- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C01G - Composés contenant des métaux non couverts par les sous-classes ou
- C01G 19/02 - Oxydes
Détention brevets de la classe C01G 19/02
Brevets de cette classe: 273
Historique des publications depuis 10 ans
|
23
|
16
|
24
|
27
|
21
|
17
|
11
|
19
|
11
|
4
|
| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Mitsubishi Materials Corporation | 2438 |
17 |
| HHeLi, LLC | 69 |
13 |
| Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | 1478 |
10 |
| National Institute of Advanced Industrial Science and Technology | 3799 |
5 |
| FUJIFILM Corporation | 29329 |
4 |
| Korea Advanced Institute of Science and Technology | 4368 |
4 |
| Cornell University | 3301 |
4 |
| JX Nippon Mining & Metals Corporation | 1489 |
4 |
| Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd. | 131 |
4 |
| SICPA Holding SA | 910 |
4 |
| Soochow University | 1735 |
4 |
| Centre National de La Recherche Scientifique | 10418 |
3 |
| Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | 11388 |
3 |
| Commissariat à l'énergie atomique et aux energies alternatives | 10928 |
3 |
| Essilor International (compagnie Generale D'optique) | 3001 |
3 |
| FPInnovations | 244 |
3 |
| Korea Research Institute of Chemical Technology | 1386 |
3 |
| University of Houston System | 1081 |
3 |
| Sol-gel Materials & Applications Ltd | 9 |
3 |
| LG Chem, Ltd. | 17615 |
2 |
| Autres propriétaires | 174 |