- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 220/12 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques
Détention brevets de la classe C08F 220/12
Brevets de cette classe: 400
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 29273 |
29 |
| Zeon Corporation | 4076 |
16 |
| JSR Corporation | 2516 |
15 |
| Denka Company Limited | 2545 |
11 |
| BASF SE | 20874 |
10 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1537 |
9 |
| 3m Innovative Properties Company | 17853 |
7 |
| Xerox Corporation | 7027 |
6 |
| Rohm and Haas Company | 2916 |
6 |
| Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | 630 |
6 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5615 |
5 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4488 |
5 |
| Arkema Inc. | 1059 |
5 |
| Coatex S.A.S. | 226 |
5 |
| JX Nippon Oil & Energy Corporation | 999 |
5 |
| Sekisui Chemical Co., Ltd. | 3381 |
5 |
| Evonik Operations GmbH | 4073 |
5 |
| LG Chem, Ltd. | 17581 |
4 |
| Nitto Denko Corporation | 8206 |
4 |
| Alcon, Inc. | 5408 |
4 |
| Autres propriétaires | 238 |