- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 20/02 - Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carboneLeurs dérivés
Détention brevets de la classe C08F 20/02
Brevets de cette classe: 79
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Nippon Shokubai Co., Ltd. | 1526 |
9 |
| FUJIFILM Corporation | 30155 |
7 |
| BASF SE | 21135 |
3 |
| LG Chem, Ltd. | 17786 |
3 |
| Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | 1060 |
3 |
| Cytec Technology Corp. | 267 |
2 |
| Maruzen Petrochemical Co., Ltd. | 185 |
2 |
| Mitsubishi Chemical UK Limited | 90 |
2 |
| Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | 1185 |
1 |
| 3m Innovative Properties Company | 17565 |
1 |
| Ricoh Company, Ltd. | 13310 |
1 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 33248 |
1 |
| Massachusetts Institute of Technology | 10201 |
1 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9052 |
1 |
| Kao Corporation | 5023 |
1 |
| Futurewei Technologies, Inc. | 3768 |
1 |
| Omron Corporation | 7336 |
1 |
| Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | 873 |
1 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4684 |
1 |
| Battelle Memorial Institute | 2545 |
1 |
| Autres propriétaires | 36 |