- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C07D - Composés hétérocycliques
- C07D 235/16 - Radicaux substitués par des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile
Détention brevets de la classe C07D 235/16
Brevets de cette classe: 186
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Cephalon LLC | 121 |
8 |
| Cephalon, Inc. | 102 |
5 |
| Purdue Pharmaceutical Products L.P. | 22 |
5 |
| Drexel University | 999 |
4 |
| Gilead Sciences, Inc. | 2242 |
4 |
| Jiangsu Hengrui Medicine Co., Ltd. | 685 |
4 |
| Kinki University | 252 |
4 |
| Nippon Chemiphar Co., Ltd. | 225 |
4 |
| Rutgers, The State University of New Jersey | 1985 |
4 |
| Terns Pharmaceuticals, Inc. | 86 |
4 |
| Abbvie Inc. | 1799 |
3 |
| Mayo Foundation for Medical Education and Research | 3398 |
3 |
| Canopy Growth Corporation | 211 |
3 |
| Fresenius Kabi Oncology Limited | 70 |
3 |
| Shanghai Hengrui Pharmaceutical Co., Ltd. | 718 |
3 |
| University of Massachusetts | 2329 |
3 |
| LG Chem, Ltd. | 17956 |
2 |
| FUJIFILM Corporation | 30628 |
2 |
| President and Fellows of Harvard College | 6110 |
2 |
| The Board of Trustees of the University of Illinois | 2753 |
2 |
| Autres propriétaires | 114 |