aux deux extrémités de la macromolécule de départ
  • C08C 19/44 - Addition d'un réactif qui réagit avec un hétéro-atome ou un groupe contenant des hétéro-atomes de la macromolécule réagissant avec des métaux ou des groupes contenant des atomes métalliques de polymères contenant des atomes métalliques exclusivement à l'une ou aux deux extrémités du squelette
  • C08L 15/00 - Compositions contenant des dérivés du caoutchouc

39.

Photosensitive polysiloxane composition and uses thereof

      
Numéro d'application 14133277
Numéro de brevet 08936891
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2013-12-18
Date de la première publication 2014-06-26
Date d'octroi 2015-01-20
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Wu, Ming-Ju
  • Shih, Chun-An

Abrégé

The invention relates to a photosensitive polysiloxane composition that has good thermal transmittance, good chemical resistance and good sensitivity and good refractivity. The invention also provides a method for forming a thin film on a substrate, a thin film on a substrate and an apparatus.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
  • G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables

40.

Photosensitive polysiloxane composition and applications thereof

      
Numéro d'application 14098763
Numéro de brevet 08921024
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2013-12-06
Date de la première publication 2014-06-26
Date d'octroi 2014-12-30
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Wu, Ming-Ju
  • Shih, Chun-An

Abrégé

A photosensitive polysiloxane composition for forming a protective film having superior sensitivity is disclosed. A protective film formed from the photosensitive polysiloxane composition and an element including the protective film are also disclosed. The photosensitive polysiloxane composition includes a polysiloxane, an o-naphthoquinonediazidesulfonic acid ester, a urethane(meth)acrylate compound having at least six (meth)acryloyl groups in a molecule, and a solvent.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
  • G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables

41.

Modified conjugated diene polymer and synthesis method thereof

      
Numéro d'application 13925850
Numéro de brevet 08895665
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2013-06-25
Date de la première publication 2014-06-26
Date d'octroi 2014-11-25
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lee, Chih-Cheng
  • Cheng, Kuei-Lun
  • Huang, Chen-Pao
  • Hsieh, Kuan-Lin

Abrégé

Provided is a synthesis method of a modified conjugated diene polymer. Conjugated diene monomers are reacted in a reaction system. A modifier is added into the reaction system while the reaction proceeds to a predetermined extent. The modifier has a structure represented by formula (1): 5 alkyl group; 1≦m≦300; 0≦a≦65; 0≦b≦65; 0≦c≦40; 0

Classes IPC  ?

42.

Photosensitive resin composition and applications thereof

      
Numéro d'application 14027374
Numéro de brevet 09023589
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2013-09-16
Date de la première publication 2014-03-27
Date d'octroi 2015-05-05
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chen, Kai-Min
  • Shih, Chun-An

Abrégé

A photosensitive resin composition includes: an alkali-soluble resin; an o-naphthoquinonediazidesulfonic acid ester; a urethane(meth)acrylate compound having at least six (meth)acryloyl groups in a molecule; and a solvent. A protective film which is formed from the photosensitive resin composition and an element which includes the protective film are also provided.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/22 - Exposition successive avec le même motif lumineux de différentes zones de la même surface
  • G03F 7/022 - Quinonediazides
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles

43.

Photosensitive resin composition and application thereof

      
Numéro d'application 13956373
Numéro de brevet 08980506
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2013-08-01
Date de la première publication 2014-02-20
Date d'octroi 2015-03-17
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Hsieh, I-Chun
  • Liao, Hao-Wei

Abrégé

The present invention relates to a photosensitive resin composition, which comprises an alkali-soluble resin (A), a compound (B) containing vinyl unsaturated group(s), a photoinitiator (C), ortho-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester (D), a thermal initiator (E) and a solvent (F). The photosensitive resin composition added with the ortho-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester (D) and the thermal initiator (E) can have excellent resolution and development adherence. Moreover, the present invention further provides a spacer or a protective film formed by the aforementioned photosensitive resin composition, as well as a liquid crystal display device (LCD) including the aforementioned spacer or protective film.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
  • G03F 7/028 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des substances accroissant la photosensibilité, p. ex. photo-initiateurs
  • G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
  • G03F 7/033 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p. ex. polymères vinyliques
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G02B 1/10 - Revêtements optiques obtenus par application sur les éléments optiques ou par traitement de la surface de ceux-ci
  • G03F 7/022 - Quinonediazides
  • G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p. ex. émaillage

44.

CHIMEI

      
Numéro d'application 012519195
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2014-01-21
Date d'enregistrement 2014-10-29
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ?
  • 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture
  • 17 - Produits en caoutchouc ou en matières plastiques; matières à calfeutrer et à isoler

Produits et services

Acrylonitril-styrene copilyrene resins, acrylonitrile-butadiene-styrene terpolymer resins, acrylic resins, general purpose polystyrenes, high impact polystyrene, unprocessed plastics, unprocessed synthetic resins, unprocessed artificial resins, unprocessed plastics filtering materials, polymer alloys for use in manufacturing gears, frames, and housings in appliances, consumer and communication applications; color compounded plastic resins for use in the manufacture of housing and industrial design in appliances, consumer, computer and communication applications, anhydrides, glycol. Rubber, gutta-percha, gum, asbestos, mica; plastics in extruded form for use in manufacture; packing, stopping and insulating materials; flexible pipes not of metal;  semi-worked polymer resins and elastomer polymers used to create three-dimensional parts from digital data in a freeform fabrication process.

45.

CHIMEI

      
Numéro de série 86148716
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2013-12-19
Date d'enregistrement 2015-02-03
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 17 - Produits en caoutchouc ou en matières plastiques; matières à calfeutrer et à isoler

Produits et services

Rubber; synthetic rubber; raw rubber; semi-processed rubber; semi-processed plastic substances; semi-processed resin fiber; semi-processed artificial resins; semi-processed synthetic resins; thermoplastic filaments used to create three-dimensional parts from digital data in a freeform fabrication process; semi-processed artificial resins used in 3D printers; semi-processed artificial resins used to create three-dimensional parts from digital data in a freeform fabrication process; semi-processed synthetic resin consumables used in 3D printer

46.

Photo-curing polysiloxane composition and application thereof

      
Numéro d'application 13860771
Numéro de brevet 09063419
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2013-04-11
Date de la première publication 2013-10-24
Date d'octroi 2015-06-23
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Wu, Ming-Ju
  • Shih, Chun-An

Abrégé

a pyridine derivative of Formula (II) a solvent.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G03F 7/022 - Quinonediazides
  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium

47.

Photosensitive resin composition and applications of the same

      
Numéro d'application 13798541
Numéro de brevet 09223206
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2013-03-13
Date de la première publication 2013-10-24
Date d'octroi 2015-12-29
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tseng, Ching-Yuan
  • Liao, Hao-Wei

Abrégé

A photosensitive resin composition includes (A) an alkali-soluble resin, (B) a polysiloxane, (C) an ethylenically unsaturated compound, (D) a photo-initiator, (E) a solvent, (F) a black pigment, and (G) a metal chelate. The alkali-soluble resin (A) includes an unsaturated-group-containing resin (A-1) obtained by subjecting a mixture containing (i) an epoxy compound having at least two epoxy groups and (ii) a compound having at least one carboxyl group and at least one ethylenically unsaturated group to polymerization.

Classes IPC  ?

  • G02B 5/23 - Filtres photochromiques
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques
  • G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • G02B 5/22 - Filtres absorbants
  • G03C 1/00 - Matériaux photosensibles

48.

Polysiloxane-grafted polyimide resin composition and flexible substrate made therefrom

      
Numéro d'application 13725548
Numéro de brevet 08618236
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2012-12-21
Date de la première publication 2013-10-10
Date d'octroi 2013-12-31
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Liang, Yu-Hao
  • Hsu, Li-Tao
  • Hsueh, Huai-Pin

Abrégé

A polysiloxane-grafted polyimide resin composition includes a polysiloxane-grafted polyimide resin, and a solvent. The polysiloxane-grafted polyimide resin is represented by Formula (I): 2 independently represent a polysiloxane-containing group.

Classes IPC  ?

  • C08G 77/455 - Polymères séquencés ou greffés contenant des segments de polysiloxanes contenant des segments de polymères contenant de l'azote contenant des segments de polyamides, polyesteramides ou polyimides

49.

Photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device

      
Numéro d'application 13789769
Numéro de brevet 09029051
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2013-03-08
Date de la première publication 2013-09-19
Date d'octroi 2015-05-12
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tseng, Ching-Yuan
  • Liao, Hao-Wei

Abrégé

A photosensitive resin composition is provided, which comprises an alkali-soluble resin (A), a polysiloxane polymer (B), a compound containing vinyl unsaturated group(s) (C), a photoinitiator (D), a solvent (E), a black pigment (F) and a light stabilizer (G). The alkali-soluble resin (A) includes a resin having unsaturated group(s) (A-1), which is obtained by reacting an epoxy compound having at least two epoxy groups (a-1) with a compound having at least one vinyl unsaturated group and carboxyl group (a-2). The light stabilizer (G) includes a UV absorber (G-1) and/or a hindered amine (G-2). Therefore, the photosensitive resin composition has an excellent temporal stability, and a black matrix formed by such composition has a better heat resistance.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G02B 5/20 - Filtres
  • G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
  • G02B 5/23 - Filtres photochromiques
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/032 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium

50.

Photosensitive resin composition and uses thereof

      
Numéro d'application 13780362
Numéro de brevet 08722755
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2013-02-28
Date de la première publication 2013-09-19
Date d'octroi 2014-05-13
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tsai, Yu-Jie
  • Wu, Ming-Ju

Abrégé

The invention relates to a photosensitive resin composition, and an overcoat and/or spacer for a liquid crystal display component formed thereby has good heat-resistant transmittance, good chemical resistance and good elastic recovery rate. The invention also provides a method for forming a thin film on a substrate, a thin film on a substrate and a liquid crystal display component.

Classes IPC  ?

  • C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
  • C08F 2/46 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire
  • B29C 71/04 - Post-traitement d'objets sans modification de leur formeAppareils à cet effet par énergie ondulatoire ou rayonnement corpusculaire
  • A61L 2/08 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet utilisant des phénomènes physiques des radiations
  • A61L 24/00 - Adhésifs ou ciments chirurgicauxAdhésifs pour dispositifs de colostomie
  • C08G 61/04 - Composés macromoléculaires contenant uniquement des atomes de carbone dans la chaîne principale de la molécule, p. ex. polyxylylènes uniquement des atomes de carbone aliphatiques

51.

Photosensitive resin composition and application of the same

      
Numéro d'application 13758177
Numéro de brevet 09063412
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2013-02-04
Date de la première publication 2013-09-05
Date d'octroi 2015-06-23
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Liao, Hao-Wei
  • Tseng, Ching-Yuan
  • Lee, Chun-Hsien
  • Wu, Ming-Ju
  • Shih, Chun-An

Abrégé

A photosensitive resin composition includes (A) an alkali-soluble resin, (B) a polysiloxane, (C) an ethylenically unsaturated compound, (D) a photo-initiator, (E) a first solvent, and (F) a black pigment dispersion. The alkali-soluble resin (A) includes an unsaturated-group-containing resin (A-1) obtained by subjecting a mixture containing (i) an epoxy compound having at least two epoxy groups and (ii) a compound having at least one carboxyl group and at least one ethylenically unsaturated group to polymerization. A weight ratio of the black pigment dispersion (F) to the polysiloxane (B) ranges from 5 to 35. Application of the photosensitive resin composition is also disclosed.

Classes IPC  ?

  • G02B 5/23 - Filtres photochromiques
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G02B 5/22 - Filtres absorbants
  • G03C 1/00 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet

52.

Modified high cis conjugated diene copolymer and manufacturing method of the same

      
Numéro d'application 13669645
Numéro de brevet 08674030
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2012-11-06
Date de la première publication 2013-06-20
Date d'octroi 2014-03-18
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lee, Chih-Cheng
  • Cheng, Kuei-Lun

Abrégé

3.

Classes IPC  ?

  • C08F 8/42 - Introduction d'atomes métalliques ou de groupes contenant des atomes métalliques
  • C08F 36/14 - Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, l'un au moins contenant plusieurs liaisons doubles carbone-carbone le radical ne contenant que deux doubles liaisons carbone-carbone conjuguées contenant des éléments autres que le carbone et l'hydrogène

53.

Light guide plate and edge light backlight device

      
Numéro d'application 13714810
Numéro de brevet 08834001
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2012-12-14
Date de la première publication 2013-06-20
Date d'octroi 2014-09-16
Propriétaire Chi-Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Cheng-Feng
  • Kuo, Chun-Liang
  • Chen, Hsin-Hung

Abrégé

An edge light backlight device includes a light guide plate having a base portion and microstructures, LEDs, and a reflective plate. The base portion has a light emitting side, a rear side, and a light incident side. The microstructures are formed on one of the light emitting side and the rear side and each of which extends from the light incident side in a longitudinal direction. Each of the microstructures includes a curved surface with a radius of curvature (R). The light guide plate has a thickness (T). R/T ratio ranges from 0.04 to 0.15 and each of the microstructures has a height ranging from 20 μm to 300 μm so that the light guide plate has a performance of local lighting ranging from 1% to 40%.

Classes IPC  ?

  • F21V 8/00 - Utilisation de guides de lumière, p. ex. dispositifs à fibres optiques, dans les dispositifs ou systèmes d'éclairage

54.

Photosensitive resin composition and application of the same

      
Numéro d'application 13667764
Numéro de brevet 09063422
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2012-11-02
Date de la première publication 2013-05-30
Date d'octroi 2015-06-23
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Liao, Hao-Wei
  • Tseng, Ching-Yuan
  • Lee, Chun-Hsien
  • Wu, Ming-Ju
  • Shih, Chun-An

Abrégé

A photosensitive resin composition includes (A) an alkali-soluble resin, (B) a polysiloxane, (C) an ethylenically unsaturated compound, (D) a photo-initiator, (E) a black pigment, and (F) a solvent. The alkali-soluble resin includes an unsaturated-group-containing resin obtained by subjecting a mixture containing (i) an epoxy compound having at least two epoxy groups and (ii) a compound having at least one carboxyl group and at least one ethylenically unsaturated group to polymerization. A weight ratio of the unsaturated-group-containing resin to the polysiloxane ranges from 0.1 to 3.0. Application of the photosensitive resin composition is also disclosed.

Classes IPC  ?

  • G02B 5/23 - Filtres photochromiques
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • G02B 5/20 - Filtres
  • G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
  • G02B 5/22 - Filtres absorbants
  • G03C 1/00 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet

55.

Polysiloxane-grafted polyimide resin composition and applications thereof

      
Numéro d'application 13664318
Numéro de brevet 08729178
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2012-10-30
Date de la première publication 2013-05-02
Date d'octroi 2014-05-20
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Liang, Yu-Hao
  • Hsu, Li-Tao
  • Hsueh, Huai-Pin

Abrégé

A polysiloxane-grafted polyimide resin composition includes a polysiloxane-grafted polyimide resin, and a solvent. The polysiloxane-grafted polyimide resin is represented by formula (I): X represents a polysiloxane-containing group.

Classes IPC  ?

  • C08G 77/455 - Polymères séquencés ou greffés contenant des segments de polysiloxanes contenant des segments de polymères contenant de l'azote contenant des segments de polyamides, polyesteramides ou polyimides

56.

Liquid crystal alignment agent, and liquid crystal alignment film and liquid crystal display element formed from the liquid crystal alignment agent

      
Numéro d'application 13467811
Numéro de brevet 08962739
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2012-05-09
Date de la première publication 2012-11-15
Date d'octroi 2015-02-24
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Liang, Yu-Hao

Abrégé

A-1 is viscosity of the polyamic acid dispersion measured at a solid content of 6 wt % at a temperature of 25° C. A liquid crystal alignment film formed from the liquid crystal alignment agent and a liquid crystal display element including the liquid crystal alignment film are also disclosed.

Classes IPC  ?

  • C08J 3/02 - Production de solutions, dispersions, latex ou gel par d'autres procédés que ceux utilisant les techniques de polymérisation en solution, en émulsion ou en suspension
  • C08K 5/34 - Composés hétérocycliques comportant de l'azote dans le cycle
  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p. ex. par des couches d'alignement

57.

Moisture-proof and insulating coating material and uses thereof

      
Numéro d'application 13443129
Numéro de brevet 09136038
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2012-04-10
Date de la première publication 2012-11-01
Date d'octroi 2015-09-15
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Bo-Hsuan
  • Li, Kuang-Chieh

Abrégé

The invention relates to a moisture-proof and insulating coating material comprising a block copolymer or hydrogenated copolymer thereof (A), an adhesive resin (B) and a solvent (C). The block copolymer or hydride (A) comprises at least two vinyl aromatic polymer blocks and at least one conjugated diene polymer block, and in the moisture-proof and insulating coating material, the content of residual vinyl aromatic monomer is less than 300 ppm, and the content of vinyl aromatic oligomer is less than 300 ppm. The moisture-proof and insulating coating material according to the invention has good reworkability. A moisture-proof and insulating film and a method for producing the same and an electrical component comprising the moisture-proof and insulating film and a method for producing the same are also provided in the invention.

Classes IPC  ?

  • C09D 153/00 - Compositions de revêtement à base de copolymères séquencés possédant au moins une séquence d'un polymère obtenu par des réactions ne faisant intervenir que des liaisons non saturées carbone-carboneCompositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
  • C09D 193/04 - Collophane
  • H01B 3/44 - Isolateurs ou corps isolants caractérisés par le matériau isolantEmploi de matériaux spécifiés pour leurs propriétés isolantes ou diélectriques composés principalement de substances organiques matières plastiquesIsolateurs ou corps isolants caractérisés par le matériau isolantEmploi de matériaux spécifiés pour leurs propriétés isolantes ou diélectriques composés principalement de substances organiques résinesIsolateurs ou corps isolants caractérisés par le matériau isolantEmploi de matériaux spécifiés pour leurs propriétés isolantes ou diélectriques composés principalement de substances organiques cires résines vinyliquesIsolateurs ou corps isolants caractérisés par le matériau isolantEmploi de matériaux spécifiés pour leurs propriétés isolantes ou diélectriques composés principalement de substances organiques matières plastiquesIsolateurs ou corps isolants caractérisés par le matériau isolantEmploi de matériaux spécifiés pour leurs propriétés isolantes ou diélectriques composés principalement de substances organiques résinesIsolateurs ou corps isolants caractérisés par le matériau isolantEmploi de matériaux spécifiés pour leurs propriétés isolantes ou diélectriques composés principalement de substances organiques cires résines acryliques

58.

ACRYSTEX

      
Numéro de série 85734100
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2012-09-20
Date d'enregistrement 2013-05-14
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

Unprocessed artificial resins, synthetic thermoplastic resins, unprocessed plastics, unprocessed synthetic resins

59.

Color liquid crystal display device

      
Numéro d'application 13242867
Numéro de brevet 09134564
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2011-09-23
Date de la première publication 2012-06-28
Date d'octroi 2015-09-15
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Bo-Hsuan
  • Hsu, Jung-Pin
  • Cheng, Chung-En

Abrégé

A color liquid crystal display device includes a liquid crystal display element and a backlight unit. The liquid crystal display element includes a color filter having a red filter segment, a green filter segment, and a blue filter segment. The blue filter segment is prepared from a blue photosensitive resin composition. The blue photosensitive resin composition includes a pigment combination, an alkali-soluble resin, a compound having an ethylenic group, and a photoinitiator. The pigment combination includes a copper phthalocyanine-based blue pigment. The color filter has a z value ranging from 0.3 to 0.5 in a chromaticity diagram of a XYZ color system. The backlight unit is coupled to the liquid crystal display element and has a color temperature ranging from 8,000 K to 20,000 K.

Classes IPC  ?

  • G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
  • G03F 7/105 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des substances, p. ex. des indicateurs, pour obtenir des images visibles
  • G02B 5/20 - Filtres

60.

Photo-curing polysiloxane composition and protective film formed from the same

      
Numéro d'application 13291305
Numéro de brevet 08546061
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2011-11-08
Date de la première publication 2012-06-07
Date d'octroi 2013-10-01
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Wu, Ming-Ju
  • Shih, Chun-An

Abrégé

A photo-curing polysiloxane composition includes a polysiloxane, an o-naphthoquinonediazidesulfonate compound, and a solvent. The polysiloxane contains 25 wt % to 60 wt % of a polysiloxane fraction having a molecular weight ranging from 10,000 to 80,000 based on a total weight of the polysiloxane when calculated from an integral molecular weight distribution curve obtained by plotting cumulative weight percentage versus molecular weight falling within a range between 400 and 100,000 measured by gel permeation chromatography. The amount of oligomers in the polysiloxane having a molecular weight less than 800 is from 0 wt % to 10 wt % based on a total weight of the photo-curing polysiloxane composition. A protective film formed from the photo-curing polysiloxane composition and an element containing the protective film are also disclosed.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/022 - Quinonediazides
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p. ex. couches d'ancrage

61.

Liquid crystal alignment agent, and liquid crystal alignment film and liquid crystal display element formed from the liquid crystal alignment agent

      
Numéro d'application 13238598
Numéro de brevet 08673177
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2011-09-21
Date de la première publication 2012-04-26
Date d'octroi 2014-03-18
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Tsai, Tsung-Pei

Abrégé

A liquid crystal alignment agent includes a polymer and an organic solvent for dissolving the polymer. The polymer is obtained by subjecting a diamine composition and a tetracarboxylic dianhydride compound to a polymerization reaction. The diamine composition includes a first diamine compound, a second diamine compound, and a third diamine compound as defined in the specification. A liquid crystal alignment film formed from the liquid crystal alignment agent and a liquid crystal display element including the liquid crystal alignment film are also disclosed.

Classes IPC  ?

  • C09K 19/56 - Agents d'alignement
  • C08G 73/10 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08L 79/08 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

62.

Photo-curing polysiloxane composition and protective film formed from the same

      
Numéro d'application 13213346
Numéro de brevet 08349461
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2011-08-19
Date de la première publication 2012-03-01
Date d'octroi 2013-01-08
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Wu, Ming-Ju
  • Shih, Chun-An

Abrégé

A photo-curing polysiloxane composition includes a polysiloxane, an o-naphthoquinonediazidesulfonate compound, and a solvent. The polysiloxane contains less than 30 wt % of a polysiloxane fraction having a molecular weight above 8,000, and 35 wt % to 60 wt % of a polysiloxane fraction having a molecular weight ranging from 500 to 2,000 when calculated from an integral molecular weight distribution curve obtained by plotting cumulative weight percentage versus molecular weight falling within a range between 500 and 50,000 measured by gel permeation chromatography. A protective film formed from the photo-curing polysiloxane composition and an element containing the protective film are also disclosed.

Classes IPC  ?

  • C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants

63.

Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film formed therefrom, and liquid crystal display element provided with the liquid crystal alignment film

      
Numéro d'application 12923184
Numéro de brevet 08435609
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2010-09-08
Date de la première publication 2011-04-07
Date d'octroi 2013-05-07
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Hsueh, Huai-Pin

Abrégé

3]≦0.55.

Classes IPC  ?

  • C08L 63/00 - Compositions contenant des résines époxyCompositions contenant des dérivés des résines époxy
  • C09K 19/38 - Polymères, p. ex. polyamides
  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p. ex. par des couches d'alignement

64.

ACRYREX

      
Numéro de série 85058597
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2010-06-09
Date d'enregistrement 2012-04-24
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

Unprocessed artificial resins, synthetic thermosplastic resins, unprocessed plastics, unprocessed synthetic resins, chemical preparations in the nature of unprocessed resins for filtering of materials, industrial chemicals, chemicals for scientific purposes [, chemical reagents for non-medical purposes, chemical gasoline additive, chemical lubricant additives for enhancing the performance of lubricating oils, fertilizer, photographic chemicals, paper pulp for manufacturing purposes, adhesives for industrial purposes, fire extinguishing compositions ]

65.

KIBITON

      
Numéro de série 85058611
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2010-06-09
Date d'enregistrement 2011-08-30
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 17 - Produits en caoutchouc ou en matières plastiques; matières à calfeutrer et à isoler

Produits et services

Thermoplastic rubbers, butadiene rubber, raw or semi worked rubbers, plastic granules for use as a playground ground cover, plastic powder, synthetic rubbers, artificial rubbers

66.

WONDERLITE

      
Numéro de série 85058634
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2010-06-09
Date d'enregistrement 2011-08-02
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

Unprocessed artificial resins, polycarbonate resin, [ polyethylene resin, polypropylene resin, ] polybutene resin, [ metacrylic acid ester, polystyrene resin, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer for use in manufacturing, urea formaldehyde resins, polyester resin, unprocessed acrylic resin, ] unprocessed plastics, [ unprocessed cellulose acetate, ] unprocessed resin for use in filtering materials, blend of polycarbonate/acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer for use in manufacturing

67.

A BACKLIGHT MODULE, AN LCD AND A NOTEBOOK COMPUTER HAVING THE SAME, AND A MANUFACTURE METHOD THEREOF

      
Numéro d'application CN2006003001
Numéro de publication 2008/055385
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2006-11-09
Date de publication 2008-05-15
Propriétaire CHI LIN TECHNOLOGY CO., LTD (Chine)
Inventeur(s)
  • Lee, Ea Si
  • Tsai, Shen Yin
  • Kuo, Chin Lung

Abrégé

A backlight module, an LCD and a notebook computer having the same, and a manufacture method thereof are provided to facilitate light source to attachment and detachment. The backlight module includes a housing (10), a cover (15) and a light source (17). A depression (14) is formed on the back of the cover (15) to form a sidewall (101). The cover (15) is composed of a soleplate (150), a first bending portion (151) and a second bending portion (152). The depression (14) is covered by the soleplate (150), the first bending portion (151) is arranged on the inner surface of the side wall (101), and the second bending portion (152) is arranged onthe outer wall of the housing that is adjacent to the sidewall. The first bending portion (151) and the inner surface of the sidewall have a first position member (160), and the second bending portion (152) and the outer surface of the side wall have a second position member (160'). The light source is provided on the inner surface of the first bending portion (151) to face the light guiding plate.

Classes IPC  ?

68.

Diffusion plate used in direct-type backlight module and method for making the same

      
Numéro d'application 11801262
Numéro de brevet 07414788
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2007-05-09
Date de la première publication 2007-09-13
Date d'octroi 2008-08-19
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lee, Mao-Song
  • Shih, Hsi-Hsin
  • Tsai, Shen-Yin
  • Chang, Tien-Chieh
  • Kuo, Chin-Lung
  • Lin, Jun-Hong
  • Cheng, Shih-Kai

Abrégé

The present invention relates to a diffusion plate used in a direct-type backlight module and a method for making the same. At least one of the surfaces of the diffusion plate has a microstructure constituted by repeated undulation that can refract and diffuse the incident light beams that enter the diffusion plate. Therefore, the paths of the light beams after entering the diffusion plate are changed, which raises the luminance of the backlight module.

Classes IPC  ?

  • G02B 5/02 - DiffuseursÉléments afocaux
  • G02B 27/10 - Systèmes divisant ou combinant des faisceaux

69.

KIBILAC

      
Numéro de série 77088398
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2007-01-22
Date d'enregistrement 2008-05-13
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 17 - Produits en caoutchouc ou en matières plastiques; matières à calfeutrer et à isoler

Produits et services

Rubber, namely, liquid rubber, natural rubber, synthetic rubber, silicone rubber, polyethylene plastic, namely, flexible pipes for plumbing purposes; polypropylene plastic in sheet form for use in manufacturing, carbon fibers not for textile use, plastic laminate sheets for use in the manufacture of countertops, rubber sheets and plastic sheets for construction and general use

70.

Diffusion plate used in direct-type backlight module

      
Numéro d'application 11182095
Numéro de brevet 07391571
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2005-07-15
Date de la première publication 2007-01-18
Date d'octroi 2008-06-24
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lee, Mao-Song
  • Shih, Hsi-Hsin
  • Tsai, Shen-Yin
  • Chang, Tien-Chieh
  • Kuo, Chin-Lung
  • Lin, Jun-Hong
  • Cheng, Shih-Kai

Abrégé

The present invention relates to a diffusion plate used in a direct-type backlight module and a method for making the same. At least one of the surfaces of the diffusion plate has a microstructure constituted by repeated undulation that can refract and diffuse the incident light beams that enter the diffusion plate. Therefore, the paths of the light beams after entering the diffusion plate are changed, which raises the luminance of the backlight module.

Classes IPC  ?

  • G02B 5/02 - DiffuseursÉléments afocaux
  • G02B 27/10 - Systèmes divisant ou combinant des faisceaux
  • F21S 4/00 - Dispositifs ou systèmes d'éclairage utilisant une guirlande ou une bande de sources lumineuses
  • F21V 13/00 - Production de caractéristiques ou d'une distribution particulières de la lumière émise au moyen d'une combinaison d'éléments spécifiés dans plusieurs des groupes principaux
  • F21V 5/00 - Réfracteurs pour sources lumineuses
  • F21V 5/04 - Réfracteurs pour sources lumineuses de forme lenticulaire
  • G09F 13/04 - Enseignes, tableaux ou panneaux éclairés de derrière l'illustration

71.

KIBILAC

      
Numéro de série 78969220
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2006-09-07
Date d'enregistrement 2007-07-03
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

Acrylonitrile-styrene-acrylate terpolymer resin, acrylonitril-styrene copilyrene resin, acrylonitrile-butadiene-styrene terpolymer resin, acrylic resin, general purpose polystyrene, high impact polystyrene

72.

CHIMEI

      
Numéro de série 78965457
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2006-08-31
Date d'enregistrement 2008-12-23
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

Industrial chemicals; chemical preparations for scientific purposes; chemical reagents for non-medical purposes; chemical preparations for use in agriculture except fungicide, herbicide, insecticide and parasite dispelling agent, namely, chemical preparations for the treatment of seeds; plant growth regulating preparations; brake fluid; oil saving preparations; chemical additive for enhancing the performance of lubricating oils; fertilizers; photographic paper; photographic chemicals; graphite in raw or semi-finished form for use in manufacture; paper pulp for manufacturing purposes; unprocessed artificial resins for industry; synthetic resins for use in the manufacture of chemical raw materials, namely, acrylonitrile styrene copolymer (AS) resin, acrylonitrile-butadiene styrene copolymer (ABS) resin, acrylic resin, general purpose polystyrene, high impact polystyrene, all for use in further manufacturing; unprocessed plastics; adhesives for industrial purposes; fire extinguishing compositions; unprocessed plastic materials in powder

73.

CHIMEI

      
Numéro de série 78965477
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2006-08-31
Date d'enregistrement 2008-12-30
Propriétaire Chi Mei Corporation (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 17 - Produits en caoutchouc ou en matières plastiques; matières à calfeutrer et à isoler

Produits et services

Electrical insulating paper; electrical insulating paper for electric equipment; packing materials of rubber and plastics for forming seals; insulating adhesive tapes for industrial or commercial packing use; mica; mica powder for use in the manufacture of electronic instruments; heat insulating boards; soundproofing materials for buildings, namely, sound-proof boards and fire-proof and sound-proof boards; rubber; injecting plastic for use in manufacture; plastic powder; plastic granule; synthetic rubbers; plastic fibers for use in the manufacture of tire cord; plastic laminate foil with or without a metal layer for application to a substrate for semiconductor element; adhesive-coated plastic sheets; non-metal pipe connectors and pipe caps; rubber oil seal; plastic oil seal; clutch linings; rubber O-rings; rubber oil protective rings; insulating oil for transformers; insulators for electric wires and cables; sealants for buildings; gap sealers for pavement joints; insulating gloves; fiberglass insulation for buildings; glass fiber insulation for use in construction

74.

CHILIN

      
Numéro de série 78417421
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2004-05-12
Date d'enregistrement 2006-10-03
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 09 - Appareils et instruments scientifiques et électriques

Produits et services

Liquid crystal displays; color filters for use in computer displays and other electronic devices/ instruments, and parts and fittings thereof; computers; computer peripherals; notebook computers; telephones; mobile telephones; television sets; facsimile machines; photocopying machines; photographic projectors; thin film transistor liquid crystal displays TFTLCD; color filters; integrated circuit cards for TFTLCD; liquid crystal on silicon; monitors; electric wires; electric cables; DVD players; media players; computer touch screens; video and computer display monitors equipped with touch screens; electrical and electronic controllers and analog-to-digital converters for touch screens; and electronic signature capture touch pads for use with computer touch screens

75.

CHILIN

      
Numéro d'application 003801982
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2004-04-29
Date d'enregistrement 2009-04-14
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

Thermoplastic polycarbonate resins; blends of synthetic polymers with acrylonitrile butadiene styrene polymers in powder and granular form; chemical raw materials; acrylonitrile styrene copolymer (AS) resin; acrylonitrile-butadiene styrene copolymer (ABS) resin; acrylic resin; general purpose polystyrene; high impact polystyrene; all for use for further manufacturing.

76.

WONDERLOY

      
Numéro de série 76087367
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2000-07-11
Date d'enregistrement 2003-10-21
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

blends of synthetic plastic polymers with acrylonitrile butadiene styrene polymers in powder or granular form

77.

WONDERLITE

      
Numéro de série 76087369
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2000-07-11
Date d'enregistrement 2003-08-19
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 17 - Produits en caoutchouc ou en matières plastiques; matières à calfeutrer et à isoler

Produits et services

Blends of synthetic plastic polymers with acrylonitrile butadiene styrene polymers in pellet form for use in manufacturing

78.

CM

      
Numéro de série 75205406
Statut Enregistrée
Date de dépôt 1996-11-27
Date d'enregistrement 1998-06-23
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

chemical raw materials, namely, acrylonitrile styrene copolymer (AS) resin, acrylonitrile-butadiene styrene copolymer (ABS) resin, acrylic resin, general purpose polystyrene, high impact polystyrene, all for use in further manufacturing

79.

POLYLAC

      
Numéro de série 74104990
Statut Enregistrée
Date de dépôt 1990-10-10
Date d'enregistrement 1992-10-27
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

abs (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer) resin sold in bulk to commercial and industrial customers

80.

POLYLAC

      
Numéro d'application 066708500
Statut Enregistrée
Date de dépôt 1990-09-25
Date d'enregistrement 1991-12-20
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

(1) ABS resin.

81.

CM

      
Numéro d'application 066710900
Statut Enregistrée
Date de dépôt 1990-09-25
Date d'enregistrement 1992-01-24
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

(1) AS resin, ABS resin, acrylic resin, general purpose polystyrene resin, high impact polystyrene resin.

82.

ACRYREX

      
Numéro d'application 066709000
Statut Enregistrée
Date de dépôt 1990-09-25
Date d'enregistrement 1991-12-27
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

(1) Acrylic resin.

83.

KIBISAN

      
Numéro d'application 066818700
Statut Enregistrée
Date de dépôt 1990-09-25
Date d'enregistrement 1992-10-23
Propriétaire CHI MEI CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

(1) AS acrylonitrile-styrene resin.