- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 20/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
Détention brevets de la classe C08F 20/18
Brevets de cette classe: 510
Historique des publications depuis 10 ans
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6
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| LG Chem, Ltd. | 17846 |
41 |
| FUJIFILM Corporation | 30294 |
20 |
| Zeon Corporation | 4121 |
14 |
| BASF SE | 21150 |
12 |
| Arkema France | 4188 |
9 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4677 |
8 |
| Alcon, Inc. | 5719 |
8 |
| Cheil Industries Inc. | 820 |
7 |
| DIC Corporation | 3920 |
7 |
| Kuraray Co., Ltd. | 3572 |
7 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9055 |
6 |
| JSR Corporation | 2522 |
6 |
| Nippon Shokubai Co., Ltd. | 1524 |
6 |
| 3m Innovative Properties Company | 17507 |
5 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 9976 |
5 |
| SWIMC, LLC | 2565 |
5 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 154406 |
4 |
| Philip Morris USA Inc. | 669 |
4 |
| Rohm and Haas Company | 2945 |
4 |
| Dow Global Technologies LLC | 10812 |
4 |
| Autres propriétaires | 328 |