- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C07D - Composés hétérocycliques
- C07D 333/08 - Atomes d'hydrogène ou radicaux contenant uniquement des atomes d'hydrogène et de carbone
Détention brevets de la classe C07D 333/08
Brevets de cette classe: 94
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| LG Chem, Ltd. | 17950 |
8 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 8968 |
4 |
| Corteva Agriscience LLC | 2644 |
4 |
| Merck Patent GmbH | 5735 |
3 |
| FUJIFILM Corporation | 30594 |
3 |
| Canon Inc. | 44051 |
2 |
| Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 4257 |
2 |
| Cytokinetics, Inc. | 251 |
2 |
| Osaka University | 3263 |
2 |
| Piramal Enterprises Limited | 151 |
2 |
| Riken | 1719 |
2 |
| Soochow University | 1787 |
2 |
| Nevada Research & Innovation Corporation | 41 |
2 |
| Syngenta Limited | 425 |
1 |
| Konica Minolta, Inc. | 9150 |
1 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6120 |
1 |
| Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 8471 |
1 |
| Tsinghua University | 6233 |
1 |
| University of South Florida | 1903 |
1 |
| Arkema France | 4251 |
1 |
| Autres propriétaires | 49 |