- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25B - Procédés électrolytiques ou électrophorétiques pour la production de composés organiques ou minéraux, ou de non-métauxappareillages à cet effet
- C25B 13/02 - DiaphragmesÉléments d'espacement caractérisés par la configuration ou la forme
Détention brevets de la classe C25B 13/02
Brevets de cette classe: 740
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | 2806 |
40 |
| Reinz-Dichtungs-GmbH | 282 |
31 |
| LG Chem, Ltd. | 17883 |
20 |
| Agfa-Gevaert | 296 |
19 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 33812 |
16 |
| Toshiba Corporation | 12687 |
14 |
| Toray Industries, Inc. | 7067 |
13 |
| Twelve Benefit Corporation | 157 |
13 |
| de Nora Permelec Ltd | 162 |
12 |
| Uop LLC | 4330 |
11 |
| Tokuyama Corporation | 1464 |
11 |
| Samsung Electro-mechanics Co., Ltd. | 5944 |
10 |
| NGK Insulators, Ltd. | 5223 |
10 |
| Agc, Inc. | 5383 |
10 |
| Johnson Matthey Hydrogen Technologies Limited | 136 |
10 |
| Hysata Pty Ltd | 40 |
10 |
| FUJIFILM Corporation | 30327 |
9 |
| Kyocera Corporation | 14278 |
9 |
| Robert Bosch GmbH | 43788 |
8 |
| Kabushiki Kaisha Toshiba, doing business as Toshiba Corporation | 6200 |
8 |
| Autres propriétaires | 456 |