- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/037 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polyamides ou des polyimides
Détention brevets de la classe G03F 7/037
Brevets de cette classe: 377
Historique des publications depuis 10 ans
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2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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FUJIFILM Corporation | 29273 |
113 |
Toray Industries, Inc. | 6918 |
91 |
LG Chem, Ltd. | 17581 |
15 |
Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | 2644 |
14 |
Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | 1492 |
12 |
Kaneka Corporation | 4496 |
10 |
Toyobo Co., Ltd. | 2481 |
10 |
FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 329 |
8 |
Hitachi Chemical Company, Ltd. | 2357 |
7 |
Samsung SDI Co., Ltd. | 8112 |
6 |
Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 213 |
6 |
HD MicroSystems, Ltd. | 52 |
6 |
Resonac Corporation | 2729 |
6 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5615 |
5 |
Mitsui Chemicals, Inc. | 3214 |
5 |
Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd. | 64 |
5 |
JSR Corporation | 2516 |
4 |
Dongjin Semichem Co., Ltd. | 481 |
4 |
Microcosm Technology Co., Ltd. | 28 |
3 |
Zeon Corporation | 4076 |
3 |
Autres propriétaires | 44 |