- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/035 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polyuréthanes
Détention brevets de la classe G03F 7/035
Brevets de cette classe: 109
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Covestro Deutschland AG | 2776 |
25 |
| FUJIFILM Corporation | 29714 |
17 |
| LG Chem, Ltd. | 17674 |
8 |
| Kaneka Corporation | 4605 |
7 |
| Bayer MaterialScience AG | 774 |
6 |
| Eastman Kodak Company | 2829 |
5 |
| Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 210 |
4 |
| Bayer Intellectual Property GmbH | 2475 |
3 |
| Taiyo Holdings Co., Ltd. | 290 |
3 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1550 |
3 |
| Korea Advanced Institute of Science and Technology | 4425 |
2 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1703 |
2 |
| Toyobo Co., Ltd. | 2464 |
2 |
| MacDermid Graphics Solutions, LLC | 118 |
2 |
| Evonik Operations GmbH | 4183 |
2 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 430 |
2 |
| BASF SE | 21053 |
1 |
| Merck Patent GmbH | 5770 |
1 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 8811 |
1 |
| Cheil Industries Inc. | 846 |
1 |
| Autres propriétaires | 12 |