- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C10M - Compositions lubrifiantesutilisation de substances chimiques soit seules soit comme ingrédients lubrifiants dans une composition lubrifiante
- C10M 105/54 - Compositions lubrifiantes caractérisées en ce que le matériau de base est un composé organique non macromoléculaire contenant des halogènes contenant du carbone, de l'hydrogène, des halogènes et de l'oxygène
Détention brevets de la classe C10M 105/54
Brevets de cette classe: 129
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Resonac Corporation | 2951 |
27 |
| Showa Denko K.K. | 2190 |
22 |
| Moresco Corporation | 168 |
16 |
| Western Digital Technologies, Inc. | 1758 |
6 |
| E. I. du Pont de Nemours and Company | 3952 |
5 |
| Mexichem Fluor, Sociedad Anonima de Capital Variable | 204 |
5 |
| NOK Kluber Co., Ltd. | 49 |
5 |
| Dexerials Corporation | 1948 |
4 |
| WD Media (Singapore) Pte. Ltd. | 28 |
4 |
| FUJIFILM Corporation | 29728 |
3 |
| President and Fellows of Harvard College | 6014 |
3 |
| JPMorgan Chase Bank, National Association | 8614 |
3 |
| Solvay Specialty Polymers Italy S.p.A. | 747 |
3 |
| Total Marketing Services | 453 |
3 |
| Seagate Technology LLC | 3973 |
2 |
| Minebea Mitsumi Inc. | 1785 |
2 |
| 3m Innovative Properties Company | 17749 |
1 |
| Fujitsu Limited | 17689 |
1 |
| Fuji Electric Co., Ltd. | 5232 |
1 |
| Asahi Glass Company, Limited | 2745 |
1 |
| Autres propriétaires | 12 |