- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C01G - Composés contenant des métaux non couverts par les sous-classes ou
- C01G 19/00 - Composés de l'étain
Détention brevets de la classe C01G 19/00
Brevets de cette classe: 379
Historique des publications depuis 10 ans
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9
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| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Mitsubishi Materials Corporation | 2421 |
18 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3421 |
12 |
| Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | 11350 |
10 |
| Kyodo Printing Co., Ltd. | 150 |
10 |
| Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd. | 131 |
9 |
| Nikon Corporation | 7157 |
8 |
| E. I. du Pont de Nemours and Company | 4131 |
7 |
| Tohoku University | 2748 |
7 |
| Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | 1448 |
6 |
| Nanoco Technologies Ltd. | 143 |
6 |
| LG Chem, Ltd. | 17538 |
5 |
| Toyota Motor Corporation | 31311 |
5 |
| FUJIFILM Corporation | 29188 |
5 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5586 |
5 |
| NGK Insulators, Ltd. | 4900 |
5 |
| Murata Manufacturing Co., Ltd. | 24260 |
4 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 8998 |
4 |
| Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 4140 |
4 |
| Dowa Electronics Materials Co., Ltd. | 632 |
4 |
| Kyoto University | 2785 |
4 |
| Autres propriétaires | 241 |