- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/021 - Composés de diazonium macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
Détention brevets de la classe G03F 7/021
Brevets de cette classe: 33
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 29305 |
4 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 40912 |
3 |
| LG Chem, Ltd. | 17598 |
1 |
| Industrial Technology Research Institute | 5085 |
1 |
| Eastman Kodak Company | 2910 |
1 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 8174 |
1 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9040 |
1 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5634 |
1 |
| Brewer Science Inc. | 236 |
1 |
| DIC Corporation | 3782 |
1 |
| Dongjin Semichem Co., Ltd. | 486 |
1 |
| Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 2562 |
1 |
| Illumina, Inc. | 3338 |
1 |
| Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences | 233 |
1 |
| Kiian S.p.A. | 3 |
1 |
| Korea Institute of Machinery & Materials | 746 |
1 |
| Mercene Labs AB | 11 |
1 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3460 |
1 |
| Murakami Co., Ltd. | 12 |
1 |
| Promerus, LLC | 141 |
1 |
| Autres propriétaires | 8 |