Molecular Imprints, Inc.

États‑Unis d’Amérique

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Canada - CIPO
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Classe IPC
B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures 2
G02B 5/18 - Grilles de diffraction 2
G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet 2
B29C 43/02 - Moulage par pressage, c.-à-d. en appliquant une pression externe pour faire couler la matière à moulerAppareils à cet effet pour la fabrication d'objets de longueur définie, c.-à-d. d'objets séparés 1
B29C 59/00 - Façonnage de surface, p. ex. gaufrageAppareils à cet effet 1
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Résultats pour  brevets

1.

MULTI-WAVEGUIDE LIGHT FIELD DISPLAY

      
Numéro de document 03044808
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-09-15
Date de disponibilité au public 2018-06-07
Date d'octroi 2024-10-15
Propriétaire MOLECULAR IMPRINTS, INC. (USA)
Inventeur(s)
  • Xu, Frank Y.
  • Miller, Michael Nevin
  • Luo, Kang
  • Singh, Vikramjit
  • Klug, Michael

Abrégé

A multi-waveguide optical structure, including multiple waveguides stacked to intercept light passing sequentially through each waveguide, each waveguide associated with a differing color and a differing depth of plane, each waveguide including: a first adhesive layer, a substrate having a first index of refraction, and a patterned layer positioned such that the first adhesive layer is between the patterned layer and the substrate, the first adhesive layer providing adhesion between the patterned layer and the substrate, the patterned layer having a second index of refraction less than the first index of refraction, the patterned layer defining a diffraction grating, wherein a field of view associated with the waveguide is based on the first and the second indices of refraction.

Classes IPC  ?

  • G02B 6/036 - Fibres optiques avec revêtement le noyau ou le revêtement comprenant des couches multiples
  • G02B 6/10 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques
  • G02B 6/24 - Couplage de guides de lumière
  • G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques

2.

CONFIGURING OPTICAL LAYERS IN IMPRINT LITHOGRAPHY PROCESSES

      
Numéro de document 03045096
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-09-14
Date de disponibilité au public 2018-06-07
Date d'octroi 2023-04-25
Propriétaire MOLECULAR IMPRINTS, INC. (USA)
Inventeur(s)
  • Singh, Vikramjit
  • Miller, Michael Nevin
  • Xu, Frank Y.

Abrégé

An imprint lithography method of configuring an optical layer includes imprinting first features of a first order of magnitude in size on a side of a substrate with a patterning template, while imprinting second features of a second order of magnitude in size on the side of the substrate with the patterning template, the second features being sized and arranged to define a gap between the substrate and an adjacent surface.

Classes IPC  ?

  • B29C 59/16 - Façonnage de surface, p. ex. gaufrageAppareils à cet effet par énergie ondulatoire ou rayonnement corpusculaire
  • B81C 1/00 - Fabrication ou traitement de dispositifs ou de systèmes dans ou sur un substrat
  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures
  • G02B 1/11 - Revêtements antiréfléchissants
  • G02B 1/12 - Revêtements optiques obtenus par application sur les éléments optiques ou par traitement de la surface de ceux-ci par traitement de la surface, p. ex. par irradiation
  • G02B 5/18 - Grilles de diffraction
  • H01L 21/00 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives

3.

SUBSTRATE LOADING SYSTEM

      
Numéro de document 03041069
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-09-27
Date de disponibilité au public 2018-05-11
Date d'octroi 2025-04-22
Propriétaire MOLECULAR IMPRINTS, INC. (USA)
Inventeur(s)
  • Patterson, Roy
  • Ahamed, Yaseer A.

Abrégé

Methods, systems, and apparatus for a substrate transfer method, including positioning a tray handler device in a first position with i) cutouts of an aperture of the first tray in superimposition with respective pedestals of a pedestal platform and ii) a distal end of the pedestals extending away from a top surface of the first tray; increasing a distance between the top surface of the first tray and a top surface of the pedestal platform to transfer a first substrate from the pedestals to the tabs defined by the aperture of the first tray, while concurrently engaging the second tray handler with the second tray; and increasing a distance between the top surface of the second tray and the bottom surface of a chuck to transfer a second substrate from the chuck to the tabs defined by the second tray.

Classes IPC  ?

  • B29C 43/02 - Moulage par pressage, c.-à-d. en appliquant une pression externe pour faire couler la matière à moulerAppareils à cet effet pour la fabrication d'objets de longueur définie, c.-à-d. d'objets séparés
  • B29C 59/00 - Façonnage de surface, p. ex. gaufrageAppareils à cet effet
  • B29C 59/02 - Façonnage de surface, p. ex. gaufrageAppareils à cet effet par des moyens mécaniques, p. ex. par pressage
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
  • H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
  • H01L 21/68 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le positionnement, l'orientation ou l'alignement

4.

EDGE SEALANT CONFINEMENT AND HALO REDUCTION FOR OPTICAL DEVICES

      
Numéro de document 03034619
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2017-08-24
Date de disponibilité au public 2018-03-01
Date d'octroi 2024-04-09
Propriétaire MOLECULAR IMPRINTS, INC. (USA)
Inventeur(s)
  • Miller, Mike Nevin
  • Xu, Frank Y.
  • Singh, Vikramjit
  • Browy, Eric C.
  • Schaefer, Jason
  • Tekolste, Robert D.
  • Liu, Victor Kai
  • Bhargava, Samarth
  • Schmulen, Jeffrey Dean
  • Schowengerdt, Brian T.

Abrégé

Techniques are described for using confinement structures and/or pattern gratings to reduce or prevent the wicking of sealant polymer (e.g., glue) into the optically active areas of a multi-layered optical assembly. A multi-layered optical structure may include multiple layers of substrate imprinted with waveguide grating patterns. The multiple layers may be secured using an edge adhesive, such as a resin, epoxy, glue, and so forth. A confinement structure such as an edge pattern may be imprinted along the edge of each layer to control and confine the capillary flow of the edge adhesive and prevent the edge adhesive from wicking into the functional waveguide grating patterns of the layers. Moreover, the edge adhesive may be carbon doped or otherwise blackened to reduce the reflection of light off the edge back into the interior of the layer, thus improving the optical function of the assembly.

Classes IPC  ?

  • B82Y 40/00 - Fabrication ou traitement des nanostructures
  • G02B 5/18 - Grilles de diffraction
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet