- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C07D - Composés hétérocycliques
- C07D 213/54 - Radicaux substitués par des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile
Détention brevets de la classe C07D 213/54
Brevets de cette classe: 59
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Fortephest Ltd. | 9 |
4 |
| Abbvie Inc. | 1803 |
3 |
| Shenzhen Chipscreen Biosciences Ltd. | 26 |
3 |
| Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. | 868 |
3 |
| Toyama Chemical Co., Ltd. | 103 |
3 |
| VALO Health, Inc. | 172 |
3 |
| The Regents of the University of California | 19839 |
2 |
| Genentech, Inc. | 3968 |
2 |
| Bayer Pharma AG | 1061 |
2 |
| Epizyme, Inc. | 370 |
2 |
| Nippon Shinyaku Co., Ltd. | 329 |
2 |
| Calico Life Sciences LLC | 96 |
2 |
| Glaxo Group Limited | 4131 |
1 |
| Bristol-myers Squibb Company | 4875 |
1 |
| Boehringer Ingelheim International GmbH | 4698 |
1 |
| Syngenta Crop Protection AG | 6036 |
1 |
| Syngenta Limited | 457 |
1 |
| DSM IP Assets B.V. | 5603 |
1 |
| CHDI Foundation, Inc. | 108 |
1 |
| DAC S.r.l. | 11 |
1 |
| Autres propriétaires | 20 |