- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C07D - Composés hétérocycliques
- C07D 303/27 - Éthers avec des composés hydroxyles ne contenant pas de cycles oxirane avec des composés polyhydroxylés comportant tous les radicaux hydroxyle éthérifiés par des composés contenant des cycles oxirane
Détention brevets de la classe C07D 303/27
Brevets de cette classe: 49
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4492 |
6 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9018 |
5 |
| DIC Corporation | 3759 |
5 |
| Showa Denko K.K. | 2269 |
3 |
| Nikon Corporation | 7164 |
2 |
| Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 4166 |
2 |
| Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | 918 |
2 |
| Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences | 232 |
2 |
| SHPP Global Technologies B.V. | 1078 |
2 |
| BASF SE | 20803 |
1 |
| Centre National de La Recherche Scientifique | 10350 |
1 |
| FUJIFILM Corporation | 29251 |
1 |
| Nitto Denko Corporation | 8196 |
1 |
| Asahi Glass Company, Limited | 2807 |
1 |
| National Institute of Advanced Industrial Science and Technology | 3788 |
1 |
| Institut Polytechnique de Bordeaux | 397 |
1 |
| JNC Corporation | 1549 |
1 |
| KH Neochem Co., Ltd. | 63 |
1 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3443 |
1 |
| Nagase Chemtex Corporation | 204 |
1 |
| Autres propriétaires | 9 |