Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.

Japon

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Type PI
        Brevet 8
        Marque 3
Juridiction
        International 9
        États-Unis 2
Date
2021 2
2020 1
Avant 2020 8
Classe IPC
A61P 43/00 - Médicaments pour des utilisations spécifiques, non prévus dans les groupes 3
A61K 31/728 - Acide hyaluronique 2
A61K 8/73 - Polysaccharides 2
A61P 17/16 - Émollients ou protecteurs, p. ex. contre les radiations 2
C07C 211/54 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons du squelette carboné ayant des groupes amino liés à deux ou trois cycles aromatiques à six chaînons 2
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Statut
En Instance 1
Enregistré / En vigueur 10

1.

NOVEL COMPOUND, AND COMPOSITION FOR FORMING HOLE TRANSPORTING LAYER FOR PEROVSKITE SOLAR CELLS

      
Numéro d'application 17258399
Statut En instance
Date de dépôt 2019-08-01
Date de la première publication 2021-10-14
Propriétaire TOKYO CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nishimura, Hidetaka
  • Okada, Iku
  • Tanabe, Taro
  • Wakamiya, Atsushi

Abrégé

Provided are: a composition for forming a hole transporting layer for perovskite solar cells, which is inexpensive and does not need to be used together with a dopant; and a compound which can be contained in a composition for forming a hole transporting layer. A compound represented by general formula (I) (wherein Ar represents an aryl group; A represents a structure represented by formula (II); Z's independently represent a hydrogen atom, a structure represented by general formula (III), or a structure represented by formula (IV), and maybe the same as or different from each other, wherein a case where each of Z's is a hydrogen atom is excluded; Y's independently represents at least one member selected from the group mentioned below; R1 and R2 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, or R1 and R2 may together form a ring having one or two oxygen atoms; ×'s independently represent an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, a monoalkylamino group or a dialkylamino group each of which may be substituted by a halogen atom; k represents 0 or 1; l represents 2 or 3; m represents an integer of 1 to 6; and r represents 1 or 2; wherein, when k is 0, 1 is 3, m is 1 and all of three bonds of A are bonded to Z. Provided are: a composition for forming a hole transporting layer for perovskite solar cells, which is inexpensive and does not need to be used together with a dopant; and a compound which can be contained in a composition for forming a hole transporting layer. A compound represented by general formula (I) (wherein Ar represents an aryl group; A represents a structure represented by formula (II); Z's independently represent a hydrogen atom, a structure represented by general formula (III), or a structure represented by formula (IV), and maybe the same as or different from each other, wherein a case where each of Z's is a hydrogen atom is excluded; Y's independently represents at least one member selected from the group mentioned below; R1 and R2 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, or R1 and R2 may together form a ring having one or two oxygen atoms; ×'s independently represent an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, a monoalkylamino group or a dialkylamino group each of which may be substituted by a halogen atom; k represents 0 or 1; l represents 2 or 3; m represents an integer of 1 to 6; and r represents 1 or 2; wherein, when k is 0, 1 is 3, m is 1 and all of three bonds of A are bonded to Z.

Classes IPC  ?

  • H01G 9/20 - Dispositifs photosensibles
  • C07C 217/92 - Composés contenant des groupes amino et hydroxy éthérifiés liés au même squelette carboné ayant des groupes amino et des groupes hydroxy éthérifiés liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons du même squelette carboné ayant des groupes amino et des groupes hydroxy éthérifiés liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons non condensés du même cycle aromatique à six chaînons non condensé l'atome d'azote d'au moins un des groupes amino étant lié de plus à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons
  • C07D 209/86 - CarbazolesCarbazoles hydrogénés avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du système cyclique
  • C07C 211/54 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons du squelette carboné ayant des groupes amino liés à deux ou trois cycles aromatiques à six chaînons
  • H01L 51/42 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement
  • H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
  • C07C 223/06 - Composés contenant des groupes amino et —CHO liés au même squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons du squelette carboné
  • C07C 323/36 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné ayant au moins un des atomes d'azote lié à un atome de carbone du même cycle aromatique à six chaînons non condensé le groupe thio étant un groupe sulfure l'atome de soufre du groupe sulfure étant lié de plus à un atome de carbone acyclique
  • C07C 25/28 - Styrènes halogénés
  • C07D 333/26 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à cinq chaînons comportant un atome de soufre comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles non substitués sur l'atome de soufre du cycle avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du cycle
  • C07D 333/22 - Radicaux substitués par des hétéro-atomes liés par une liaison double ou par deux hétéro-atomes, autres que des halogènes, liés au même atome de carbone par des liaisons simples
  • C07D 495/04 - Systèmes condensés en ortho
  • C07D 519/00 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs systèmes de plusieurs hétérocycles déterminants condensés entre eux ou condensés avec un système carbocyclique commun non prévus dans les groupes ou
  • C07C 25/18 - Hydrocarbures halogénés aromatiques polycycliques
  • C07F 9/40 - Leurs esters

2.

SULFATED HYALURONIC ACID

      
Numéro d'application JP2020030349
Numéro de publication 2021/025147
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-08-07
Date de publication 2021-02-11
Propriétaire
  • TOKYO CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. (Japon)
  • SOKA UNIVERSITY (Japon)
  • NATIONAL INSTITUTES FOR QUANTUM AND RADIOLOGICAL SCIENCE AND TECHNOLOGY (Japon)
Inventeur(s)
  • Miura Taichi
  • Nakayama Fumiaki
  • Takahashi Keiko
  • Kawano Mitsuko
  • Matsuzaki Yuji
  • Yuasa Noriyuki
  • Habu Masato
  • Iwaki Jun
  • Nishihara Shoko

Abrégé

The purpose of the present invention is to provide a novel use of sulfated hyaluronic acid. The present invention provides a composition for a subject who has been exposed to radiation or who is at a risk of being exposed to radiation, the composition being for reducing and/or preventing one or more adverse effects associated with the exposure to radiation. The composition is characterized by including a sulfated hyaluronic acid. The present invention also provides a composition that contains as an active ingredient a fibroblast growth factor for use at an affected site where bleeding needs to be arrested, and that further contains a sulfated hyaluronic acid to protect the fibroblast growth factor.

Classes IPC  ?

  • A61K 45/00 - Préparations médicinales contenant des ingrédients actifs non prévus dans les groupes
  • A61P 39/02 - Antidotes
  • A61P 43/00 - Médicaments pour des utilisations spécifiques, non prévus dans les groupes
  • A61K 38/18 - Facteurs de croissanceRégulateurs de croissance
  • A61K 31/728 - Acide hyaluronique

3.

NOVEL COMPOUND, AND COMPOSITION FOR FORMING HOLE TRANSPORTING LAYER FOR PEROVSKITE SOLAR CELLS

      
Numéro d'application JP2019030162
Numéro de publication 2020/036069
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2019-08-01
Date de publication 2020-02-20
Propriétaire TOKYO CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nishimura Hidetaka
  • Okada Iku
  • Tanabe Taro
  • Wakamiya Atsushi

Abrégé

Provided are: a composition for forming a hole transporting layer for perovskite solar cells, which is inexpensive and does not need to be used together with a dopant; and a compound which can be contained in a composition for forming a hole transporting layer. A compound represented by general formula (I) (wherein Ar represents an aryl group; A represents a structure represented by formula (II); Z's independently represent a hydrogen atom, a structure represented by general formula (III), or a structure represented by formula (IV), and may be the same as or different from each other, wherein a case where each of Z's is a hydrogen atom is excluded; Y's independently represents at least one member selected from the group mentioned below; R1and R2independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, or R1and R2 may together form a ring having one or two oxygen atoms; X's independently represent an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, a monoalkylamino group or a dialkylamino group each of which may be substituted by a halogen atom; k represents 0 or 1; l represents 2 or 3; m represents an integer of 1 to 6; and r represents 1 or 2; wherein, when k is 0, l is 3, m is 1 and all of three bonds of A are bonded to Z.) AA and

Classes IPC  ?

  • C07C 211/54 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons du squelette carboné ayant des groupes amino liés à deux ou trois cycles aromatiques à six chaînons
  • C07C 217/84 - Composés contenant des groupes amino et hydroxy éthérifiés liés au même squelette carboné ayant des groupes amino et des groupes hydroxy éthérifiés liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons du même squelette carboné ayant des groupes amino et des groupes hydroxy éthérifiés liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons non condensés du même cycle aromatique à six chaînons non condensé l'atome d'oxygène d'au moins un des groupes hydroxy éthérifiés étant lié de plus à un atome de carbone acyclique
  • C07C 323/25 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant les atomes de soufre des groupes thio liés à des atomes de carbone acycliques du squelette carboné le squelette carboné étant acyclique et saturé
  • C07D 333/20 - Radicaux substitués par des hétéro-atomes, autres que les halogènes, liés par des liaisons simples par des atomes d'azote
  • C07D 333/36 - Atomes d'azote
  • C07D 495/04 - Systèmes condensés en ortho
  • H01L 51/44 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement - Détails des dispositifs
  • H01L 51/46 - Emploi de matériaux spécifiés

4.

SUBSTRATE FOR CELL CULTURE AND CULTURE METHOD

      
Numéro d'application JP2019006806
Numéro de publication 2019/163948
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2019-02-22
Date de publication 2019-08-29
Propriétaire
  • SOKA UNIVERSITY (Japon)
  • TOKYO CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Nishihara,shoko
  • Miura,taichi
  • Matsuzaki,yuji
  • Yuasa,noriyuki
  • Habu,masato

Abrégé

The purpose of the present invention is to provide a cell culture method for hPSC that is suitable for industrial cell production and a substrate for cell culture. For example, the purpose of the present invention is to provide a culture method, whereby hPSC can be cultured and proliferated while maintaining the undifferentiated state or while maintaining the pluripotency without using supporting cells (feeder cells) impeding large-scaled cell production, and a culture substrate. Provided is a method for culturing pluripotent stem cells while maintaining the undifferentiated state, said method comprising a step for culturing cells in a medium containing sulfated hyaluronic acid but containing neither supporting cells nor bFGF, characterized in that the sulfated hyaluronic acid has a degree of sulfation of 7% or greater in terms of S content. Also provided is a substrate for cell culture that is coated with sulfated hyaluronic acid having a degree of sulfation of 7% or greater in terms of S content.

Classes IPC  ?

  • C12M 3/00 - Appareillage pour la culture de tissus, de cellules humaines, animales ou végétales, ou de virus
  • C12N 5/0735 - Cellules souches embryonnairesCellules germinales embryonnaires
  • C12N 5/0775 - Cellules souches mésenchymateusesCellules souches dérivées du tissu adipeux
  • C12N 5/10 - Cellules modifiées par l'introduction de matériel génétique étranger, p. ex. cellules transformées par des virus
  • C12N 5/16 - Cellules animales
  • C12N 15/06 - Cellules animales
  • C12P 21/08 - Anticorps monoclonaux

5.

Moving Your Chemistry Forward

      
Numéro d'application 1364332
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2017-06-20
Date d'enregistrement 2017-06-20
Propriétaire Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. (Japon)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

Chemicals.

6.

ENDO-M VARIANT, AND METHOD FOR PREPARING N-LINKED SUGAR CHAIN-CONTAINING COMPOUND OR N-LINKED SUGAR CHAIN-CONTAINING PROTEIN

      
Numéro d'application JP2016055926
Numéro de publication 2016/136984
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2016-02-26
Date de publication 2016-09-01
Propriétaire TOKYO CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Yamamoto, Kenji
  • Katoh, Toshihiko

Abrégé

An embodiment of the present invention provides: an endo-M variant having an amino acid sequence in which the amino acid residue at position 251 of the amino acid sequence represented by SEQ ID NO: 1 is asparagines or alanine, and having an activity for catalyzing a hydrolysis reaction represented by the following reaction formula (1) (X is a group derived from carbohydrates, and Y is a monovalent substituent); or an endo-M variant having an amino acid sequence in which the amino acid residue at position 251 of the amino acid sequence represented by SEQ ID NO: 1 is asparagines or alanine, having a modified amino acid sequence having at least 80% homology to the amino acid sequence via deletion, addition or substitution of one or a plurality of amino acid residues other than the amino acid residue at position 251 of the amino acid sequence represented by SEQ ID. NO: 1, and having an activity for catalyzing the hydrolysis reaction represented by the following reaction formula (1).

Classes IPC  ?

  • C12N 9/42 - Hydrolases (3.) agissant sur les composés glycosyliques (3.2) agissant sur les liaisons bêta-glucosidiques-1, 4, p. ex. cellulase
  • C12P 19/14 - Préparation de composés contenant des radicaux saccharide préparés par action d'une carbohydrase, p. ex. par action de l'alpha-amylase
  • C12P 19/28 - N-glucosides
  • C12P 21/00 - Préparation de peptides ou de protéines
  • C12N 15/09 - Technologie d'ADN recombinant

7.

PRODUCTION METHOD FOR GLYCOPEPTIDE OR GLYCOPROTEIN

      
Numéro d'application JP2015082170
Numéro de publication 2016/076440
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2015-11-16
Date de publication 2016-05-19
Propriétaire TOKYO CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Yamamoto, Kenji
  • Matsuzaki, Yuji
  • Habu, Masato
  • Iwaki, Jun
  • Yuasa, Noriyuki
  • Kumada, Jyunichi
  • Ishihara, Mikio
  • Nishikawa, Yoshihide

Abrégé

An embodiment of the present invention provides a production method for producing glycopeptides or glycoproteins by reacting a sugar chain receptor with a sugar chain donor represented by general formula (1) (wherein X1 to X6 are sugar-derived groups or H, and Z1 is H or GlcNAc) in the presence of a mutant endo-β-N-acetylglucosaminidase (endoenzyme variant) that has an amino acid sequence in which the amino acid residue 175 of the amino acid sequence represented by SEQ ID NO: 1 is glutamine or alanine, or that has an amino acid sequence in which the amino acid residue 175 of the amino acid sequence represented by SEQ ID NO: 1 is glutamine or alanine and has an amino acid sequence that has been modified by deleting, adding or substituting one or a plurality of amino acid residues other than amino acid residue 175 of the amino acid sequence represented by SEQ ID NO: 1 so as to be at least 80% homologous with the aforementioned amino acid sequence.

Classes IPC  ?

  • C12P 21/02 - Préparation de peptides ou de protéines comportant une séquence connue de plusieurs amino-acides, p. ex. glutathion
  • C07K 1/13 - Marquage de peptides
  • C12P 21/08 - Anticorps monoclonaux

8.

TCI

      
Numéro de série 86684041
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2015-07-06
Date d'enregistrement 2016-02-09
Propriétaire TOKYO CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. (Japon)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

Reagents for research purposes, and chemical analyses in laboratories other than for medical and veterinary purposes

9.

NOVEL INHIBITOR

      
Numéro d'application JP2007000865
Numéro de publication 2008/020495
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2007-08-10
Date de publication 2008-02-21
Propriétaire TOKYO CEMICAL INDUSTRY CO., LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kakehi, Kazuaki
  • Matsuno, Yuki
  • Matsuzaki, Yuji
  • Kumada, Junichi
  • Hanyu, Masato

Abrégé

A novel hyaluronidase inhibitor can be provided by using dermatan sulfate or a pharmacologically acceptable salt thereof, preferably dermatan sulfate or a pharmacologically acceptable salt thereof having a weight average molecular weight of 10,000 to 50,000 as an active ingredient of a mammalian hyaluronidase inhibitor. The hyaluronidase inhibitor can overcome a problem that hyaluronic acid (which is conventionally used in a pharmaceutical or cosmetic product) is degraded by hyaluronidase to lose its desirable effect.

Classes IPC  ?

  • C08B 37/08 - ChitineSulfate de chondroïtineAcide hyaluroniqueLeurs dérivés
  • A61K 8/73 - Polysaccharides
  • A61K 31/737 - Polysaccharides sulfatés, p. ex. sulfate de chondroïtine, sulfate de dermatane
  • A61P 17/00 - Médicaments pour le traitement des troubles dermatologiques
  • A61P 17/16 - Émollients ou protecteurs, p. ex. contre les radiations
  • A61P 43/00 - Médicaments pour des utilisations spécifiques, non prévus dans les groupes
  • A61Q 19/00 - Préparations pour les soins de la peau

10.

NOVEL COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF

      
Numéro d'application JP2006324800
Numéro de publication 2007/069621
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2006-12-13
Date de publication 2007-06-21
Propriétaire TOKYO CEMICAL INDUSTRY CO., LTD. (Japon)
Inventeur(s)
  • Kakehi, Kazuaki
  • Matsuno, Yuki
  • Matsuzaki, Yuji
  • Kumada, Junichi

Abrégé

Disclosed are: a hyaluronic acid composition which is purified by, in a purification process, subjecting a biological tissue to a treatment with a protease and a molecular weight fractionation and concentrating or lyophilizing the resulting product without performing a treatment with a quaternary ammonium salt or an organic solvent (e.g., an alcohol); a hyaluronic acid composition having a resistance against the activity of a mammalian hyaluronidase; an inhibitor of the decomposition of a glucosaminoglycan comprising the composition as an active ingredient; and a pharmaceutical, food or cosmetic comprising the composition as an active ingredient.

Classes IPC  ?

  • C08B 37/08 - ChitineSulfate de chondroïtineAcide hyaluroniqueLeurs dérivés
  • A23L 1/305 - Aminoacides, peptides ou protéines 
  • A61K 8/73 - Polysaccharides
  • A61K 31/728 - Acide hyaluronique
  • A61P 17/02 - Médicaments pour le traitement des troubles dermatologiques pour traiter les blessures, les ulcères, les brûlures, les cicatrices, les cheloïdes, ou similaires
  • A61P 17/16 - Émollients ou protecteurs, p. ex. contre les radiations
  • A61P 19/00 - Médicaments pour le traitement des troubles du squelette
  • A61P 27/02 - Agents ophtalmiques
  • A61P 43/00 - Médicaments pour des utilisations spécifiques, non prévus dans les groupes

11.

TCI

      
Numéro d'application 801681
Statut Enregistrée
Date de dépôt 2003-04-11
Date d'enregistrement 2003-04-11
Propriétaire TOKYO CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. (Japon)
Classes de Nice  ? 01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture

Produits et services

Chemicals.