- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 28/06 - Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par une liaison au soufre ou par un hétérocycle contenant du soufre par un hétérocycle contenant du soufre
Détention brevets de la classe C08F 28/06
Brevets de cette classe: 84
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1528 |
9 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9005 |
6 |
| Zeon Corporation | 4063 |
6 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 143021 |
3 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5571 |
3 |
| University of Pittsburgh - Of the Commonwealth System of Higher Education | 3109 |
3 |
| The University of Tokyo | 4123 |
3 |
| Kirin Holdings Company, Limited | 226 |
3 |
| Ambilight Inc. | 28 |
3 |
| Reva Medical, LLC | 20 |
3 |
| LG Chem, Ltd. | 17519 |
2 |
| International Business Machines Corporation | 60753 |
2 |
| University of Florida Research Foundation, Inc. | 3962 |
2 |
| Phillips 66 Company | 1058 |
2 |
| Rieke Metals, LLC | 9 |
2 |
| Sirrus, Inc. | 48 |
2 |
| Xerox Corporation | 7041 |
1 |
| Fujitsu Limited | 18332 |
1 |
| Hitachi Chemical Company, Ltd. | 2367 |
1 |
| FUJIFILM Corporation | 29151 |
1 |
| Autres propriétaires | 26 |