- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 20/16 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone
Détention brevets de la classe C08F 20/16
Brevets de cette classe: 39
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Synthomer Adhesive Technologies LLC | 115 |
6 |
| FUJIFILM Corporation | 30155 |
3 |
| JSR Corporation | 2559 |
3 |
| 3m Innovative Properties Company | 17565 |
2 |
| LG Chem, Ltd. | 17786 |
2 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 33248 |
2 |
| Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | 1462 |
2 |
| Canon Inc. | 42051 |
1 |
| Evonik Industries AG | 223 |
1 |
| Ricoh Company, Ltd. | 13310 |
1 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5899 |
1 |
| Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | 873 |
1 |
| Agency for Science, Technology and Research | 3681 |
1 |
| The Arizona Board of Regents on Behalf of the University of Arizona | 2249 |
1 |
| Denka Company Limited | 2685 |
1 |
| DIC Corporation | 3900 |
1 |
| Kawasaki Kasei Chemicals Ltd. | 30 |
1 |
| Kyoeisha Chemical Co., Ltd. | 84 |
1 |
| Shofu, Inc. | 205 |
1 |
| Toagosei Co., Ltd. | 987 |
1 |
| Autres propriétaires | 6 |