- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 220/32 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des radicaux époxyde
Détention brevets de la classe C08F 220/32
Brevets de cette classe: 484
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 29713 |
20 |
| LG Chem, Ltd. | 17680 |
18 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1704 |
11 |
| BASF SE | 21036 |
8 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5715 |
8 |
| Resonac Corporation | 2926 |
8 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9092 |
7 |
| Showa Denko K.K. | 2193 |
7 |
| PPG Industries Ohio, Inc. | 3435 |
7 |
| Nissan Chemical Corporation | 2079 |
7 |
| Canon Inc. | 40623 |
6 |
| 3m Innovative Properties Company | 17762 |
5 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 35545 |
5 |
| Dow Global Technologies LLC | 10459 |
5 |
| Hydro-Quebec | 653 |
5 |
| Canon Medical Systems Corporation | 2309 |
5 |
| Fine-blend Polymer (Shanghai) Co., Ltd | 12 |
5 |
| Murata Manufacturing Co., Ltd. | 24843 |
4 |
| LG Innotek Co., Ltd. | 7846 |
4 |
| Wisconsin Alumni Research Foundation | 3885 |
4 |
| Autres propriétaires | 335 |