- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/033 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p. ex. polymères vinyliques
Détention brevets de la classe G03F 7/033
Brevets de cette classe: 977
Historique des publications depuis 10 ans
66
|
77
|
87
|
83
|
101
|
78
|
80
|
65
|
51
|
25
|
2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
---|---|---|
FUJIFILM Corporation | 29228 |
249 |
Samsung SDI Co., Ltd. | 8048 |
49 |
Hitachi Chemical Company, Ltd. | 2358 |
39 |
Resonac Corporation | 2680 |
38 |
LG Chem, Ltd. | 17561 |
37 |
Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | 2636 |
34 |
Eastman Kodak Company | 2923 |
26 |
Toray Industries, Inc. | 6891 |
22 |
JSR Corporation | 2508 |
19 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 144143 |
17 |
Showa Denko Materials Co., Ltd. | 624 |
16 |
Merck Patent GmbH | 5850 |
15 |
DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1300 |
15 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 40613 |
14 |
Samsung Display Co., Ltd. | 34230 |
12 |
Kolon Industries, Inc. | 1628 |
12 |
Sumitomo Chemical Company, Limited | 9009 |
11 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1538 |
11 |
Asahi Kasei E-materials Corporation | 204 |
10 |
Toyobo Co., Ltd. | 2482 |
9 |
Autres propriétaires | 322 |