A method of controlling a substrate etching process includes disposing a surface or a surface of a substrate adjacent to etching fluid to produce an etchant-substrate interface and placing an electromagnetic radiation emitter on a moveable positioner. The method includes focusing electromagnetic radiation from the electromagnetic radiation emitter to a portion of the etchant-substrate interface. The portion of the etchant-substrate interface has a surface area of not less than 0.05 squared micrometers and not greater than 80 squared millimeters. The method includes selectively heating the portion of the etchant-substrate interface and transmitting a monitoring beam through the substrate. The method includes measuring a property of the substrate via the monitoring beam.
G01N 23/06 - Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement [ondes ou particules], p. ex. rayons X ou neutrons, non couvertes par les groupes , ou en transmettant la radiation à travers le matériau et mesurant l'absorption
C03C 15/00 - Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique
C04B 41/53 - Post-traitement des mortiers, du béton, de la pierre artificielle ou des céramiquesTraitement de la pierre naturelle impliquant l'enlèvement d'une partie des matières de l'objet traité
C04B 41/91 - Post-traitement des mortiers, du béton, de la pierre artificielle ou des céramiquesTraitement de la pierre naturelle de céramiques uniquement impliquant l'enlèvement d'une partie des matières des objets traités, p. ex. par attaque chimique
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
2.
THERMALLY GUIDED CHEMICAL ETCHING OF A SUBSTRATE AND REAL-TIME MONITORING THEREOF
A method of controlling a substrate etching process includes disposing a bottom surface or a top surface of a substrate adjacent to volume of etching fluid to produce an etchant-substrate interface and heating the etchant-substrate interface via spatially controlled electromagnetic radiation. The method also includes transmitting a monitoring beam through the substrate, the substrate and volume of etching fluid being at least partially transparent at the wavelength range of the monitoring beam and measuring a property of the substrate surface during the substrate etching process via the monitoring beam to produce a real-time measured property for the substrate. A corresponding etching system and computer-program product is also disclosed herein.
G01N 23/06 - Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement [ondes ou particules], p. ex. rayons X ou neutrons, non couvertes par les groupes , ou en transmettant la radiation à travers le matériau et mesurant l'absorption
C03C 15/00 - Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique
C04B 41/91 - Post-traitement des mortiers, du béton, de la pierre artificielle ou des céramiquesTraitement de la pierre naturelle de céramiques uniquement impliquant l'enlèvement d'une partie des matières des objets traités, p. ex. par attaque chimique
C04B 41/53 - Post-traitement des mortiers, du béton, de la pierre artificielle ou des céramiquesTraitement de la pierre naturelle impliquant l'enlèvement d'une partie des matières de l'objet traité
3.
Optical elements having gradient optical properties
A method for creating gradient optical properties within a substrate is disclosed herein. More specifically, the present invention teaches a method whereby a material disposed on a substrate is patterned in three dimensions such that the thickness and diffusivity properties of the material can be used to regulate the diffusion of ions into the substrate. An example is given in which ions, injected into a substrate through an ion exchange process, alter the refractive index within the substrate in a pre-selected fashion to form a gradient refractive index lens.
G02B 1/12 - Revêtements optiques obtenus par application sur les éléments optiques ou par traitement de la surface de ceux-ci par traitement de la surface, p. ex. par irradiation
C03B 23/22 - Réunion de lentilles de verre, p. ex. pour la fabrication de lentilles bifocales
4.
Thermally guided chemical etching of a substrate and real-time monitoring thereof
A method of controlling a substrate etching process includes disposing a bottom surface or a top surface of a substrate adjacent to volume of etching fluid to produce an etchant-substrate interface and heating the etchant-substrate interface via spatially controlled electromagnetic radiation. The method also includes transmitting a monitoring beam through the substrate, the substrate and volume of etching fluid being at least partially transparent at the wavelength range of the monitoring beam and measuring a property of the substrate surface during the substrate etching process via the monitoring beam to produce a real-time measured property for the substrate. A corresponding etching system and computer-program product is also disclosed herein.
G01N 23/06 - Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement [ondes ou particules], p. ex. rayons X ou neutrons, non couvertes par les groupes , ou en transmettant la radiation à travers le matériau et mesurant l'absorption
C03C 15/00 - Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique
C04B 41/91 - Post-traitement des mortiers, du béton, de la pierre artificielle ou des céramiquesTraitement de la pierre naturelle de céramiques uniquement impliquant l'enlèvement d'une partie des matières des objets traités, p. ex. par attaque chimique
C04B 41/53 - Post-traitement des mortiers, du béton, de la pierre artificielle ou des céramiquesTraitement de la pierre naturelle impliquant l'enlèvement d'une partie des matières de l'objet traité
brevets